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一种具备自溯源角度的二维光栅标准物质及其制备方法: 本发明涉及一种具备自溯源角度的二维光栅标准物质及其制备方法，该方法具体为：掩膜版基板的设计和加工，掩膜版基板上开有四个窗口(3)，四个相同大小的窗口(3)在掩膜版基板中间区域呈十字形对称分布；掩膜版的制造，采用激光汇聚原...; 程鑫彬邓晓唐朝辉肖光旭尹志珺李同保

一种平板位移式计量型原子力显微镜及其使用方法: 本发明涉及一种平板位移式计量型原子力显微镜及其使用方法，包括自溯源光栅干涉仪(1)、XY纳米位移台(2)、XY粗调台(3)、原子力测头(4)和基座(5)，基座(5)上设有XY粗调台(3)和龙门架(6)，XY纳米位移台(2...; 邓晓

一种用于加速度振动传感器的校准方法: 本发明涉及一种用于加速度振动传感器的校准方法，方法采用一种用于加速度振动传感器的校准装置，方法包括以下步骤：S1、将待校准振动传感器以待校准轴与激振方向平行的姿态固定于水平滑台上；S2、采用信号采集与传输设备，对自溯源光...; 邓晓程鑫彬常郅坤林子超李同保

一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统: 本发明涉及一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统，包括相干光源、光电探测模块、自溯源光栅和信号处理模块，所述自溯源光栅设置于待测的位移运动平台上，所述相干光源、光电探测模块和信号处理模块依次连接，所述相干光源产生的激光经光...; 邓晓程鑫彬林子超顾振杰姚玉林李同保; 文献传递

一种基于拼接原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法: 本发明涉及一种基于拼接原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法，包括以下步骤：基于原子光刻技术在基板上进行一次原子光刻，获得原子光刻光栅样板；至少循环执行一次以下操作：利用光阑的限位作用，保持会聚光指向不变，将主透镜及当前...; 程鑫彬邓晓谭文肖光旭唐朝辉林子超李同保

一种具备自溯源角度的二维光栅标准物质及其制备方法: 本发明涉及一种具备自溯源角度的二维光栅标准物质及其制备方法，该方法具体为：掩膜版基板的设计和加工，掩膜版基板上开有四个窗口(3)，四个相同大小的窗口(3)在掩膜版基板中间区域呈十字形对称分布；掩膜版的制造，采用激光汇聚原...; 程鑫彬邓晓唐朝辉肖光旭尹志珺李同保

原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究被引量：2: 2014年; 利用原子光刻的方法制备纳米结构的光栅已经成为了一种较为成熟的工艺。通过原子与激光驻波场的相互作用,利用原子自生在势能场中的偶极力对原子的密度进行调制,从而得到所需要的光栅结构。利用此种工艺所制备的光栅相对于传统工艺来说具有精度高,光栅常数直接溯源于原子能级。希望能够通过对激光的改良来提升原子沉积结果。通过双层驻波场来提高原子沉积质量已经被多次提到。实验中利用几何光学的方法实现了所需要的新型激光驻波场。并对其汇聚,相干等特性进行了研究,取得了较为满意的结果。为利用双层驻波场来沉积原子打下了基础。; 陈晟马艳张萍萍王建波邓晓肖盛炜马蕊李同保; 关键词：原子光刻几何光学

一种二维原子光刻栅格结构制备方法: 本发明涉及一种二维原子光刻栅格结构制备方法，包括以下步骤：基于原子光刻技术在基板上进行第一次原子光刻，得到一维原子光刻沉积光栅样板；利用光阑的限位作用，保持会聚光指向与光栅样板的平面法向量指向不变，将光栅样板旋转角度θ；...; 程鑫彬邓晓李同保刘杰朱立; 文献传递

基于单路利特罗型光栅干涉仪的超精密位移测量技术研究: 2024年; 基于光栅干涉仪的超精密位移测量技术是先进制造领域的关键共性技术,采用更高刻线密度的光栅是提升光栅干涉仪测量精度与分辨率的有效途径。随着电子束制备光栅技术的提升,采用电子束加工高刻线密度光栅(大于3000线/mm)作为测量基准是优化干涉仪性能的有效途径。利用3333线/mm的高刻线密度电子束直写光栅,采用单路利特罗光栅干涉构型,搭建了原始信号周期为300nm的光栅干涉仪,验证了其在位移测量方面的准确性与稳定性。单路利特罗光栅干涉仪与激光干涉仪比对装置为后续光栅间距标定提供了新的可能性,是电子束直写型高刻线密度光栅在精密位移测量领域的有益探索。; 朱宏宇吴益泽冯婧桐林子超禹静薛栋柏邓晓邓晓; 关键词：计量学光栅干涉仪激光干涉仪

声子极化激元干涉条纹周期的精密测量研究: 2023年; 二维材料由于其独特的物理化学性质,对纳米光子学及光电子学的应用与发展具有重要研究价值。特别是二维材料中声子与光子耦合激发产生的声子极化激元高度局域在纳米尺度,在片上光子学的光学操控和能量传输等前沿研究领域具有极大的应用潜力。同时,光电器件制造进入纳米节点,器件应用对材料表征精度具有纳米级的要求。然而目前对声子极化激元特性分析的关键之一在于测量其干涉条纹周期,测量结果准确性依赖于仪器设备校准。因此,为实现对声子极化激元干涉条纹的精确测量,文中提出构建铬原子自溯源型光栅与二维材料的复合结构,分析金属光栅结构周期性变化对二维材料的声子极化激元耦合增强与调制作用,以及基于该原理实现对声子极化激元干涉条纹周期的精密测量。研究实现了测量干涉条纹周期为(261.01±0.34)nm的亚纳米级高精度测量,相比具有不确定度为4 nm的传统拟合测量方式具有可溯源的计量精度,同时实现了对测量仪器的亚纳米级精密校准。自溯源光栅天然溯源至基本自然常数的特性使得测量结果具备极好的准确性和可靠性,为二维材料在微纳光子学器件领域的应用提供了保障。; 尹志珺王振兴李荃王振兴邓晓雷李华

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邓晓