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高芳亮

作品数:3 被引量:1H指数:1
供职机构:暨南大学理工学院材料科学与工程系更多>>
相关领域:一般工业技术理学机械工程更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 3篇多孔薄膜
  • 3篇纳米
  • 3篇纳米多孔
  • 3篇纳米多孔薄膜
  • 2篇微孔
  • 2篇孔结构
  • 1篇有机高分子
  • 1篇有机高分子材...
  • 1篇微孔结构
  • 1篇小角X射线散...
  • 1篇聚倍半硅氧烷
  • 1篇硅氧烷
  • 1篇分子材料
  • 1篇高分子
  • 1篇高分子材料
  • 1篇倍半硅氧烷

机构

  • 3篇暨南大学
  • 2篇中国科学院

作者

  • 3篇高芳亮
  • 2篇李志宏
  • 2篇陈宏基
  • 2篇吴忠华
  • 1篇李生英

传媒

  • 1篇理化检验(物...
  • 1篇材料研究学报

年份

  • 1篇2012
  • 2篇2011
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜的微孔结构分析
2012年
用旋涂工艺和致孔法制备了一组聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜,用红外吸收光谱(FT-IR)、热重分析(TGA)对其进行表征,用同步辐射光源进行小角X射线散射测试,在掠入射模式(GISAXS)下进行微孔结构分析。结果表明,聚甲基硅氧烷前驱体与致孔剂具有良好的相容性;薄膜的小角散射曲线均不遵守Porod定理、形成正偏离;所有纳米多孔薄膜具备孔分形特征;薄膜基体与孔结构之间存在微电子密度起伏,且薄膜孔径小于3 nm。
高芳亮李生英陈宏基吴忠华李志宏
关键词:有机高分子材料纳米多孔薄膜孔结构
同步辐射掠入式小角X射线散射PPSQ纳米多孔薄膜微孔形态学研究
近年来,在众多低介电材料中,硅基无机-有机杂化材料得到了半导体工业的青睐,其中倍半硅氧烷(Silsesquioxane:SSQ)是能够替代CVD二氧化硅作为绝缘层的低介电常数材料之一。为了克服SEM、TEM及AFM等传统...
高芳亮
关键词:纳米多孔薄膜聚倍半硅氧烷微孔结构
文献传递
聚硅氧烷基纳米多孔薄膜双分形结构的同步辐射小角X射线散射分析
2011年
以聚硅氧烷基材料为预聚体,采用两种核壳型致孔剂,以旋涂工艺分别制备两组聚硅氧烷基纳米多孔薄膜,采用北京同步辐射装置(BSRF)光源进行了小角X射线散射测试,在掠入射模式(入射角iα=0.2°)下得到了两组不同孔隙率纳米多孔薄膜的二维散射数据,在此基础上分析了薄膜的分形特征,发现所制备的薄膜除试样A1外,均存在双分形结构,辅以场发射扫描电子显微镜(FESEM)观测,证实微孔为产生散射的主体。
高芳亮陈宏基吴忠华李志宏
关键词:纳米多孔薄膜
共1页<1>
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