薛催岭
- 作品数：3 被引量：8H指数：2
- 供职机构：浙江工业大学理学院应用物理系更多>>
- 发文基金：浙江省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学更多>>
- 不同环境气压下激光沉积制备锗纳米薄膜的研究被引量：2
- 2008年
- 采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在不同环境压强下于室温Si衬底上沉积制备出了Ge纳米薄膜。用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了环境压强对薄膜的微观结构、形貌以及膜厚的影响规律。结果表明:所制备的纳米薄膜中Ge均为晶态;随着环境压强的增大,薄膜表面由常规的量子点镶嵌结构演变为类网状结构;膜厚随着环境压强的增大而减小。
- 程成薛催岭宋仁国
- 关键词：锗
- 不同环境气压下激光沉积制备锗纳米薄膜的研究
- 采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在不同环境压强下于室温Si衬底上沉积制备出了Ge纳米薄膜.用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了环境压强对薄膜的微观结构、形貌以及膜厚的影响规律.结果表明:所制备的纳米薄...
- 程成薛催岭宋仁国
- 关键词：脉冲激光沉积SI衬底X射线衍射仪微观结构
- 文献传递
- 脉冲激光沉积制备Ge纳米薄膜的研究被引量：6
- 2009年
- 利用脉冲激光沉积(PLD)技术,在Ar环境下于Si基片上制备出Ge纳米薄膜。用X射线衍射(XRD)仪和原子力显微镜(AFM)观测了薄膜的微观结构和形貌,分析了它们随激光能量密度和衬底温度的变化情况。结果表明:Ge薄膜在室温下即可以结晶,其平均晶粒尺寸随脉冲激光能量密度的增大而增大。当脉冲激光能量密度为0.94 J/cm2时,所制备的薄膜由约13 nm的颗粒组成;当脉冲激光能量密度增大为1.31 J/cm2时,颗粒的平均尺寸增大为56 nm,且薄膜表面变得比较均匀。此外,当衬底温度从室温升到450℃过程中,晶粒平均尺寸随温度升高而增大。在实验基础上,对薄膜的生长机理进行了分析。
- 程成薛催岭宋仁国
- 关键词：脉冲激光沉积微观结构
