李云翔
- 作品数：2 被引量：1H指数：1
- 供职机构：清华大学电子工程系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 基于双表面等离子激元吸收的纳米光刻被引量：1
- 2017年
- 光刻技术(lithography)是微纳结构制备的关键技术之一.受限于光的衍射极限,传统光刻方法进一步缩小特征尺寸变得越来越难.表面等离子激元(surface plasmon polariton,SPP)作为光与金属表面自由电子密度振荡相互耦合形成的一种特殊电磁形式,具有波长短、场密度大、异常色散等特点,在突破传统光学衍射极限的研究和应用中具有重要的学术和实用价值.本文针对SPP在光刻胶中的非线性吸收及其在大视场纳米光刻中的应用进行了理论和实验探索.在回顾SPP概念的基础上,阐述了双SPP吸收的概念及其应用于纳米光刻的优势,明确了该效应具有与传统双光子吸收不同的内涵和特性.在800和400nm飞秒激光的作用下,实现了基于双SPP吸收效应的周期干涉条纹,同时验证了双SPP吸收的闽值效应,通过控制曝光计量实现了图形线宽的调控,最小线宽小于真空光波长的1/10.利用SPP波长短、场增强的特点,并结合非线性吸收的闽值效应,单次曝光区域比纳米图形尺度大4 5个数量级,曝光区域的直径可达1.6 mm.同时制备出较为复杂的同心圆环结构.基于双SPP吸收独有的特性以及SPP丰富的模式,有望进一步在大光刻视场、超小尺度图形光刻技术上获得突破.
- 刘仿李云翔黄翊东
- 关键词：表面等离子激元纳米光刻光学非线性衍射极限
- 一种纳米光刻方法及装置
- 本发明公开了纳米光刻技术领域中的一种纳米光刻方法及装置。本发明设备包括飞秒激光器、透光基板、光刻掩膜版、光刻胶和基底。本发明利用飞秒激光器在光刻掩膜版上形成特定的超衍射极限的图形，并且通过调控光刻掩膜版材料、改变光刻掩膜...
- 刘仿李云翔黄翊东肖龙
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