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周昕

作品数:6 被引量:10H指数:2
供职机构:中南大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:中国博士后科学基金湖南省自然科学杰出青年基金湖南省自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术电气工程理学机械工程更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电气工程
  • 3篇一般工业技术
  • 3篇理学
  • 1篇机械工程

主题

  • 2篇氮掺杂
  • 2篇等离子体共振
  • 2篇射频功率
  • 2篇透射
  • 2篇透射特性
  • 2篇离子
  • 2篇非晶
  • 2篇非晶碳
  • 2篇氟化非晶碳薄...
  • 2篇A-C:F
  • 2篇掺杂
  • 1篇带隙
  • 1篇电子技术
  • 1篇无机非金属
  • 1篇无机非金属材...
  • 1篇介质
  • 1篇金膜
  • 1篇金属膜
  • 1篇光学
  • 1篇光学带隙

机构

  • 6篇中南大学

作者

  • 6篇周昕
  • 4篇刘雄飞
  • 3篇高金定
  • 2篇肖剑荣
  • 2篇张云芳
  • 2篇李宏建
  • 2篇谢素霞
  • 1篇付少丽
  • 1篇徐海清
  • 1篇吴金军
  • 1篇刘琼
  • 1篇夏辉

传媒

  • 2篇电子元件与材...
  • 2篇中国科学(G...
  • 1篇绝缘材料
  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 2篇2009
  • 1篇2006
  • 1篇2005
  • 2篇2004
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
射频功率对氟化非晶碳薄膜微观性能的影响被引量:1
2004年
以CH4和CF4的混合气体作源气体,利用等离子体增强型化学气相沉积法(PECVD),改变射频功率,制备了一批氟化非晶碳薄膜样品。用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌,发现随着射频功率增大,薄膜均匀性变差,掩蔽效应作用加剧。FITR光谱分析表明:薄膜中主要含有CFx和C=C键,较低功率下沉积的薄膜中主要含有CF2和CF3,较高功率下沉积的薄膜中主要含CF和CF2。Raman光谱分析发现在较高沉积功率下沉积的薄膜中出现了由sp2和sp3混合微晶结构。
刘雄飞高金定肖剑荣张云芳周昕
关键词:射频功率氟化非晶碳薄膜
射频功率对a-C:F薄膜沉积速率和结构的影响被引量:2
2004年
用射频等离子体增强型化学气相沉积法制备了a-C:F薄膜,并研究了射频功率对a-C:F薄膜沉积速率和结构的影响.用椭偏仪测量了薄膜的厚度,并用红外谱(FITR)结合Raman谱研究了其结构的变化.结果表明:薄膜沉积速率在10~14 nm/min之间,主要含有CFx和C=C键.随射频功率的升高,沉积速率先增大后减小,CF3的含量迅速减小,CF和CF2的含量略有增加,薄膜中r(F/C)呈下降的趋势.在较高功率下沉积的薄膜中出现了由sp2和sp3混合微晶结构.
刘雄飞高金定周昕肖剑荣张云芳
关键词:电子技术射频功率沉积速率
Kerr非线性效应对通过金膜狭缝阵列透射特性的影响
2009年
基于严格的有限时域差分方法,研究了填入非线性Kerr介质的金膜狭缝阵列的增强透射特性.结果表明:在所研究的波长范围内出现的共振透射峰是表面等离子体共振和局域波导共振共同作用的结果.详细分析了金膜狭缝阵列中填充的非线性介质的厚度、三阶磁导率、线性折射率以及入射光强对透射特性的影响.发现填充在金膜狭缝阵列中的非线性介质的厚度、三阶磁导率、线性折射率和入射光强度等参数的微小变化就能导致透射共振峰的峰值和峰中心波长的明显改变.这些研究结果或许有助于设计精确光开关等光子器件.
谢素霞李宏建徐海清周昕付少丽吴金军
关键词:非线性介质表面等离子体共振
通过具有周期性椭球形纳米孔结构金属膜的超强透射特性被引量:1
2009年
利用三维有限时域差分(3D-FDTD)方法,研究了具有亚波长椭球形纳米孔周期性结构的金属膜的透射特性,探讨了晶格常数和孔的形状对这种结构透射特性的影响,并且通过分析电场和电磁场能量分布图,揭示了这种透射源于两种不同的共振机制:限制在椭球形孔内区域的局域波导共振模式和电磁场能量分布在椭球形孔两端的表面等离子体共振模式.
李宏建谢素霞周昕刘琼夏辉
关键词:透射特性等离子体共振
氮掺杂氟化非晶碳薄膜光学性质的研究被引量:2
2006年
用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法制备氮掺杂氟化非晶碳(a-C:F:N)薄膜。用紫外-可见分光光谱仪、椭偏仪、傅立叶变换红外光谱仪对薄膜进行了检测。结果表明:随源气体中氮气含量的增加,光学带隙先减小后升高,折射率变化情况与之相反。在其它条件相同的情况下,升高沉积温度使得薄膜的光学带隙和折射率降低。光学带隙的大小与sp2键含量密切相关,sp2键浓度越大,薄膜的光学带隙越小。
刘雄飞周昕
关键词:氮掺杂氟化非晶碳薄膜光学带隙
氮掺杂对a-C:F薄膜表面形貌和键结构的影响被引量:4
2005年
用射频等离子体增强化学气相沉积设备制备了氮掺杂a-C:F(氟化非晶碳)薄膜,研究了不同氮源流量比对薄膜表面形貌和键结构的影响。AFM观察结果发现:随氮流量的增加,薄膜表面粗糙度降低,颗粒粒径变小,薄膜更加均匀致密。Raman光谱分析表明:氮源流量的增加会引起薄膜内sp2键态含量增加,即芳香环式结构比例上升,当r(N2/(CF4+CH4+N2))为68%时,ID/IG由未掺N2时的1.591增至4.847,薄膜的热稳定性增强。
刘雄飞周昕高金定
关键词:无机非金属材料氮掺杂表面形貌
共1页<1>
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