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熊锐

作品数：23 被引量：38H指数：3
供职机构：华中理工大学电子科学与技术系更多>>
发文基金：国家教育部博士点基金“上海－应用材料研究与发展”基金武汉市青年科技晨光计划更多>>
相关领域：自动化与计算机技术化学工程理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 17篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 6篇理学
  • 5篇化学工程
  • 5篇自动化与计算...
  • 4篇电气工程
  • 4篇一般工业技术
  • 3篇电子电信

主题

  • 8篇磁光
  • 5篇磁光盘
  • 3篇溅射
  • 2篇热稳定
  • 2篇热稳定性
  • 2篇抗腐蚀
  • 2篇刻蚀
  • 2篇交换耦合
  • 2篇光存储
  • 2篇光记录
  • 2篇法式
  • 2篇非晶
  • 2篇半导体
  • 2篇半导体器件
  • 2篇磁场
  • 2篇磁光薄膜
  • 2篇磁光存储
  • 2篇磁光记录
  • 2篇磁光特性
  • 2篇磁记录

机构

  • 18篇华中理工大学
  • 2篇中国科学院上...
  • 1篇华中科技大学
  • 1篇武汉工业大学

作者

  • 20篇熊锐
  • 18篇李佐宜
  • 12篇胡作启
  • 4篇杨晓非
  • 3篇邱进军
  • 3篇王可
  • 2篇胡用时
  • 2篇易开军
  • 2篇卢德新
  • 2篇林更琪
  • 2篇徐则川
  • 2篇卢志红
  • 2篇李震
  • 2篇谭立国
  • 1篇刘卫忠
  • 1篇刘卫忠
  • 1篇郑远开
  • 1篇徐瑛
  • 1篇荀坤
  • 1篇卢正启

传媒

  • 4篇华中理工大学...
  • 3篇磁性材料及器...
  • 3篇磁记录材料
  • 1篇材料保护
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇功能材料
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇信息记录材料
  • 1篇压电与声光
  • 1篇第1届全国磁...
  • 1篇中国稀土学会...
  • 1篇第十届全国磁...

年份

  • 2篇2000
  • 4篇1999
  • 10篇1998
  • 4篇1997
共 23 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
反应溅射DyFeCo薄膜的界面特征及其对磁光特性的影响被引量：1
1998年
采用RF磁控溅射方法制备了一系列AlN／DyFeCo／glass多层磁光薄膜。扫描电镜分析表明，随着溅射DyFeCo薄膜时氩气压的增大，AlN／DyFeCo界面的粗糙程度增大。进一步的研究表明，界面粗糙程度的改变对磁光多层膜的磁光特性影响很大，界面越粗糙，矫顽力从越大，反射率R越低，而克尔角θk首先随表面粗糙程度的增大而增大，到达一极大值然后再随表面粗糙程度的增大而减小。
熊锐李佐宜胡作启杨晓非王可
关键词：矫顽力反射率磁光盘
XPS研究溅射氩气压对玻璃基DyFeCo/AlN磁光记录薄膜成分的影响
用X射线光电子能谱(XPS)研究了射频磁控溅射法在玻璃基表面上制备的DyFeCo/AlN磁光记录薄膜的表面成分随溅射氩气压的变化关系。
赵青南赵修建熊锐李佐宜
文献传递网络资源链接
层状钙钛矿铁电薄膜的结构及性能研究被引量：1
1999年
介绍了ＳｒＢｉ２Ｔａ２Ｏ９系列层状钙钛矿铁电薄膜的结构、性能、制备方法以及研究进展。
卢德新熊锐刘卫忠徐则川
关键词：层状钙钛矿铁电薄膜
Ti_(1-x)Al_xN薄膜的制备及性能研究被引量：2
1998年
介绍了利用反应溅射法制备Ti1-xAlxN薄膜的工艺过程，测量并分析了Ti1-xAlxN薄膜的光学性能及电阻率与薄膜成分的关系。结果表明，Ti1-zalxN薄膜的折射率和消光系数均随薄膜中Al含量x的增加而减小，电阻率则随x的增加而增大。并从薄膜的基本结构变化过程对实验结果作出解释。
熊锐李佐宜胡作启杨晓非徐瑛林更琪胡用时
关键词：光学性质电阻率
磁光盘抗腐蚀研究的进展
1997年
介绍了国内外磁光盘抗腐蚀研究的进展，比较了目前常用的几种保护材料的基本特性，分析了对磁光盘进行优化设计的关键技术，在对现有的磁光保护层材料的不足进行分析的基础上，预测了磁光盘保护材料研究发展的未来趋势。
熊锐李佐宜杨晓非
关键词：磁盘抗腐蚀磁光盘
NiO/NiFe双层膜的制备及其交换耦合作用研究被引量：1
1998年
用直流磁控反应溅射制备ＮｉＯ／ＮｉＦｅ双层膜。在保持ＮｉＦｅ层的厚度２０ｎｍ不变的条件下，发现尽管没有用外加磁场引导单向各向异性，由于底盘旋转等因素的影响，ＮｉＯ（７０ｎｍ）／ＮｉＦｅ（２０ｎｍ）双层结构仍显示较好的单向各向异性，交换耦合场可达３０Ｏｅ以上。通过改变ＮｉＯ层的厚度、溅射气体Ａｒ分压以及溅射气体与反应气体的比例Ａｒ／Ｏ２，研究了反铁磁层厚度以及溅射条件对交换耦合场的影响。
卢志红邱进军荀坤吴丹丹姚新华熊锐周健李佐宜沈德芳
关键词：双层膜
磁光直接重写技术原理分析被引量：2
1998年
讨论了磁光记录直接重写技术的两种主要机理，即磁场调制直接重写和光强调制直接重写，分析了它闪的优缺点。并对多层膜交换耦合原理及其在光强调制直接重写中各层的作用进行了详细讨论。光强调制技术具有更多方面的优越性，它将是未来提高磁光数据传输率的主要研究方向。
易开军李佐宜熊锐胡作启
关键词：磁光数据传输率磁光存储
静态磁光薄膜表面温度场的有限元法分析
1998年
建立了磁光薄膜在脉冲激光作用下的传热模型，利用有限元法对磁光薄膜表面的温度场进行了模拟计算，讨论了磁光薄膜在不同环境温度下的升温特性，这些结果可以用于对磁光薄膜宽温化、表面温度特性、磁光记录畴尺寸和表面形貌等的研究。
杨晓非李佐宜熊锐胡作启彭子龙
关键词：有限单元法磁光存储磁记录
光调制直接重写磁光多层膜的制备及其性能研究被引量：1
2000年
本文研究了光调制直接重写磁光多层膜的制备及其磁与磁光特性。成功研制了满足光调制直接重写要求的不同居里温度的磁光存储介质。
王可李佐宜胡作启林更琪熊锐杨晓非李震王翔易开军朱全庆胡煜
关键词：光调制
TiAlN 保护膜的制备及结构研究被引量：6
1998年
用反应磁控溅射方法制备了ＴｉＡｌＮ薄膜，结构分析表明，当Ｔｉ的含量小于０．２５时，ＴｉＡｌＮ薄膜是Ａｌ基氮化物的闪锌矿结构，但晶格常数随Ｔｉ原子含量的增加而增大．Ｘ射线光电子能谱分析表明，ＴｉＡｌＮ薄膜有与ＡｌＮ和ＴｉＮ不同的电子结构特征．
胡作启李佐宜熊锐徐瑛
关键词：X射线光电子能谱
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