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彭争春
作品数:
4
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H指数:0
供职机构:
华中科技大学
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相关领域:
电子电信
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合作作者
高阳
华中科技大学
廖广兰
华中科技大学
史铁林
华中科技大学
汪威
华中科技大学
王中林
华中科技大学
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机构
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华中科技大学
作者
4篇
史铁林
4篇
廖广兰
4篇
彭争春
4篇
高阳
2篇
王中林
2篇
汪威
年份
2篇
2012
2篇
2010
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一种仿生微纳结构制备方法
本发明提供一种自顶向下与自底向上相结合的仿生微纳结构制备方法,具体通过以下步骤实现:首先采用自顶向下的方法制备出微尺度结构作为基底,主要包括镀膜生长、光刻、干法刻蚀等,然后在微尺度基底结构的顶部或者侧壁有选择地蒸发镀覆纳...
廖广兰
王中林
彭争春
史铁林
高阳
一种仿蝴蝶磷翅分级多层非对称微纳结构的制备方法
本发明提供一种仿蝴蝶磷翅分级多层非对称微纳结构的制备方法,具体通过以下步骤实现:选用<111>单晶硅片,采用镀膜生长、两步光刻、反应离子干法刻蚀,并结合感应耦合等离子深刻蚀,得到侧壁保留有足够深度波纹、且相邻...
廖广兰
彭争春
史铁林
高阳
汪威
一种仿生微纳结构制备方法
本发明提供一种自顶向下与自底向上相结合的仿生微纳结构制备方法,具体通过以下步骤实现:首先采用自顶向下的方法制备出微尺度结构作为基底,主要包括镀膜生长、光刻、干法刻蚀等,然后在微尺度基底结构的顶部或者侧壁有选择地蒸发镀覆纳...
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一种仿蝴蝶磷翅分级多层非对称微纳结构的制备方法
本发明提供一种仿蝴蝶磷翅分级多层非对称微纳结构的制备方法,具体通过以下步骤实现:选用<111>单晶硅片,采用镀膜生长、两步光刻、反应离子干法刻蚀,并结合感应耦合等离子深刻蚀,得到侧壁保留有足够深度波纹、且相邻...
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