刘嘉禾
- 作品数：9 被引量：31H指数：3
- 供职机构：北京有色金属研究总院更多>>
- 相关领域：一般工业技术电子电信理学化学工程更多>>
- ZnSe基底7～14μm波段宽带增透膜
- 本文简要叙述了7~14μm波段红外增透膜的膜料选择以及硒化锌基底上高性能红外增透膜的设计和工艺研究.介绍了离子辅助沉积技术沉积该膜的的工艺过程.给出了用该方法制备的7~14μm波段宽带减反射膜的实测光谱曲线,其峰值透过率...
- 闫兰琴张树玉刘嘉禾刘伟袁果黎建明杨海苏小平余怀之
- 制备工艺条件对HfO_2薄膜结构和性能的影响被引量：8
- 2008年
- 用电子束蒸发、离子束辅助、反应磁控溅射三种方法在石英衬底上制备了氧化铪薄膜。利用掠角X射线衍射和扫描电镜分析了不同制备工艺条件下氧化铪薄膜的晶体结构和显微结构,用紫外-可见分光光度计、椭偏仪、和纳米硬度计分别测试了不同制备工艺条件下氧化铪薄膜的可见透射光谱、光学常数和硬度。结果表明薄膜的晶体结构、显微结构、光学性能和硬度等都与制备工艺有着密切的关系,电子束蒸发制备的薄膜为非晶相,而离子束辅助和反应磁控溅射制备的薄膜为多晶相,三种方法制备的氧化铪薄膜都为柱状结构,电子束蒸发和离子束辅助制备的薄膜色散严重,但反应磁控溅射制备的薄膜吸收较大,反应磁控溅射制备薄膜的硬度远大于电子束蒸发和离子束辅助制备薄膜的硬度。并分别用薄膜成核长大热力学原理和薄膜结构区域模型解释了不同工艺条件下氧化铪薄膜晶体结构和显微结构不同的原因。
- 刘伟苏小平张树玉郝鹏王宏斌刘嘉禾
- 关键词：电子束蒸发离子束辅助反应磁控溅射光学性能
- ZnS上HfON保护膜及增透膜系的制备和性能研究被引量：2
- 2009年
- 用氮氧化铪薄膜作为CVDZnS衬底的保护膜、由YbF3和ZnS组成的增透膜系分别在CVDZnS的两面制备了保护膜和增透膜,研究了镀膜前后CVDZnS在8-12μm波段的光学性能,单面镀制增透膜之后CVDZnS在此波段的平均透过率由未镀膜前的74%提高到了82%,峰值透过率大于83.5%。在CVDZnS上镀制HfON保护膜后,其8-12μm波段透过率没有明显的降低,同时硬度测试表明HfON薄膜的硬度约为11.6 GPa,远大于衬底CVDZnS的硬度。胶带实验和泡水试验表明,制备的保护膜和增透膜均和衬底有很好的附着力。
- 刘伟张树玉闫兰琴袁果刘嘉禾黎建明杨海苏小平余怀之
- 关键词：增透膜
- 硅薄膜的热丝法淀积被引量：16
- 1999年
- 系统地研究了热丝化学气相沉积技术中沉积气压、气体流量、钨丝温度、衬底温度对硅薄膜的结构、生长速率和光电性能的影响。通过优化各工艺参数。
- 罗志强吴瑞华刘莉王世昌刘嘉禾
- 关键词：热丝法非晶硅薄膜多晶硅薄膜PECVD
- 氧分压对HfOzNy薄膜结构和光学性能的影响
- 本文用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜，沉积过程在氧气、氮气和氩气的气氛中进行，衬底为多光谱ZnS,沉积温度为室温.用X射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜、傅立叶变换红外光谱仪、紫外可见分光光度计等分别研究了...
- 刘伟苏小平张树玉郝鹏王宏斌刘嘉禾阎兰琴
- 关键词：半导体薄膜磁控溅射晶体结构薄膜光学
- 文献传递
- 氧分压对HfOxNy薄膜结构和力学性能的影响
- 用射频磁控反应溅射法在不同氧分压条件下制备了氮氧化铪薄膜,薄膜沉积过程在氧气、氮气和氩气的混合气氛中进行,所用衬底为多光谱硫化锌材料.
用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米硬度计等分别研究了不同氧分压条件下HfO...
- 刘伟苏小平张树玉闫兰琴王宏斌刘嘉禾
- 关键词：射频磁控反应溅射晶体结构显微结构力学性能
- 氧分压对HfO_xN_y薄膜结构和力学性能的影响
- 2009年
- 采用射频磁控反应溅射法在不同氧分压条件下制备了氮氧化铪薄膜,薄膜沉积过程在氧气、氮气和氩气的混合气氛中进行,所用衬底为多光谱硫化锌材料。用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米硬度计等分别研究了不同氧分压条件下HfOxNy薄膜的晶体结构、显微结构、力学性能等。结果表明:在氧分压为0.05~0.30范围内,HfOxNy薄膜都为多晶结构,但随着氧分压的降低,HfOxNy薄膜的沉积速率逐渐增大,薄膜的晶体结构由单斜氧化铪转变为氮氧化铪相;不同氧分压下沉积的HfOxNy薄膜都符合薄膜区域结构模型中典型的柱状结构且氧分压较低时薄膜表面粗糙度较大;不同氧分压条件下沉积的HfOxNy薄膜硬度和弹性模量都远大于衬底硫化锌的硬度和弹性模量,氧分压为0.15时最大硬度和弹性模量值分别为11.6 GPa和160 GPa。
- 刘伟苏小平张树玉闫兰琴王宏斌刘嘉禾
- 关键词：射频磁控反应溅射晶体结构显微结构
- 氧分压对HfO_xN_y薄膜结构和光学性能的影响被引量：2
- 2007年
- 用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜。沉积过程在氧气、氮气和氩气的气氛中进行，衬底为多光谱ZnS，沉积温度为室温。用X射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜、傅里叶变换红外光谱仪、紫外-可见分光光度计等分别研究了不同氧分压下HfOxNy薄膜的晶体结构、显微结构、光学性能等。XRD分析表明随着氧分压的降低，薄膜的晶体结构由氧化铪转变为氮氧化铪相；SEM和AFM分析表明不同氧分压下沉积的薄膜都为柱状结构，氧分压较低时薄膜表面粗糙度较大；镀膜之后，在0．35～2μm范围内，薄膜的透过率变化有显著差异，在2～12μm波段，薄膜透过率和未镀膜衬底透过率相当，变化不明显。
- 刘伟苏小平张树玉郝鹏王宏斌刘嘉禾阎兰琴
- 关键词：磁控反应溅射显微结构
- ZnSe基底7～14μm波段宽带增透膜被引量：4
- 2009年
- 简要叙述了7～14μm波段红外增透膜的膜料选择以及硒化锌基底上高性能红外增透膜的设计和工艺研究。介绍了离子辅助沉积技术沉积该膜的的工艺过程。给出了用该方法制备的7—14μm波段宽带减反射膜的实测光谱曲线，其峰值透过率高达98％以上，在设计波段范围内平均透过率大于97％，膜层附着性能好，光机性能稳定。这对于红外光学系统的应用具有十分重要的意义。
- 闫兰琴张树玉黎建明杨海苏小平余怀之刘嘉禾刘伟
