王志
- 作品数:5 被引量:2H指数:1
- 供职机构:清华大学理学院应用超导研究中心更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
- 相关领域:一般工业技术电气工程理学更多>>
- CeO2缓冲层表面形貌随磁控溅射参数的演化及其对YBCO层的影响
- 本文采用射频磁控溅射方法在单晶YSZ上沉积高温超导涂层导体CeO2缓冲层,通过原子力显微镜(AFM)对薄膜表面形貌进行表征,发现其随沉积参数(溅射气压,射频功率)出现明显的演化规律,缓冲层表面可呈现平整结构、纳米颗粒结构...
- 张燕怡冯峰黄荣厦卢会平肖绍铸吴蔚史锴王志韩征和
- 金属基底上IBAD-YSZ缓冲层的生长机理
- 2008年
- 用离子束辅助沉积(IBAD)方法,变换辅助离子束的能量和束流密度,在Hastelloy基底上制备了钇稳定氧化锆(YSZ)薄膜,作为涂层导体的缓冲层。XRD的结果显示:在一定的离子能量和束流密度的范围内,能够制备出高质量双轴织构的(001)取向的YSZ缓冲层,随着辅助离子束能量和束流密度的增大,IBAD-YSZ的面外取向和面内织构都出现先变好又变坏的现象。文中用辅助离子束对薄膜破坏程度的各向异性对结果做了解释。
- 王志史锴冯峰陈欢韩征和
- 关键词:离子束辅助沉积
- 金属基底上IBAD-YSZ缓冲层的生长机理
- 用离子束辅助沉积(IBAD)方法,变换辅助离子束的能量和束流密度,在Hastelloy基底上制备了钇稳定氧化锫(YSZ)薄膜,作为涂层导体的缓冲层。XRD的结果显示:在一定的离子能量和柬流密度的范围内,能够制备出高质量双...
- 王志史锴冯峰陈欢韩征和
- 关键词:离子束辅助沉积涂层导体缓冲层
- 文献传递