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庞子瑞

作品数：5 被引量：0H指数：0
供职机构：河南科技学院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇中文专利

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 3篇抛光
  • 3篇抛光辊
  • 3篇抛光机
  • 3篇后驱动
  • 3篇化学机械抛光
  • 3篇机械抛光
  • 3篇光辊
  • 3篇超薄
  • 3篇衬底
  • 2篇研磨盘
  • 2篇接层
  • 2篇结合剂
  • 2篇金属
  • 2篇金属基
  • 2篇化学机械研磨
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶片
  • 1篇磨料
  • 1篇晶片

机构

  • 5篇河南科技学院

作者

  • 5篇庞子瑞
  • 5篇付素芳
  • 5篇姚建国
  • 5篇马利杰
  • 5篇苏建修
  • 3篇李勇峰
  • 3篇王占奎
  • 2篇郑秋白
  • 2篇郭昊
  • 2篇张竹青
  • 2篇刘志响
  • 1篇程海丰

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2013
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
一种用于化学机械抛光超薄柔性显示衬底的抛光机
一种用于化学机械抛光超薄柔性显示衬底的抛光机，本实用新型的技术方案要点是，一种用于化学机械抛光超薄柔性显示衬底的抛光机，在放卷辊的后方设置有水平辊，水平辊的后方设置有后驱动轮装置，后驱动轮装置的后方设置有抛光辊机构，抛光...
苏建修王占奎姚建国李勇峰庞子瑞马利杰程海丰付素芳
一种用于化学机械抛光超薄柔性显示衬底的抛光机
一种用于化学机械抛光超薄柔性显示衬底的抛光机，本发明的技术方案要点是，一种用于化学机械抛光超薄柔性显示衬底的抛光机，在放卷辊的后方设置有水平辊，水平辊的后方设置有后驱动轮装置，后驱动轮装置的后方设置有抛光辊机构，抛光辊机...
苏建修王占奎姚建国李勇峰庞子瑞马利杰郭昊付素芳
一种SiC单晶片研磨工序用固结磨料化学机械研磨盘
一种SiC单晶片研磨工序用固结磨料化学机械研磨盘。本发明的技术方案要点是，本发明的技术方案要点是，一种SiC单晶片研磨工序用固结磨料化学机械研磨盘，它包括固结磨料层、联接层、金属基体层，固结磨料层按照重量百分比含量包括：...
苏建修庞子瑞马利杰付素芳姚建国郑秋白刘志响张竹青
文献传递
一种用于化学机械抛光超薄柔性显示衬底的抛光机
一种用于化学机械抛光超薄柔性显示衬底的抛光机，本发明的技术方案要点是，一种用于化学机械抛光超薄柔性显示衬底的抛光机，在放卷辊的后方设置有水平辊，水平辊的后方设置有后驱动轮装置，后驱动轮装置的后方设置有抛光辊机构，抛光辊机...
苏建修王占奎姚建国李勇峰庞子瑞马利杰郭昊付素芳
文献传递
一种SiC单晶片研磨工序用固结磨料化学机械研磨盘
一种SiC单晶片研磨工序用固结磨料化学机械研磨盘。本发明的技术方案要点是，本发明的技术方案要点是，一种SiC单晶片研磨工序用固结磨料化学机械研磨盘，它包括固结磨料层、联接层、金属基体层，固结磨料层按照重量百分比含量包括：...
苏建修庞子瑞马利杰付素芳姚建国郑秋白刘志响张竹青
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