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何丽静

作品数:6 被引量:10H指数:2
供职机构:扎努西电气机械天津压缩机有限公司更多>>
相关领域:理学化学工程金属学及工艺一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 3篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇溅射
  • 3篇溅射沉积
  • 3篇AL
  • 2篇电子能
  • 2篇电子能谱
  • 2篇射线衍射
  • 2篇离子束
  • 2篇离子束溅射
  • 2篇离子束溅射沉...
  • 2篇光电子能谱
  • 2篇XPS分析
  • 2篇X射线
  • 2篇X射线光电子...
  • 2篇X射线衍射
  • 2篇AFM
  • 1篇多层膜
  • 1篇形貌
  • 1篇压缩机
  • 1篇压缩机性能
  • 1篇退火

机构

  • 5篇河北工业大学
  • 2篇扎努西电气机...
  • 1篇河北省安装工...

作者

  • 6篇何丽静
  • 3篇王晓东
  • 3篇林晓娉
  • 3篇王铁宝
  • 1篇李晓惠
  • 1篇张建军
  • 1篇刘春阳
  • 1篇于浩
  • 1篇刘强安

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇河北工业大学...
  • 1篇材料热处理学...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 1篇2008
  • 2篇2007
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
冰箱压缩机活塞
本实用新型涉及一种冰箱压缩机活塞,包括圆柱形活塞本体,在圆柱形活塞本体的圆柱面上贯穿制有活塞销孔,在活塞内壁上制有活塞销孔加强台,在圆柱形活塞本体推进端的面上制有圆柱形凸台,圆柱形凸台的高度为h,其中活塞销孔加强台与活塞...
于浩裴俊亮何丽静
文献传递
离子束沉积Al_2O_3纳米薄膜微观结构及形貌研究被引量:1
2009年
采用离子束溅射方法在单晶Si(100)基片上沉积厚度为100nm的Al2O3薄膜,利用原子力显微镜、X射线光电子能谱、掠入射衍射等微观分析手段,研究了薄膜的表面形貌、粗糙度、成分,及退火后微观结构的变化。研究表明:室温沉积在基片上的纳米薄膜为非晶态,纳米颗粒为无方向性沉积,颗粒呈团球状,其成分基本满足Al2O3的标准成分配比。850℃×6h退火处理后,生成晶态的-γAl2O3,薄膜表面结晶完整,颗粒清晰可见。
林晓娉何丽静张建军王晓东王铁宝
关键词:退火
单晶Si表面离子束溅射沉积Co纳米薄膜的研究被引量:4
2007年
采用离子束溅射沉积法,在单晶Si基片上制备了不同厚度(1—100nm)的Co纳米薄膜.利用原子力显微镜、X射线光电子能谱(XPS)仪和X射线衍射仪对不同厚度的Co纳米薄膜进行了分析和研究.结果表明:当薄膜厚度为1—10nm时,沉积颗粒形态随薄膜厚度增加将由二维生长的细长胞状过渡到多个颗粒聚集成的球状.当膜厚大于10nm时,小颗粒球聚集成大颗粒球,颗粒球呈现三维生长状态.表面粗糙度随膜厚的增加呈现先增加后减小的趋势,在膜厚为3nm时出现极值.XPS全程宽扫描和窄扫描显示:薄膜表面的元素成分为Co,化学态分别为Co,CoO和Co2O3.
何丽静林晓娉王铁宝刘春阳
关键词:X射线光电子能谱X射线衍射
离子束溅射沉积Co纳米薄膜表面特征AFM、XPS分析被引量:3
2007年
采用离子束溅射沉积法,在单晶Si基片上制备了不同厚度(1 nm^100 nm)的Co纳米薄膜。利用原子力显微镜和X射线光电子能谱仪对不同厚度的Co纳米薄膜的表面进行了分析和研究。结果表明:当薄膜厚度为1 nm^10 nm时,沉积颗粒形态随着薄膜厚度的增加将由二维生长的细长胞状过渡到多个颗粒聚集成的球状;当膜厚继续增加,小颗粒球消失,集结成大颗粒球,颗粒球呈现三维生长状态;表面粗糙度随着膜厚(膜厚为1 nm^10 nm)的增大,呈现先增加后减小的趋势,在膜厚为3 nm时出现极值。通过XPS全程宽扫描和窄扫描,薄膜表面的元素成分为Co:主要以金属Co和Co氧化物的形式存在。
林晓娉何丽静李晓惠王晓东
关键词:粗糙度X射线光电子能谱
离子束溅射沉积Al_2O_3纳米薄膜AFM及XPS分析被引量:2
2011年
在单晶Si基片用离子束溅射沉积法制备了1-100 nm的Al2O3纳米薄膜.利用原子力显微镜分析和研究了不同厚度Al2O3纳米薄膜的表面形貌,并用X射线光电子能谱(XPS)仪和X射线衍射仪分别对100 nm的Al2O3纳米薄膜表面结构和成分进行了表征,结果表明:薄膜厚度在1-50 nm范围时,颗粒形态随着薄膜厚度的变化逐渐变化,由二维生长的胞状渐变为多个颗粒聚成的球状.当薄膜厚度大于50 nm时,小的球形颗粒聚成大球形颗粒,并且球形颗粒生长状态为三维生长.随着薄膜厚度的增加表面粗糙度先增加后减小,当薄膜厚为5 nm时出现最大值;在衬底温度低于100℃的条件下,沉积在基片上的纳米薄膜为非晶态,纳米颗粒为无方向性沉积,颗粒呈团球状,其成分基本满足Al2O3的标准成分配比.
王铁宝王晓东刘强安何丽静
关键词:AL2O3X射线衍射
Co、Al<,2>O<,3>纳米薄膜表面形貌与生长机制关系的研究
纳米Co/Al2O3/Co 多层膜是一种超高密度存储材料,体积小,具有隧道磁电阻效应。利用其效应可能发展出一种存储器,将引起计算机内存芯片的一场革命。 利用离子束溅射方法制备了厚度分别为1、2、3、5、10、5...
何丽静
关键词:表面形貌多层膜磁电阻效应
文献传递
共1页<1>
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