您的位置: 专家智库 > >

杨向东

作品数:16 被引量:35H指数:4
供职机构:广东工业大学更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国家自然科学基金广东省自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺机械工程一般工业技术文化科学更多>>

文献类型

  • 12篇期刊文章
  • 2篇科技成果
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 10篇金属学及工艺
  • 4篇机械工程
  • 2篇一般工业技术
  • 2篇文化科学
  • 1篇石油与天然气...
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 6篇化学机械抛光
  • 6篇机械抛光
  • 4篇抛光
  • 2篇数控
  • 2篇图像
  • 2篇图像检索
  • 2篇抛光垫
  • 2篇沟槽
  • 2篇CMP
  • 2篇材料去除率
  • 2篇超薄
  • 1篇雕铣机
  • 1篇动态特性
  • 1篇液膜厚度
  • 1篇优化设计
  • 1篇柔度
  • 1篇失重率
  • 1篇数控雕铣机
  • 1篇数控系统
  • 1篇特性分析

机构

  • 16篇广东工业大学
  • 2篇番禺职业技术...
  • 1篇广州番禺职业...
  • 1篇广东技术师范...
  • 1篇中山火炬职业...
  • 1篇广州民航职业...

作者

  • 16篇杨向东
  • 9篇魏昕
  • 6篇谢小柱
  • 3篇周华
  • 3篇胡伟
  • 3篇邹微波
  • 2篇戴青云
  • 2篇陈蕾
  • 2篇刘庆
  • 2篇彭雪辉
  • 2篇徐宇发
  • 2篇曹江中
  • 2篇李强
  • 2篇王美林
  • 2篇方照蕊
  • 1篇丁立刚
  • 1篇吴磊
  • 1篇张育广
  • 1篇郑海凤
  • 1篇王勇

传媒

  • 3篇金刚石与磨料...
  • 3篇机电工程技术
  • 2篇组合机床与自...
  • 1篇制造技术与机...
  • 1篇机床与液压
  • 1篇润滑与密封
  • 1篇机械设计与制...
  • 1篇2005国际...

年份

  • 1篇2016
  • 4篇2015
  • 1篇2014
  • 3篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2010
  • 3篇2009
  • 1篇2005
16 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
浅析数控系统的现场维修
2009年
就数控系统的故障处理进行论述,着重讲解其现场维修。
杨向东魏昕周华
关键词:数控系统现场维修
高等院校与地区工业设计振兴的互动关系
文章分析了我国工业设计发展的现状,阐述了办有工业设计专业的高等院校与地区工业设计振兴之间相互依存的、互动的关系,并提出了办有工业设计专业的高等院校在地区工业设计振兴中可发挥的积极作用。
张育广杨向东
文献传递
化学机械抛光过程抛光液作用的研究进展被引量:13
2012年
化学机械抛光(CMP)已成为公认的纳米级全局平坦化精密超精密加工技术。抛光液在CMP过程中发挥着重要作用。介绍了CMP过程中抛光液的作用的研究进展,综合归纳了抛光液中各组分的作用,为抛光液的研制和优化原则的制定提供了参考依据。
邹微波魏昕杨向东谢小柱方照蕊
关键词:抛光液材料去除率
三轴数控铣床加工圆锥螺旋槽技术被引量:1
2009年
介绍了在三轴数控铣床上利用万能分度头与工作台X轴挂轮,使得工件以X轴方向旋转的圆锥螺旋槽的加工方法,并详细介绍了螺旋槽导程与万能分度头的挂轮传动比的计算方法。
杨向东邓大志魏昕周华
关键词:分度头挂轮螺旋槽
CMP过程中抛光垫表面沟槽对液膜厚度影响研究被引量:2
2015年
抛光垫表面沟槽结构是决定抛光液抛光效果的重要因素之一。为了研究抛光垫表面沟槽对化学机械抛光过程的影响,设计并搭建了高速摄影仪在线检测平台,检测并研究了有无沟槽及不同类型沟槽结构对液膜厚度的影响。实验结果表明:抛光垫开槽可以增加抛光液液膜厚度分布均匀性;在同心圆型、放射型、网格型、复合型4种类型抛光垫结构中复合型沟槽具有最优抛光效果。
钟静魏昕谢小柱杨向东
关键词:化学机械抛光液膜厚度
不锈钢基板化学机械抛光过程温度研究被引量:7
2014年
鉴于不锈钢化学机械抛光的复杂环境,研究了其抛光过程中温度的变化规律。设计并搭建了过程温度在线检测系统,检测并研究了不同工艺参数与温度之间的关系。实验结果表明:抛光温度随着抛光压力和抛光垫转速的增大而增大,随着抛光液流量的增大而减小。不锈钢基板边缘点抛光温度高于中心点抛光温度,聚氨酯材料比合成革和磨砂革材料的温升更大。当抛光垫加沟槽时,温升将明显下降,且径向型与周向型沟槽温度变化相差不大,网格型沟槽温差变化最小。抛光垫沟槽间距增大,温升增大;沟槽宽度对温升影响较小。
郑海凤魏昕谢小柱杨向东胡伟
关键词:化学机械抛光温度检测
接触式数控鞋楦扫描机结构设计
2013年
通过分析国内外相关设备的结构形式及其性能特点,根据接触式数控鞋楦扫描机的功能要求,设计了数控鞋楦扫描机床总体结构;文章重点分析了其定位与旋转机构、接触式扫描机构、拖板驱动机构等机床关键部件的结构组成、功能作用及设计要点,经生产应用验证,该设备结构合理、动作可靠,工作性能稳定。
丁立刚杨向东吴磊
关键词:鞋楦逆向工程
新型抛光垫沟槽及其在化学机械抛光中的作用研究进展被引量:6
2012年
化学机械抛光过程中,抛光垫性能是影响抛光质量和抛光效率的重要因素之一,而抛光垫的性能又受其表面沟槽结构形状的影响。在介绍几种常见抛光垫沟槽结构形状的特性及其作用研究的基础上,介绍了新型抛光垫沟槽的研究进展,总结了几种新型抛光垫沟槽对抛光效果的影响,为抛光垫沟槽特性的进一步研究提供参考。
方照蕊魏昕杨向东邹微波
关键词:化学机械抛光抛光垫
GSFD4050高速精密数控雕铣机结构分析与优化
高速精密雕铣加工机床是数控机床的关键技术之一。高速精密数控雕铣机的静、动态特性是结构分析的重要指标,对高速精密数控雕铣机结构的分析是进行结构优化改进的关键环节。本文论述了对高速精密数控雕铣机结构分析的现状,在前人理论、试...
杨向东
关键词:数控雕铣机优化设计
文献传递
超薄不锈钢基板化学机械抛光运动机理分析被引量:4
2015年
从运动学角度出发,根据超薄不锈钢基板与抛光垫化学机械抛光过程中的运动关系,通过分析磨粒在不锈钢基板表面的运动轨迹,揭示了抛光垫和不锈钢基板的转速和转向等参数对超薄不锈钢基板表面材料去除率和非均匀性的影响。分析结果表明:超薄不锈钢基板与抛光垫转速近似相等、转向相同时可获得最佳的材料去除率及材料去除非均匀性。研究结果为CMP机床设计、CMP运动参数的自动控制和进一步理解CMP的材料去除机理提供了技术和理论依据。
杨向东魏昕谢小柱胡伟
关键词:化学机械抛光材料去除机理材料去除率非均匀性
共2页<12>
聚类工具0