您的位置: 专家智库 > >

邝俊峰

作品数:6 被引量:32H指数:3
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划吉林省科技发展计划基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 4篇多晶
  • 4篇多晶硅
  • 2篇电子迁移率
  • 2篇气相
  • 2篇气相沉积
  • 2篇迁移率
  • 2篇驱动电路
  • 2篇晶核
  • 2篇化合物
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 2篇固液
  • 2篇固液界面
  • 2篇硅化合物
  • 2篇薄层
  • 2篇CAT-CV...
  • 2篇催化
  • 2篇催化化学
  • 2篇催化化学气相...
  • 1篇单片

机构

  • 6篇中国科学院长...
  • 1篇吉林大学

作者

  • 6篇邝俊峰
  • 5篇荆海
  • 3篇付国柱
  • 3篇郜峰利
  • 3篇廖燕平
  • 2篇骆文生
  • 2篇缪国庆
  • 2篇邵喜斌
  • 2篇朱长春
  • 2篇黄金英
  • 2篇张志伟
  • 1篇高文涛
  • 1篇高博
  • 1篇蔡克炬
  • 1篇蔡克烜

传媒

  • 2篇液晶与显示
  • 1篇长春理工大学...

年份

  • 1篇2006
  • 2篇2005
  • 3篇2004
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
小尺寸TFT-LCD驱动电路的设计被引量:7
2005年
根据TFT-LCD的工作原理和显示驱动电路的结构,应用硬件设计出小尺寸TFT-LCD的驱动电路,实现图像的清晰显示。介绍了硬件电路设计的实现方法。
张志伟荆海黄金英邝俊峰蔡克烜朱长春
关键词:TFT-LCD栅驱动
多晶硅的定向生长方法
本发明属于半导体材料技术领域,是一种把非晶硅转化成定向多晶硅的方法。本发明是在已脱氢的非晶硅表面溅射一薄层金属镍,薄层厚度为2.0~3.0nm,在400~500℃温度,氮气气氛下退火3~5小时,形成一薄层镍硅化合物NiS...
廖燕平邵喜斌邝俊峰荆海付国柱骆文生郜峰利缪国庆
文献传递
多晶硅的定向生长方法
本发明属于半导体材料技术领域,是一种把非晶硅转化成定向多晶硅的方法。本发明是在已脱氢的非晶硅表面溅射一薄层金属镍,薄层厚度为2.0~3.0nm,在400~500℃温度,氮气气氛下退火3~5小时,形成一薄层镍硅化合物NiS...
廖燕平邵喜斌邝俊峰荆海付国柱骆文生郜峰利缪国庆
文献传递
氢原子在Cat-CVD法制备多晶硅薄膜中的作用被引量:7
2004年
采用钨丝催化化学气相沉积(Cat CVD)方法制备多晶硅(p Si)薄膜,研究氢气稀释率(FR(H2)/(FR(H2)+FR(SiH4))对制备多晶硅薄膜的影响。XRD和喇曼光谱分析分别显示(111)面取向的多晶硅峰及喇曼频移为520cm-1多晶硅峰的强度随氢气稀释率的增加而增强,由喇曼光谱计算的结晶度也有同样的趋势。通过分析测试结果得出,氢原子以表面脱氢、刻蚀弱的Si—Si键,及进入晶格内部进行深度脱氢等方式改善薄膜材料的结晶度。
邝俊峰付国柱高博高文涛黄金英廖燕平荆海
关键词:多晶硅薄膜氢原子催化化学气相沉积
TFT-OLED驱动电路的研究被引量:17
2004年
从OLED的发光原理出发,介绍了OLED器件的结构特点和常用的TFT OLED像素电路的结构。利用TFT OLED行列驱动芯片和控制芯片,通过MCS 51单片机的控制来驱动240×320×3点阵的TFT OLED屏,实现大信息量的图形显示。该设计方案所需外围器件少,硬件结构简单,有利于提高系统的运行效率。介绍了驱动模块的功能和硬件接口电路的设计方法,并给出了单片机的软件流程图。
张志伟荆海邝俊峰蔡克炬郜峰利朱长春
关键词:TFT-OLED像素电路有源驱动单片机控制
Cat-CVD LTPS-TFT制备技术研究
以薄膜晶体管(TFT)为核心的有源驱动技术正成为高品质平板显示的关键技术,具有极大的市场应用前景。目前,TFT主流技术是非晶硅(a-Si)TFT。多晶硅(p-Si)材料与非晶硅材料相比较具有迁移率高、易于掺杂、适用于周边...
邝俊峰
关键词:低温多晶硅催化化学气相沉积薄膜晶体管
文献传递
共1页<1>
聚类工具0