陈旭南
- 作品数：175 被引量：167H指数：7
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：中国科学院知识创新工程国家重点实验室开放基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程一般工业技术更多>>
- 不刻透金属掩模板及其应用
- 不刻透金属掩模板由石英基板加上表面或下表面或上下表面图形相同的不刻透铬或金或铜或银或铝单层金属薄层图形构成，借助光照射具有微细图形结构不刻透金属掩模板产生波长很短的等离子波，等离子波能穿过不刻透单层金属掩模图形的下凹孔和...
- 陈旭南罗先刚
- 文献传递
- 纳米光刻技术的现状和未来被引量：12
- 2002年
- 纳米技术是 2 1世纪信息科学的一项关键技术 ,纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分 .纳米光刻技术是制作纳米结构的基础 ,具有重要的应用前景 .文章对光学光刻技术进行了概述 ,介绍了几种纳米光刻技术的新途径、发展现状和关键问题 。
- 陈献忠姚汉民陈旭南李展罗先刚
- 关键词：纳米光刻纳米结构制作纳米材料
- 亚微米i线投影光刻曝光系统研制
- 陈旭南姚汉民
- 关键词：微电子器件
- 加温闪光两用纳米压印装置
- 加温闪光两用纳米压印装置，由双路CCD对准系统、Z向校正器、紫光照明系统、左右侧板、油压顶系统、承片加热台、倾斜校准机构和控制系统等组成，主机大底板位于电气控制系统的机台柜上，并安装了左右侧板和后板及上面安装了横板构成框...
- 罗先刚陈旭南胡承刚
- 文献传递
- 亚半微米投影光刻物镜的研究设计被引量：3
- 2000年
- 介绍了分步重复投影光刻机亚半微米光刻物镜光学和机械结构研究设计、设计结果 ,以及公差控制。指出技术指标已达到 :数值孔径NA =0 .6 3、工作波长λ =36 5nm、倍率 5x、工作分辨力R 0 .35 μm ,设计物镜所用透镜片数最少 ,无胶合件 ,并具有暗场同轴对准和温度气压控制补偿功能。
- 陈旭南姚汉民李展林妩媚余国彬罗先刚张津
- 关键词：投影物镜集成电路
- 温度气压对高分辨力光刻物镜像质影响研究
- 2000年
- 分析温度气压对物镜光学材料、透镜厚度间隔 ,以及空气折射率的影响 ,并用空气折射率对物镜像质影响进行模拟计算。研究表明物镜焦面产生较大漂移 ,对倍率有一定影响 ,而对畸变影响较小 ,指出对物镜进行温度气压控制补偿是必要的。
- 陈旭南罗先刚李展余国彬
- 关键词：光刻物镜高分辨率像质集成电路
- 提高微细图形光刻分辨力的相移滤波技术研究被引量：4
- 2003年
- 详细研究了提高投影成像光刻分辨力的相移滤波技术的基本理论 ,给出了理论模型 ,进行了模拟计算 .对不同掩模图形设计制作的不同优化滤波器进行光刻对比实验并取得实验结果 .研究表明 ,相移滤波能显著提高部分相干成像系统光刻分辨力和增大焦深 ,同时能提高光能利用率 ,有利于提高光刻生产率 ,是一种有效提高光刻分辨力和焦深的波前工程技术 .
- 陈旭南石建平康西巧罗先刚秦涛
- 关键词：光能利用率
- 一种连续光束线性材料光子晶体倍频器
- 连续光束线性材料光子晶体倍频器，由光波入射口(1)、出射口(4)、金属外壳(2)、内部晶体(3)和基板(5)组成，其特征在于：内部晶体(3)由圆形空气孔光子晶体(6)、空气波导(10)、光栅(7)、圆形介质柱(9)、圆形...
- 石建平陈旭南罗先刚
- 文献传递
- 可提高光刻分辨率的新技术被引量：9
- 2000年
- 详细研究了离轴掩模的原理 ,将离轴照明 (OAI)与相移掩模 (PSM)技术结合起来 ,在掩模上同时实现两种功能 ,较大程度地提高了光刻分辨力 .实验表明 ,在数值孔径 0 .42 ,i线曝光波长下 ,可将光刻分辨力从 0 .8μm提高到 0 .5μm.
- 罗先刚姚汉民周冲喜冯伯儒陈旭南
- 关键词：离轴照明相移掩模光刻分辨力大规模集成电路
- 多片面阵CCD图像传感器焦平面光学拼接技术被引量：8
- 1992年
- 本文主要论述多片面阵CCD图像传感器焦平面光学拼接原理、结构设计及拼接精度,并给出了一个四片成2×2方阵的面阵CCD拼接样机结果。总像元数达1.42×10~6个,搭接精度1.5μm,共面精度5μm。拼接可大幅度地提高光电接收器的总像元数,并在实际工程中应用。
- 陈旭南马文礼杨亚涛沈忙作
- 关键词：CCD图象传感器焦平面
