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高义华

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：中国科学院物理研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇电子显微学
  • 1篇多层膜
  • 1篇铁磁
  • 1篇铁磁性
  • 1篇镍铁
  • 1篇钼
  • 1篇磁性

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇阎明朗
  • 1篇张泽
  • 1篇赖武彦
  • 1篇高义华

传媒

  • 1篇物理学报

年份

  • 1篇1998
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
NiFe/Mo多层膜界面的电子显微学研究被引量：2
1998年
用高分辨电子显微学方法研究了Ｎｉ８０Ｆｅ２０／Ｍｏ磁性多层膜，结果表明：（１）多层膜的结晶状态，随Ｍｏ非磁性层厚度而变化．当Ｍｏ层厚度为０７ｎｍ时，多层膜基本为非晶；当Ｍｏ层厚度大于１６ｎｍ时，Ｍｏ层和ＮｉＦｅ层内分别结晶为体心立方和面心立方多晶，层内晶粒尺寸为２—６ｎｍ．（２）在Ｍｏ层厚度为１．６和２．１ｎｍ的多层膜中，ＮｉＦｅ层和Ｍｏ层之间存在两种取向关系：（１１０）Ｍｏ∥（１１１）ＮｉＦｅ，［１１１］Ｍｏ∥［１１０］ＮｉＦｅ和（１１０）Ｍｏ∥（１１１）ＮｉＦｅ，［００１］Ｍｏ∥［１１０］ＮｉＦｅ．（３）ＮｉＦｅ层和Ｍｏ层之间有较清晰的界面．界面附近３—４个原子层范围内，ＮｉＦｅ和Ｍｏ的面间距分别相对块状晶体沿生长方向膨胀和压缩．讨论了界面附近面间距的变化，并根据该多层膜显微结构特征，讨论了此系统未显示巨磁电阻效应的原因．
高义华张泽阎明朗赖武彦
关键词：铁磁性多层膜电子显微学
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