闫永辉
- 作品数：13 被引量：64H指数：4
- 供职机构：东华大学更多>>
- 发文基金：教育部科学技术研究重点项目上海市科学技术发展基金“曙光计划”项目更多>>
- 相关领域：理学核科学技术一般工业技术机械工程更多>>
- 利用发射光谱进行常压介质阻挡放电等离子体诊断及其在材料表面改性上的应用(英文)被引量：2
- 2005年
- 使用介质阻挡放电光谱诊断装置,对常压介质阻挡放电在材料改性过程中的等离子体发射光谱进行测量,记录和比较了空气、氦气和氩气常压介质阻挡放电等离子体发射光谱,并运用氩元素谱线的相对强度来诊断电子温度等物理参量,以达到对材料表面改性过程的实时监控。
- 唐晓亮邱高冯贤平闫永辉王良严治仁施芸城
- 关键词：介质阻挡放电等离子体诊断发射光谱大气压表面改性
- 常压介质阻挡放电间隙的选择及其在材料表面改性中的应用被引量：15
- 2004年
- 使用自制介质阻挡放电装置 ,分析了常压等离子体放电电流和放电功率与放电间隙的变化关系 ,提出了“放电临界间隙”的概念 ,并应用该装置对PBT熔喷非织造布进行表面改性 。
- 唐晓亮冯贤平黎志光闫永辉邱高
- 关键词：介质阻挡放电放电间隙等离子体诊断大气压表面改性
- 纳米晶氮化碳薄膜制备的研究
- 本文主要论述了采用弧光放电(ArcDischarge)和直流空心阴极放电(DCHollowCathodeDischarge)两种方法来制备纳米陶瓷氮化碳薄膜。其中重点研究的直流空心阴极等离子体放电方法是一种新的制备纳米氮...
- 闫永辉
- 关键词：氮化碳薄膜弧光放电发射光谱纳米晶
- 文献传递
- 常压介质阻挡放电等离子体发射光谱诊断及其在材料表面改性中的应用被引量：25
- 2004年
- 使用介质阻挡放电光谱诊断装置,分析了常压等离子体放电电流与放电间隙的变化关系,提出了“放电临界间隙”的概念,记录和比较了空气和氩气常压介质阻挡放电等离子体发射光谱,并运用同一元素谱线的相对强度来诊断电子温度等物理参量,以达到对材料表面改性过程的实时监控。工作的结果对常压介质阻挡放电及其在材料改性中的应用具有重要的意义。
- 唐晓亮冯贤平黎志光闫永辉邱高
- 关键词：介质阻挡放电材料表面改性电子温度常压等离子体发射光谱
- 常压介质阻挡放电的部分电学参量研究被引量：19
- 2004年
- 用自制改进的介质阻挡放电连续处理纺织材料的装置 ,采用示波器李萨如图形测量放电功率 ,分析了常压等离子体放电的极板充电电流和放电功率等电学参量间的变化关系 ,研究结果表明 :放电间隙、工作气体成分和流量均会影响这些电学参量 ,当放电间隙 1.0～ 2 .5mm时 。
- 唐晓亮邱高任忠夫冯贤平闫永辉严治仁王良
- 关键词：介质阻挡放电材料表面改性李萨如图形电学辉光放电放电间隙
- 从大气压到超低气压范围的氦等离子体发射光谱的基本特性
- 采用三种实验装置介质阻挡放电装置、空心阴极放电装置和彭宁放电装置详细地分析了在100Pa压强范围内氦等离子体的发射光谱。介质阻挡放电是用来测量常压范围内的氦等离子体发射光谱。空心阴极放电通常是在100Pa的气压下放电,电...
- 闫永辉冯贤平唐晓亮谢涵坤
- 文献传递
- 潘宁放电溅射沉积纳米级AlN薄膜的性质
- 2006年
- 设计并制造了新的潘宁型等离子体源实验装置,分析了等离子体的发射光谱和产生A lN的动力学机理。在室温条件下,纯氮气的工作环境中用潘宁放电离子源溅射的方法,在S i(100)衬底上制备了纳米级的光滑平整A lN薄膜。本文用扫描电镜(SEM),原子力显微镜(ATM),红外吸收光谱(FT IR)和拉曼光谱(R am ansh ift)等测试分析技术用来研究了薄膜的微结构特征。
- 李慧玉施芸城闫永辉杨平冯贤平
- 关键词：潘宁放电溅射AIN薄膜
- 碳氮薄膜的制备及其拉曼光谱研究被引量：7
- 2004年
- 使用自行设计的真空系统 ,采用弧光放电等离子体的方法 ,成功制备了表面光滑致密的碳氮薄膜 .牛顿环干涉图样进一步验证了薄膜厚度的均匀性 .拉曼光谱显示了 3个主要的散射峰和几个相对较弱的峰 ,拉曼光谱分析表明 ,膜的结构是一种无定形非晶碳氮膜 ,碳原子与氮原子在薄膜中以各种不同的键态存在 .通过比较样品不同区域的拉曼光谱图发现 ,谱图几乎没有变化 。
- 闫永辉冯贤平施芸城唐晓亮
- 关键词：碳氮薄膜弧光放电拉曼光谱发射光谱
- 偏压对空心阴极放电等离子体溅射制备氮化碳薄膜的影响被引量：2
- 2005年
- 利用空心阴极放电等离子体源在Si(100)单晶衬底上沉积了氮化碳薄膜.薄膜的表面形貌表明所得的薄膜非常的均匀光滑.用X光电子能谱、拉曼和红外吸收光谱对薄膜的结构、成分和化学键等进行了研究.在拉曼光谱中可以看到典型的G,D和C N键的峰.当偏压为250 V时,薄膜拉曼光谱中的D峰完全消失,此时薄膜的N/C比达到了0.81.通过对薄膜的XPS分析也表明薄膜中C—C,sp2CN和sp3CN键的组分也发生了明显的变化.当偏压为250 V时薄膜的sp3CN相的含量达到了最大值为40%,同时氮含量也达到了最大值.实验结果给出了直接的证据:薄膜的结构模式可以通过改变偏压来得到控制.
- 杨平冯贤平施芸城闫永辉
- 关键词：氮化碳薄膜偏压
- 用发射光谱诊断常压介质阻挡放电等离子体
- ＜正＞在已有技术基础上研制放电均匀稳定的、便于应用和测量的常压介质阻挡放电等离子体源,使用介质阻挡放电光谱诊断装置,分别记录和比较了空气与氦气和空气与氩气的常压介质阻挡放电等离子体发射光谱,讨论了放电间隙和放电气体等因素...
- 唐晓亮冯贤平闫永辉黎志光邱高
- 文献传递
