张世良
- 作品数：7 被引量：5H指数：1
- 供职机构：中国科学院兰州物理研究所更多>>
- 相关领域：电子电信金属学及工艺航空宇航科学技术一般工业技术更多>>
- 离子镀膜用长寿命阴极电子枪被引量：3
- 1991年
- 以硼化物为热电子发射体.在热阴极自持弧光放电状态工作的低电压大电流空心明极电子枪,在离子镀膜设备中用以熔化蒸发并电离膜材料。着重简述枪工作原理,对枪结构主要尺寸,气、电工作参数进行了设计.估算了枪效率。枪的结构简单,放电功率5～8kW.工作350h 后性能稳定。
- 张世良胡永年
- 关键词：镀膜电子枪负极
- LSA—1型电弧离子镀膜机
- 1989年
- 研制成功立式结构电弧镀膜机。机中有四个电弧源;真空系统采用油扩散泵、罗蒸泵、机械泵抽气。结果表明:为了减少微粒的产生,阴极直径应当尽可能大;为了使源稳定,必须装置限弧器;磁场对电孤等离子体实现了加速运动,不仅减少了熔滴,同时提高了膜层与基体的结合力。还进行了一系列有关的实验。
- 洪惠荫胡永年张世良孙玉珠任妮瞿晓明
- 关键词：离子镀膜
- 电弧源喷射微粒及膜沉积率空间分布被引量：1
- 1989年
- 测量了冷阴极电弧源镀膜时膜沉积率及源喷出的微粒空间分布。为了获得最大沉积率及减少膜层中微粒,给出了工件最佳工作位置选择。
- 张世良陈鹏洪惠荫胡永年孙玉珠任妮翟晓明
- 关键词：离子镀膜
- 压力对电弧源喷射微粒密度及膜沉积率的影响
- 1990年
- 在2.7Pa 至2.7×10^(-2)Pa 氮压力范围,测量了不同压力下电弧源喷射的微粒密度及薄膜沉积速率的变化。随压力升高,微粒密度及膜沉积速率下降。利用 AES 和 SIMS 对不同压力下形成的 TiN 膜及工作后的阴极表面进行了深度剖面分析。最后对实验结果进行了讨论。
- 张世良陈鹏胡永年洪惠荫任妮孙玉珠
- 关键词：真空镀膜沉积速率
- 电弧源喷射微粒及膜沉积率空间分布
- 张世良陈鹏洪惠荫
- 关键词：电弧喷涂阴极沉积离子镀镀膜
- 电弧源喷射微粒及膜沉积率与弧电流关系
- 1989年
- 利用冷阴极电弧源镀膜时,源喷射微粒其直径从亚微米至十几微米,随弧流增加,微粒密度、膜沉积率及大直径微粒均上升。本文给出了上述试验结果及按直径分布微粒密度图。给出了阴极工作表面平均温度计算公式,计算了灼坑(CRATER)半径与弧流关系,为合理选择源工作参数,进行源设计提供了依据。
- 张世良陈鹏洪惠荫胡永年任妮孙玉珠翟晓明
- 关键词：场致电子发射氮化铁冷阴极
- 8cm汞离子推进器样机用小孔空心阴极设计被引量：1
- 1991年
- 对小孔空心阴极内部放电物理过程作了描述。根据8cm 汞离子推进器与阴极相关的设计参数,计算了阴极内部压强、粒子密度、初始电子能量平均交换自由程等参量,因而设计出阴极发射体、阴极顶小孔等主要尺寸。复核了阴极发射电流。对阴极热平衡、加热器工作参量作了计算,并与实验结果进行了比较。根据阴极在推进器中工作方式,对阴极结构设计进行了描述,包括材料选择和等离子体喷涂工艺制造。给出了长期阴极热模拟实验结果。
- 张世良胡永年
- 关键词：离子发动机空心阴极
