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戴琳
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1
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供职机构:
云南工业大学
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相关领域:
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梁浩雁
云南工业大学
戴宏
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1999
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近场扫描光子显微镜尖端制作的正交设计
1999年
利用正交设计试验方法,找到了利用化学腐蚀法制作近场扫描光子显微镜尖端的主要影响因素及各因素的最佳组合水平状态,利用正交设计试验所得结果, 可制得曲率半径小于120nm 的尖端.
戴琳
梁浩雁
戴宏
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正交设计
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