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邵飞

作品数：4 被引量：4H指数：1
供职机构：贵州大学大数据与信息工程学院更多>>
发文基金：贵州省优秀科技教育人才省长资金项目国家自然科学基金贵州省科技攻关计划更多>>
相关领域：理学电子电信一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇溅射
  • 3篇光学
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇圆偏振
  • 2篇偏振
  • 2篇椭圆偏振
  • 2篇金属
  • 2篇金属锰
  • 2篇光谱
  • 2篇光学性
  • 2篇光学性质
  • 1篇形貌特征
  • 1篇圆偏振光
  • 1篇射频溅射
  • 1篇偏振光
  • 1篇偏振光谱
  • 1篇椭偏光谱
  • 1篇椭圆偏振光
  • 1篇椭圆偏振光谱

机构

  • 4篇贵州大学

作者

  • 4篇邵飞
  • 4篇张晋敏
  • 4篇谢泉
  • 3篇唐华杰
  • 2篇金浩

传媒

  • 1篇电子科技
  • 1篇物理学报
  • 1篇红外与毫米波...
  • 1篇材料导报

年份

  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
功率对制备β-FeSi_2薄膜的影响
2015年
利用磁控溅射方法,溅射室背底真空优于2.0×10^-5Pa,采用不同的功率在Si（100）（电阻率为7~13Ωcm）衬底上沉积一层铁薄膜（150-330nm）,然后在900℃,15h背底真空条件下（4×10^-4Pa）退火,形成了β-FeSi2。采用扫描电子显微镜（SEM）对其表面形貌结构进行表征,并采用X射线衍射仪（XRD）对其进行了晶体的结构分析,当溅射功率为70~100W时,主要衍射峰来自β-FeSi2,但同时在2θ=45°处有较大的FeSi峰,在2θ=38°附近出现较大的Fe5Si3峰。研究结果表明,制备β-FeSi2薄膜的最佳溅射功率为110W,在900℃退火15h。
胡维前张晋敏邵飞卢顺顺贺晓金谢泉
关键词：磁控溅射晶体结构形貌特征
溅射Ar流量对Mn膜光学常数的影响被引量：1
2014年
采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪,在能量2.0～4.0 eV范围内测量了磁控溅射法制备的金属Mn膜的光学常数,分析了氩气流量对Mn膜光学性质的影响.结果表明,在低能区,随Ar流量的增加,薄膜的所有光学常数均有不同程度的降低;而在高能区,流量对光学常数的影响不明显.薄膜复介电常数、折射率n随流量增大不断减小,在流量为15 mL/min后变化不明显;而消光系数k在流量为15～20 mL/min没有明显变化,在流量达到25 mL/min后消光系数显著减小.
邵飞张晋敏唐华杰胡维前谢泉卢顺顺贺晓金
关键词：磁控溅射光学常数
溅射功率对金属锰膜光学性质的影响被引量：2
2013年
采用磁控溅射方法在Si(111)基片上制备金属锰膜,用椭圆偏振光谱在入射光子能量为2.0—4.0 eV范围内研究了溅射功率对薄膜光学性质的影响.利用德鲁得-洛伦兹色散模型对椭偏数据进行拟合,结果表明在测量范围内随溅射功率增加薄膜的折射率减小;消光系数随入射光子能量增加先增加后减小,在3.0 eV附近处出现极大值,并且极大值所处的位置随溅射功率增加而向低能方向移动,这主要与溅射沉积的锰薄膜的质量有关,且随溅射功率的增加薄膜的消光系数逐渐趋近于金属锰的数值.研究结果还表明溅射功率的增加减少了薄膜中的空隙,有利于薄膜的生长.
唐华杰张晋敏金浩邵飞胡维前谢泉
关键词：磁控溅射椭圆偏振光谱
椭圆偏振研究溅射气压对锰膜光学性质的影响被引量：1
2015年
采用射频磁控溅射技术在Si(111)基片上制备金属锰膜,用椭圆偏振光谱在2.0~4.0 e V光子能量范围内研究了溅射压强对锰膜光学性质的影响.分别用德鲁得-洛伦兹模型以及有效介质模型对椭偏参数进行拟合,结果表明随压强增大薄膜致密度先增大后减少;折射率随压强增大先减少后增大;而消光系数随压强的变化与光子能量有关,在低能量区变化复杂,高能量区随压强增加与折射率规律一致.分析表明上述变化与薄膜的致密度密切相关.
唐华杰张晋敏金浩邵飞胡维前谢泉
关键词：射频溅射溅射气压椭偏光谱
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