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张书敬

作品数:5 被引量:9H指数:2
供职机构:河北工业大学信息工程学院更多>>
发文基金:河北省自然科学基金天津市自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 5篇电子电信

主题

  • 4篇砷化镓
  • 4篇PHEMT
  • 3篇电路
  • 3篇晶体管
  • 3篇集成电路
  • 2篇大信号
  • 2篇砷化镓场效应...
  • 2篇微波集成
  • 2篇微波集成电路
  • 2篇功率放大
  • 2篇功率放大器
  • 2篇放大器
  • 2篇场效应
  • 2篇场效应晶体管
  • 1篇大信号建模
  • 1篇单片
  • 1篇单片集成
  • 1篇单片集成电路
  • 1篇电子迁移率
  • 1篇英文

机构

  • 5篇河北工业大学
  • 5篇中国电子科技...

作者

  • 5篇张书敬
  • 5篇杨瑞霞
  • 5篇杨克武
  • 2篇高学邦
  • 1篇武继斌
  • 1篇张玉清
  • 1篇崔玉兴
  • 1篇王生国

传媒

  • 3篇Journa...
  • 2篇电子器件

年份

  • 4篇2007
  • 1篇2006
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
X波段PHEMT功率单片放大器被引量:6
2006年
报道了X波段8WAlGaAs/InGaAs/GaAsPHEMTMMIC功率单片放大器的设计和研制.放大器采用两级拓扑结构,输入输出为50Ω阻抗匹配,芯片面积为4·5mm×3mm.测试结果显示,在7·5V和1·5A的DC偏置下,输出功率在8W以上,功率附加效率为30%,功率增益为15dB.
张书敬杨瑞霞武继斌杨克武
关键词:PHEMTX波段MMIC功率放大器
GaAs HFET/PHEMT大信号建模分析被引量:2
2007年
在分析GaAs HFET/PHEMT建模设计、在片校准和测试方法的基础上,提出了电荷守恒的EEHEMT1模型,通过Cold FET测量技术,采用在片测试技术,结合窄脉冲测试技术,提出了GaAs HFET/PHEMT器件EE-HEMT1大信号模型,实验说明提出的大信号模型模拟结果与实例结果吻合得很好.
张书敬杨瑞霞高学邦杨克武
关键词:砷化镓场效应晶体管微波集成电路
应用于C-X-Ku波段的宽带功率放大器(英文)
2007年
采用0.25μm AlGaAs/InGaAs/GaAs PHEMT工艺技术,研制出了6~18GHz三级MMIC全匹配宽带功率放大器单片,在6~18GHz的工作频率下,放大器的平均功率增益为19dB,输出功率大于33.3dBm,在10GH。处有最大输出功率34.7dBm,输入回波损耗S11低于-10dB,输出回波损耗S22低于-6dB。与报道的C-X-Ku频段宽带功率放大器相比,有较好的功率平坦度。
张书敬杨瑞霞张玉清高学邦杨克武
关键词:砷化镓赝配高电子迁移率晶体管微波单片集成电路功率放大器
GaAs MESFET/PHEMT大信号建模被引量:1
2007年
大信号精确模型的建立是微波单片集成电路设计和研制的基础,在分析传统建模方法的基础上,对传统的ColdFET测量技术和寄生元件参数提取提出了改进方法,大栅宽器件引入了脉冲I-V曲线的测试方法,改进了EEFET/EEHEMT模型的I-V模型和Q-V模型.利用在片测试技术与建模软件相结合,建立了新的二维电荷模型,给出了建模实例和验证结果.
张书敬杨瑞霞王生国杨克武
关键词:砷化镓场效应晶体管微波集成电路
Ni含量对PHEMT欧姆接触的影响
2007年
研究了AuGeNi/Au金属系统中Ni含量对n-GaAs欧姆接触的影响,用传输线法对接触电阻进行了测试,在原子力显微镜观测了合金表面形貌,测试了高温存储后接触电阻的变化.结果表明:Ni含量占AuGe的8%wt左右,Ge与Ni的厚度比在1.6:1左右时,可以得到相对比较好的欧姆接触.
张书敬杨瑞霞崔玉兴杨克武
关键词:砷化镓欧姆接触
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