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罗晓东
作品数:
1
被引量:2
H指数:1
供职机构:
苏州大学物理科学与技术学院(能源学院)江苏省薄膜材料重点实验室
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发文基金:
江苏省高校自然科学研究项目
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相关领域:
理学
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合作作者
狄国庆
苏州大学物理科学与技术学院能源...
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1篇
苏州大学
作者
1篇
罗晓东
1篇
狄国庆
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物理学报
年份
1篇
2012
共
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溅射制备Ge,Nb共掺杂窄光学带隙和低电阻率的TiO2薄膜
被引量:2
2012年
采用射频磁控溅射技术制备了Ge,Nb共掺杂的锐钛矿结构TiO_2薄膜,详细探讨了薄膜的结构、电阻率及光学带隙等性质随Ge,Nb掺杂量、溅射功率和热处理温度等参数的变化,发现Ge,Nb共掺杂可以同时调节TiO_2薄膜的光学带隙和电阻率.体积分数约为6%Nb和20%Ge的共掺杂TiO_2薄膜电阻率由10~4Ω/cm减小至10^(-1)Ω/cm,光学带隙由3.2 eV减小至1.9 eV.退火后掺杂TiO_2薄膜不仅显示更低的电阻率,还表现出更强的可见-红外光吸收.结果表明,改变Ge,Nb的掺杂量和退火条件能够制备出电阻率和带隙都可调的TiO_2薄膜.
罗晓东
狄国庆
关键词:
电阻率
光学带隙
磁控溅射
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