张恒大
- 作品数：15 被引量：68H指数：5
- 供职机构：北京科技大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术电子电信更多>>
- 直流等离子体法中脱膜开裂的金刚石膜组织结构分析被引量：4
- 2003年
- 为了解决用直流等离子体喷射法制备金刚石膜在脱膜过程中膜体开裂的问题,本文对3组脱膜开裂的金刚石膜组织结构进行了分析,发现由热应力作用产生的裂纹形貌随沉积温度的不同而呈现网状、河流状和环状,裂纹尖端的膜体具有最小的Raman谱峰半高宽值。在所研究的温度范围内,膜体断口都是穿晶断裂和沿晶断裂的混合断口,而且断口面中的占优晶面都是[111]晶面。X射线和Raman谱结果还表明沉积温度愈高,膜体中的残余应力愈大。
- 陈广超李成明张恒大杨胶溪佟玉梅唐伟忠吕反修
- 关键词：金刚石膜红外材料
- 强直电流伸展弧CVD硬质合金金刚石涂层工具被引量：2
- 2003年
- 采用自行研制的强电流直流扩展电弧设备对酸浸和渗硼预处理的YG6刀片进行了金刚石薄膜涂层沉积,并对放于不同位置的沉积刀片表面涂层的激光Raman谱和SEM形貌进行了分析、研究.结果表明:渗硼预处理工艺优于酸浸预处理工艺;在渗硼处理的GY6刀片上,沉积的金刚石薄膜涂层具有大面积、均匀性好和质量高的特点.
- 宋建华苗晋琦张恒大唐伟忠吕反修田晶泽
- 关键词：硬质合金工具CVD表面形貌
- 脉冲偏压下沉积的立方氮化硼膜的断面结构研究被引量：3
- 2002年
- 采用自行研制的磁增强活性反应离子镀系统 ,在脉冲偏压条件下成功地合成了高品质立方氮化硼 (c BN)薄膜。用傅立叶变换红外谱 (FTIR)分析沉积膜的相结构 ,用透射电镜 (TEM)及高分辨率透射电镜 (HRTEM)分析膜的断面结构。FTIR结果表明 :c BN的纯度强烈地受基片负偏压的影响 ,当基片负偏压为 15 5V ,c BN膜的纯度高达 90 %以上。TEM及HRTEM对膜的断面结构分析表明 ,在膜与基片的界面处存在很薄的非晶氮化硼和六方氮化硼 (h BN)层 ,h BN(0 0 0 2 )晶面垂直于基片表面 ,在界面层之上生长着单相c
- 田晶泽张恒大宋建华吕反修唐伟忠夏立芳
- 关键词：脉冲偏压相结构表面形貌
- CVD金刚石膜中的缺陷被引量：1
- 2002年
- 研究了利用直流电弧等离子体喷射（DC Arc Plasma Jet）的制备的大面积金刚石膜中的缺陷问题.研究表明:金刚石膜中的缺陷包括表面缺陷、晶内缺陷和晶界缺陷,以及由于内应力产生的金刚石膜宏观和微观裂纹.金刚石膜中的缺陷与制备工艺参数有着密切关系.
- 张恒大刘敬明宋建华吕反修唐伟忠
- 关键词：CVD金刚石膜化学气相沉积
- CVD金刚石膜断裂性能测试装置的研究
- 2001年
- 文章介绍了一种利用恒载荷速率加载测试金刚石膜断裂性能的试验方法 ,并建立了国内第一台金刚石膜断裂性能测试的专用装置 .该装置利用弹性压头代替传统的刚性压头 ,可以成功地解决断裂试验的缓慢加载问题 .试验装置的最大载荷为 5 0 0N ,可以在 5— 5 0 0N之间获得准确的载荷 ,误差不大于 1% .最小加载速率为 0 5N s,最大加载速率为 2 5N s.该装置采用计算机控制 ,可以直接输出试验结果 .该装置采用恒载荷速率 (0 5N s至 2N s)的加载方式测得的断裂性能比用恒位移速率 (0 5mm min和 0 0 5mm min)加载方式测得的断裂性能更低 ,更适合高脆性。
- 张恒大蒋政刘敬明宋建华唐伟忠吕反修
- 关键词：CVD金刚石膜测试装置
- 硬质合金金刚石涂层工具基体前处理有效方法探讨被引量：8
- 2002年
- 利用两种溶液浸蚀硬质合金表面 ,分别选择性刻蚀WC和Co。这不仅强粗化了硬质合金表面 ,而且 ,还能抑制Co在金刚石沉积过程中的负作用。从而 。
- 宋建华苗晋琦张恒大陈利民刘志龄唐伟忠吕反修张玉英
- 关键词：硬质合金附着力
- 硬质合金工具强电流直流伸展弧等离子体CVD金刚石涂层的均匀性研究被引量：1
- 2003年
- 采用自行研制的强电流直流伸展电弧等离子体CVD设备对真空渗硼预处理的YG6刀片进行了金刚石涂层沉积 ,并对放于有效沉积区域不同位置沉积出的金刚石涂层刀片以及刀片自身不同位置之表面涂层的形貌、厚度、质量进行了分析、研究。结果表明 :( 1)、硬质合金工具强电流直流伸展弧等离子体CVD金刚石涂层的组织、形貌、厚度、质量都是均匀一致的。 ( 2 )、利用强电流直流伸展电弧等离子体CVD设备可进行硬质合金金刚石涂层的批量沉积。
- 苗晋琦宋建华赵中琴陈利民刘志凌张恒大佟玉梅唐伟忠吕反修
- 关键词：CVD金刚石涂层均匀性硬质合金工具等离子体
- 测试因素对CVD金刚石膜断裂强度的影响被引量：2
- 2001年
- 利用三点弯曲测量CVD金刚石膜的断裂强度的方法 ,研究试样尺寸、抛光及加载方式对金刚石膜的断裂强度的影响。试样尺寸在一定范围内 ,试样大小、抛光与否对金刚石膜的断裂强度的影响不大 ;而 10mm× 2mm的试样对测量金刚石膜断裂强度具有意义。加载方式对金刚石膜的断裂强度影响较大 ,当金刚石膜形核面处于张应力时得到的断裂强度值要高于生长面处于张应力时得到的值 ,棱边加载方式得到断裂强度值处于两者之间 ,更具有代表性。
- 刘敬明蒋政张恒大唐伟忠吕反修
- 关键词：抛光加载方式CVD金刚石膜
- CVD金刚石自支撑膜中的杂质及其对性能的影响
- 张恒大
- 关键词：金刚石膜
- CVD金刚石自支撑膜的高温氧化
- 采用热重法（TGA）对直流等离子体喷射制备的金刚石膜在空气中的氧化行为进行了研究,CVD金刚石膜氧化激活能为220kJ/mol,与天然金刚石的氧化激活能相当。抛光的高质量金刚石膜经780℃保温15min后,其红外透过和可...
- 刘敬明家建华张恒大蒋政唐伟忠吕反修
- 关键词：金刚石膜热重法红外透过率
- 文献传递
