杨勇
- 作品数：35 被引量：9H指数：2
- 供职机构：蚌埠玻璃工业设计研究院更多>>
- 发文基金：安徽省科技攻关计划更多>>
- 相关领域：一般工业技术化学工程建筑科学理学更多>>
- 退火条件对氮掺杂二氧化钛薄膜性能的影响
- 2019年
- 利用射频磁控溅射技术,在室温下用TiO2陶瓷靶在玻璃基底上制备N掺杂TiO2薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪和紫外可见光分光光度计研究了不同退火条件对薄膜的微观结构和光学性能的影响。实验结果表明:真空退火后的薄膜结晶性能均较差,随着退火温度的升高,薄膜表面的缺陷增加,薄膜内部的N含量均减少,禁带宽度从2.83eV增加到3.21eV;常压条件下退火,薄膜的结晶性变优,晶粒变大,薄膜内部N含量减少,禁带宽度增加到2.93eV。
- 杨勇姚婷婷姚婷婷金克武李刚马立云
- 关键词：真空退火
- 一种柔性多层透明导电氧化物薄膜
- 本发明公开一种柔性多层透明导电氧化物薄膜，包括由下至上依次设置在柔性基底的下SiO<Sub>2</Sub>膜层、Ag膜层与上SiO<Sub>2</Sub>膜层，所述上、下SiO<Sub>2</Sub>膜层的厚度均为15～...
- 杨勇李刚姚婷婷金克武沈洪雪王天齐彭赛奥甘治平
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- 一种消影导电玻璃
- 本实用新型公开一种消影导电玻璃，包括玻璃基板，玻璃基板上依次设有SiO<Sub>2</Sub>膜层、ITO膜层与高折射率膜层，所述高折射率膜层为Nb<Sub>2</Sub>O<Sub>5</Sub>膜层或TiO<Sub>...
- 李刚蒋继文金克武曹欣张宽翔杨勇姚婷婷王芸徐根保
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- W掺杂DLC薄膜的性能研究
- 以高纯C、高纯金属钨为实验靶材,利用共溅射法制备了一系列W掺杂DLC薄膜。利用相关检测仪器分别对薄膜结晶质量、薄膜成分、电学性能等进行了表征。结果表明:薄膜质量较高,生长状态较好,W元素已经成功掺入到DLC薄膜中,而且有...
- 沈洪雪李刚甘治平金克武杨勇姚婷婷
- 关键词：类金刚石薄膜碳化钨
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- 一种电致变色智能玻璃的制备方法
- 本发明公开一种电致变色智能玻璃的制备方法，包括以下步骤：S1、玻璃基板由上片台进入第一液相辊涂镀膜机，涂覆氧化锡掺氟透明导电膜，然后进入流平段进行流平表干；S2、步骤S1处理后的玻璃基板由传输辊道送入第二液相辊涂镀膜机，...
- 金良茂汤永康甘治平王东李刚金克武王天齐杨勇姚婷婷彭赛奥
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- 一种高透、高阻W掺杂CN薄膜的制备方法
- 本发明公开了一种高透、高阻W掺杂CN薄膜的制备方法，包括以下步骤：1）选用超白高透玻璃作为衬底材料，并进行超声波清洗，达到去除衬底表面油污和灰尘的目的；2）清洗后的衬底材料置于样品架上，送入溅射腔室，通入Ar气，使C靶起...
- 沈洪雪金克武甘治平李刚姚婷婷杨勇
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- 一种高电阻率CN薄膜的制备方法
- 本发明涉及一种高电阻率CN薄膜的制备方法，包括以下步骤：选用0.1‑1.5mm的衬底材料；对衬底材料进行超声波清洗；在样品基架上放置C靶材；把清洗干净的衬底材料放置于样品基架上；使用氩离子轰击靶材，达到清洗和活化靶材的作...
- 彭寿沈洪雪金克武甘治平李刚姚婷婷杨勇
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- 一种具有微结构的多层膜透明导电玻璃制备方法
- 本发明公开一种具有微结构的多层膜透明导电玻璃制备方法，包括以下步骤：S1、在玻璃衬底表面室温下溅射生长下ZnO基薄膜；S2、采用线棒刮涂法，在下ZnO基薄膜表面制备单层离散分布的聚苯乙烯小球掩膜层；S3、采用射频磁控溅射...
- 彭寿马立云姚婷婷李刚杨勇汤永康沈洪雪金克武王天齐彭赛奥甘治平
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- 直流磁控溅射功率对溅射生长GZO薄膜光电性能的影响被引量：2
- 2017年
- 本文采用直流磁控溅射沉积系统在玻璃基底上沉积镓掺杂氧化锌(GZO)薄膜,将溅射功率从120W调整到240W,步长为30W,研究功率变化对GZO薄膜的晶体结构、表面形貌、光学性能和电学性能的影响。结果表明,溅射功率对GZO薄膜电阻率有显著的影响。溅射功率为210W时薄膜呈现最低电阻率为3.31×10^(-4)Ω·cm,可见光波段平均光学透光率接近84%。随着溅射功率的增加,薄膜表面形貌和生长形态发生较大变化,并直接得到具有一定凸凹不平的微结构,GZO薄膜的致密性先增加后降低。
- 姚婷婷杨勇李刚仲召进张宽翔张宽翔蒋继文曹欣曹欣王芸王芸马立云
- 关键词：溅射功率电学性能光学性能
- 一种薄膜太阳能电池用光伏背板玻璃的制备方法
- 本发明公开一种薄膜太阳能电池用光伏背板玻璃的制备方法，包括以下步骤：选取高应变点玻璃作为玻璃基底，高应变点玻璃的应变点≥575℃、软化点≥800℃；通过磁控溅射，在玻璃基底顶面由下至上依次溅射生长80～120nm厚度的S...
- 彭寿马立云姚婷婷李刚彭赛奥杨勇金克武王天齐沈洪雪杨扬甘治平
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