魏林
- 作品数：4 被引量：4H指数：1
- 供职机构：南开大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划天津市科技计划更多>>
- 相关领域：理学电气工程一般工业技术更多>>
- 共溅法制备锂离子电池Sn-Al/Cu复合薄膜及其电化学性能
- 2014年
- 采用磁控溅射共溅法,在铜箔和泡沫铜基底上分别制备了平面和三维网状结构的Sn-Al/Cu复合薄膜.表征了其结构,并研究了其作为锂离子电池负极材料的电化学性能.结果表明,三维网状结构的电化学性能明显优于平面复合薄膜,表现出很好的循环性能和倍率性能:以600 mA/g电流密度充放电,三维网状结构的复合薄膜有较好的容量保持率,循环50周后容量保持在410 mA·h/g;以2000 mA/g电流密度充放电,再以500 mA/g电流密度进行充放电,三维网状结构的复合薄膜仍有464 mA·h/g的放电容量.三维网状结构的Sn-Al复合薄膜能抑制充放电时带来的体积膨胀,较大的表面积和粗糙表面可以使其与锂充分反应,改善其电化学性能.
- 魏林王丽秀陶占良陈军
- 关键词：锂离子电池
- 溅射法制备锡铝复合薄膜及其嵌锂性能研究
- 随着便携电子设备的尖端化和电动汽车的逐步发展，锂离子二次电池面临高比容量、长循环寿命、高倍率性能以及安全问题的要求和挑战。目前商业化的锂离子电池多采用石墨作为负极材料，较低的比容量（LiC6,372 mAh/g）及存在的...
- 魏林
- 关键词：锂离子电池负极材料磁控溅射
- 射频磁控溅射制备MoS2薄膜及其储锂性能研究被引量：4
- 2014年
- 采用射频磁控溅射法,在Ar气-H2S混合气氛中,以MoS2靶材为原料,在泡沫铜基底上制备了MoS2薄膜。利用X射线衍射(XRD)、Raman光谱、扫描电子显微镜(SEM)、能量弥散X射线谱(EDS)等手段对样品的结构、形貌和成分进行了表征,并探讨了靶功率和基底温度对MoS2薄膜的结构及形貌的影响。结果表明,靶功率的增加可以提高薄膜结晶度,但功率过高会造成薄膜的龟裂;基底温度升高会使MoS2薄膜结晶度明显提高,且形成蠕虫状形貌。靶功率为80 W,基底温度为300℃时,可以制备得到具有较高结晶度的蠕虫状MoS2薄膜。对其进行充放电测试表明,在100 mA·g-1的电流密度下,其首次放电比容量为980 mAh·g-1,经过40周循环,容量可保持为约920 mAh·g-1,容量保持率达到93.9%。
- 王丽秀魏林陶占良陈军
- 关键词：MOS2薄膜射频磁控溅射锂离子电池
- 一种锂离子电池用锡基复合薄膜材料及其制备方法和应用
- 一种锂离子电池用锡基复合薄膜材料，由铜箔基底或泡沫铜基底和Sn-M薄膜叠加组成；Sn-M薄膜为由Sn、M两种元素组成单层结构的薄膜，其中Sn为α-Sn或β-Sn，M为Ti、Al或Zn，Sn-M薄膜厚度为0.01-10μm...
- 陶占良魏林王丽秀陈军程方益梁静李海霞
- 文献传递
