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朱丹峰

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院上海应用物理研究所更多>>
相关领域：核科学技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇核科学技术

主题

  • 2篇离子注入
  • 1篇时序控制

机构

  • 2篇中国科学院上...
  • 1篇复旦大学

作者

  • 2篇朱丹峰
  • 1篇杜光天
  • 1篇邹亚明
  • 1篇郭盘林
  • 1篇朱希恺
  • 1篇朱周侠
  • 1篇傅云清
  • 1篇胡伟

传媒

  • 1篇核技术

年份

  • 2篇2008
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验
2008年
为给上海电子束离子阱（Electron Beam Ion Traps，EBIT）装置提供低电荷离子，我们研制了小型金属蒸汽真空弧（Metal Vapor Vacuum Arc，MEVVA）离子源，可产生多种金属以及半导体材料的低电荷离子。本文介绍小型MEVVA离子源的特性及其在上海EBIT装置上的离子注入实验。实验结果显示，合理控制注入参数可以使注入并被束缚在EBIT中的离子数密度达到10^8～10^9／cm^3。
朱丹峰杜光天郭盘林朱周侠朱希恺傅云清胡伟邹亚明
关键词：离子注入
上海EBIT离子注入引出系统的调试及改进
EBIT装置，即电子束离子阱(electron beam ion trop)，是近年来国际上新发展的一种离子束实验装置，可以产生几乎静止的高电荷态离子。它是研究原子物理、等离子体物理等学科的一种新的重要工具，对基础学科研...
朱丹峰
关键词：时序控制离子注入
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共1页<1>
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