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杨智超

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：中国科学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电气工程

主题

  • 1篇射频磁控
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇光致发光特性
  • 1篇发光
  • 1篇发光特性
  • 1篇XO
  • 1篇磁控
  • 1篇ZNMGO

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇杨智超
  • 1篇王燎原
  • 1篇王烨
  • 1篇施朝淑

传媒

  • 1篇功能材料

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
用射频磁控溅射法制备的Zn_(1-x)Mg_xO薄膜光致发光特性(英文)被引量：1
2006年
用射频磁控溅射法在Si（100）衬底上生长了一组Zn1-xMgxO（x=0～0．16）薄膜。并在不同温度下退火。对薄膜的光致发光研究表明，在薄膜的发射谱的紫外区域有分别对应自由激子（以及相应的声子伴线）和电子-空穴等离子体的发光机制，其中后者有5倍超线性的受激发射，其受激发射闾值与薄膜的退火温度相关，样品中最低受激阅值为40kW／cm^2。
许小亮王燎原王烨杨智超施朝淑
关键词：ZNMGO光致发光
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