刘星
- 作品数：21 被引量：40H指数：2
- 供职机构：大连理工大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺化学工程自动化与计算机技术更多>>
- TaN单层及Ta/TaN不同调制周期多层薄膜力学性能研究(英文)被引量：2
- 2013年
- 单层TaN薄膜及由柔性Ta及硬TaN层组成的多层Ta/TaN薄膜通过ECR增强直流磁控溅射在不锈钢基体上制备,所有的TaN及Ta/TaN薄膜均制备200 min。薄膜厚度及薄膜的截面形貌通过扫描电镜观测,化学结构通过XRD测试,硬度,模量,塑性及结合力分别通过纳米压痕及划痕实验进行测定。结果表明,TaN择优取向为六方(110),(300),Ta层为(110),(300)。单层TaN展现最高硬度,接近40GPa,但结合力较低。5周期的多层薄膜呈现了较高的硬度,最好的塑性及结合力。证明合适的调制周期及层数可以有效地提高薄膜的力学性能,包括硬度,塑性及结合力。
- 刘星马国佳张林孙刚段玉平刘顺华
- 关键词：调制周期力学性能
- 氧含量对离子注入及沉积TaN薄膜力学性能的影响(英文)
- 2013年
- 采用浸没式离子注入及沉积方法制备了3组不同的TaN薄膜,研究了制备过程中氧含量对薄膜性能的影响。研究表明,O含量对TaN薄膜的结构和力学性能有较大的影响。制备过程中进入薄膜及基体的O原子将与Ta结合生成Ta2O5,降低Ta2N薄膜中各相的择优取向性。随着氧含量的提高,晶粒逐渐趋向不规则生长而导致非晶相的形成。薄膜中氧含量的增加会导致薄膜表面结构变得更加不规则并引起表面缺陷的形成,从而使表面粗糙度变大。这些变化会导致薄膜结合强度和摩擦学性能下降。
- 孙刚马国佳刘星武洪臣巩水利
- 低温直流磁控溅射制备金红石相TiO_2的研究(英文)被引量：1
- 2013年
- 利用直流磁控溅射方法在硅片和钛合金基底上沉积制备了二氧化钛薄膜。主要研究了变化的基片偏压对薄膜性能的影响。用XRD和SEM分析了薄膜的晶体结构和表面形貌,利用纳米压痕仪,划痕仪,摩擦试验机分别测试了薄膜的纳米硬度,膜基界面结合力和摩擦性能。结果表明,本方法在不加热基片的条件下制备出表面光滑致密,力学性能和摩擦学性能良好的金红石相TiO2薄膜。
- 王明娥马国佳孙刚刘星张林巩水利董闯
- 关键词：TIO2薄膜直流磁控溅射晶化
- Ti元素掺杂对TaN硬质薄膜结构及力学性能的影响
- Ta N薄膜较高的硬度(20-35GPa)和耐腐蚀性能,但是Ta N薄膜与衬底间的结合强度较低,薄膜结构稳定性不足,影响其使用性能。通过金属元素的掺杂,Ta N可以形成具有Na Cl立方结构的固溶三元氮化物,成为更为稳定...
- 孙刚刘星马国佳
- 关键词：力学性能
- 文献传递
- 汞离子和铜离子识别荧光传感器的合成及性能研究
- 伴随科技的进步和生活水准的提升，人们对赖以生存的环境和自身健康状况的关注与日俱增。金属离子存在于我们生活的各个角落，重金属离子对自然生态系统和人类的生存都会造成严重的威胁，而一些微量金属元素，在人类的生理机能调控中占据着...
- 刘星
- 关键词：化学分析分子识别荧光探针
- 气压及偏压对磁控溅射TaN薄膜力学性能影响被引量：10
- 2013年
- 采用电子回旋共振增强磁控溅射在不锈钢基体上制备六方相TaN薄膜,并研究了气压及偏压对TaN薄膜结构、力学性能的影响。利用X射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜分析薄膜化学结构及形貌,利用纳米压痕、划痕实验仪对薄膜力学性能进行测定。研究表明,制备气压上升影响六方TaN相择优取向,气压、Ar/N2流量比及偏压改变对TaN薄膜力学性能有较大影响。实验证明在1.1×10-1Pa,偏压100V下制备的TaN薄膜具有最高硬度32.4 GPa,最高结合力极限载荷27 N。
- 刘星马国佳孙刚段玉平刘顺华
- 关键词：反应磁控溅射气压偏压力学性能
- 混合固化镧镍合金吸/放氢性能研究
- 镧镍(LaNi5)合金因良好的储氢条件成为当今固态储氢材料的热门研究对象，其不足主要是动力学性能不佳、易粉化等缺陷。本文搭建了低压混合固化吸附储氢实验平台，以LaNi5为吸附剂基质，利用机械球磨法构建镧镍合金-膨胀石墨混...
- 刘星
- 关键词：膨胀石墨储氢性能
- 以Faster R-CNN’s为基础的秘密分享方法
- 本发明属于计算机秘密图像共享技术领域，提供了一种以Faster R‑CNN’s为基础的秘密分享方法。该模型在选取载体图像和阴影图像上考虑了Faster R‑CNN’s在图像检索的鲁棒性和实时性。引入公开图像数据作为图像查...
- 王智慧王宁李建军刘星李豪杰罗钟铉
- 文献传递
- 磁控溅射不同Cr含量Ta-Cr-N薄膜力学及摩擦学性能研究(英文)被引量：1
- 2012年
- 使用Cr,Ta靶材,采用反应磁控溅射制备了不同Cr含量的Ta-Cr-N薄膜,对不同薄膜的化学结构、力学性能、耐磨性进行了分析比较。XRD、SEM、EDS、纳米压痕、球盘摩擦及划痕试验被用于测试薄膜的结构及力学性能。在TaN薄膜中掺杂Cr导致晶格常数及薄膜晶粒大小的降低。当Cr含量增加时,薄膜硬度,结合力及耐磨性都有所改善。当Ta-Cr-N薄膜中Cr含量达到29.5%时,薄膜显示了最高的硬度,最小的晶粒及最低的磨损率。
- 刘星马国佳张林张林孙刚段玉平
- 关键词：磁控溅射CR含量力学性能
- Ta_xMe_(1-x)N硬质薄膜及其DLC复合润滑薄膜的制备与性能研究
- 目前军事上用于制备零部件的主要材料仍然是Cr12MoV等模具钢,但现代武器服役环境的不断复杂化以及制造业的快速发展对零部件提出了越来越高的要求,单一零部件已经不能适应复杂的环境,需要对其进行不同的表面处理。近年来,随着加...
- 刘星
- 文献传递
