唐晋发
- 作品数：106 被引量：420H指数：11
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- 有机电致发光薄膜的制备与测试
- 2004年
- 用喔星铝作发光层、铝作负电极 ,镀制了有机电致发光薄膜器件 ,测量了其特性曲线 ,定性分析了发光原因 。
- 范希智李刚正刘旭顾培夫唐晋发
- 关键词：发光薄膜
- S枪磁控溅射淀积非晶硅光电导薄膜的制备工艺及特性研究被引量：2
- 1992年
- 本文介绍用直流磁控S枪在H_2/Ar混合气体中反应溅射单晶硅靶淀积a-Si:H光电导薄膜的制备工艺。研究了用这种技术制备的a-Si:H薄膜的光学特性(透射率光谱、光学常数和光学带隙等)、晶相结构(用电子衍射图谱)、红外吸收光谱和光电导性能。并讨论了制备工艺条件与薄膜微结构和性能的关系。
- 朱振才顾培夫唐晋发
- 关键词：磁控溅射非晶硅
- 全文增补中
- ZnS和MgF_2薄膜的离子辅助淀积被引量：1
- 1989年
- 用Ar离子辅助制备了ZnS和MgF_2薄膜,依据滤光片吸潮波长漂移的测量,MgF_2膜的聚集密度大约从未轰击时的0.8上升到轰击后的0.9～0.95,实验发现,高能离子轰击(>1keV),膜层的吸收散射损耗增加,而低能离子轰击(<700eV)可以保持优良的光学性质,并显著地增加膜层的牢固度,这对于温度敏感的基底制备耐久薄膜是一个重要的应用.
- 顾培夫陈宇明胡学群唐晋发
- 关键词：滤光片硫化锌
- 用离子束溅射淀积的氧化物薄膜的折射率被引量：23
- 2002年
- 介绍了用于波长为 15 5 0nm光通讯波分复用 /解复用滤光片的离子束溅射的Ta2 O5和SiO2 薄膜在法里珀罗多层膜中的折射率的实时拟合方法及拟合结果 ,给出了它们的淀积时间、淀积速率和计算的光学厚度 。
- 顾培夫李海峰章岳光刘旭唐晋发
- 关键词：氧化物薄膜折射率滤光片光通信
- 稀土有机配合物电致发光器件的研究进展被引量：4
- 2002年
- 概述了稀土有机配合物电致发光薄膜器件的材料、结构、发光机理以及目前研究的状况。
- 范希智刘旭顾培夫唐晋发
- 关键词：稀土有机配合物电致发光
- 液晶投影机中的分色合色元件的光谱检测仪
- 液晶投影机中的分色合色元件的光谱检测仪,依次包括白光光源、透镜、单色仪、准直透镜、滤色片转盘、偏振器、样品台、光电探测器。光电探测器中的光电倍增管接信号转换与程控放大模块,经A/D卡与计算机相连;单色仪、滤色片转盘、偏振...
- 李海峰刘旭黄文标刘向东顾培夫唐晋发
- 文献传递
- 用IAD法制作的高密集型分波复合器滤光片的特性(英文)被引量：5
- 1999年
- 随着高密集型分波复合器需要的不断增加，在光纤通讯领域中，光学薄膜滤光片已经成为了一个很关键的光学元件。在高密集分波复合器中，我们用ＩＡＤ方法制作了低损失、高稳定性的超窄带滤光片并在本文加以讨论。在湿度环境试验中，这种高堆积密度的光学薄膜显示了没有任何波漂。在温度环境试验中，它的热稳定性为０．００１２ｎｍ ／℃。在使用Ｔａ２Ｏ５／ＳｉＯ２，用于１００ＧＨｚ的滤色片的场合下，窄带滤色片的插入损失为０．３４ｄＢ。在使用Ｎｂ２Ｏ５／ＳｉＯ２，用于２００ＧＨ２ 的滤色片的场合下，插入损失为０．１７ｄＢ，两者都显示了极好的分光光谱特性，甚至半宽为０．６６ｎｍ 的情况下，它们的截面ＳＥＭ 微结构显示了非晶结构，平坦的表面与界面。
- 唐骐孙大雄菊池和夫李正中马仁勇吕晶唐晋发顾培夫刘旭
- 关键词：滤光片光谱特性微结构IAD
- 电致变色氧化钨薄膜的干法锂化研究被引量：3
- 1998年
- 采用电子束加热蒸发金属Ｌｉ对ＷＯ３电致变色薄膜进行干法锂化，利用Ｘ光电子能谱和电化学方法分析不同锂化程度ＷＯ３薄膜的化学组分和电致变色性能。实验表明，当锂化ＷＯ３薄膜中Ｌｉ原子与Ｗ原子的数目比在０．１５左右时有良好的可逆性和着色效率。利用该方法制备了性能良好的单片式导Ｌｉ＋全固态电致变色薄膜器件Ｇｌａｓｓ／ＩＴＯ／ＷＯ３·Ｌｉ／ＬｉＦ·ＡｌＦ３／Ｖ２Ｏ５／Ａｌ。
- 叶永红张家雨顾培夫唐晋发
- 关键词：电致变色氧化钨太阳能
- 一种改进型HOPFIELD神经网络模型及其单通道光学实现
- 1991年
- 提出一种改进型HOPFIELD神经网络模型。通过对存贮模式进行互补扩展,消除了存贮模式中0和1个数不等问题。利用扩展模式互补性和由扩展模式所形成的连接权的镜象对称性,在不增加神经元个数和连接权矩阵维数的情况下,提高了网络的存贮能力和容错能力。在此基础上设计了全正光学连接权矩阵,在单通道内实现了双极寻址,降低了光学系统的复杂性。
- 余飞鸿吴平凡李正民唐晋发
- 关键词：光学神经网络模型单通道
- 低损耗液晶光开关器件用透明电极的制备被引量：7
- 2002年
- 液晶可以用来制作光通讯系统中的光开关,液晶器件的损耗主要取决于透明电极的透射率, ITO(氧化铟锡)在可见光范围具有高的透射率,但在红外损耗较大。在测定ITO复折射率的基础上,本文借鉴光学薄膜中诱导滤光片的设计思想,设计、制备出了在红外1.5mm^1.6mm范围内高透射率的透明电极,使整个器件的损耗<0.4dB,相应的方块电阻为350W/□。
- 白胜元黄昱勇李海峰刘旭顾培夫唐晋发
- 关键词：光开关光学薄膜透明电极液晶
