陈春
- 作品数：9 被引量：23H指数：3
- 供职机构：江苏大学材料科学与工程学院更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺一般工业技术电气工程更多>>
- 磁控溅射法在硬质合金衬底上沉积CN<,X>薄膜的研究
- 本文采用直流磁控和射频磁控反应溅射法，在硬质合金（YG8）衬底上沉积CNX薄膜和CNX/TIN， CNX/SI3N4复合薄膜。对其组织结构、摩擦磨损性能、薄膜，衬底的结合强度进行研究，探讨成分与组织之间的关系以及组织、性...
- 陈春
- 关键词：CNX薄膜磁控溅射硬质合金
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- 基片偏压对直流反应磁控溅射CNx薄膜性能的影响被引量：1
- 2007年
- 采用直流反应磁控溅射方法,在不同偏压条件下,在硬质合金基片(YG8WC+8%Co)上沉积了氮化碳薄膜,并通过X光电子能谱仪、涂层附着力自动划痕仪和摩擦磨损试验机研究了CNx薄膜与基体的附着力及其摩擦学性能。结果表明,基片偏压对附着力和薄膜的摩擦学性能有一定的影响,在偏压为-100V时沉积的CNx薄膜摩擦系数较小,具有良好的减摩作用,对硬质合金的附着力最好。
- 唐利强刘军陈志刚陈春吴燕杰
- 关键词：CNX薄膜磁控溅射硬质合金附着力摩擦学性能
- Sol-gel法制备PZT铁电薄膜的疲劳影响因素研究进展被引量：3
- 2004年
- 简述了PZT铁电薄膜在制备和应用当中遇到的问题。围绕提高薄膜的疲劳性能,介绍了PZT铁电薄膜近年来在热处理、底电极、过渡层和掺杂等方面的研究进展,并分析了它们对材料电性能和疲劳性能的影响。最后提出了展望。
- 张兴国刘军陈春胡道甫
- 关键词：影响因素PZT铁电薄膜SOL-GEL法电性能
- 磁控溅射法制备氮化碳薄膜的研究进展被引量：2
- 2005年
- 简要评述了磁控溅射法制备氮化碳（CNx）薄膜的研究进展的现状，以及磁控溅射法制备氮化碳（CNx）薄膜过程中工艺参数对薄膜的结构和性能的影响，展望了氮化碳研究的发展趋势。
- 陈春刘军毕凯陈志刚李忠学张兴国
- 关键词：磁控溅射氮化碳
- CNx薄膜的摩擦学性能研究进展被引量：4
- 2004年
- CNx薄膜具有优异的机械与摩擦学性能,很适合作为理想的耐磨保护涂层以及固体润滑剂,具有十分广阔的应用前景。概述了不同学者制备的CNx薄膜的摩擦学性能,采用综合对比分析方法,在比较摩擦试验结果的同时,注意分析薄膜的磨损情况,并结合对薄膜与摩擦副以及磨屑的成分、显微结构、键合以及摩擦过程中相变等情况的分析与比较,形成对CNx薄膜摩擦过程的基本分析,对成分、结构、环境因素、摩擦试验参数等对CNx薄膜摩擦学行为的影响及相关机理进行了总结和讨论。研究表明CNx薄膜的摩擦学性能与其自身的成分、结构(键合类型)、环境因素以及试验参数等密切相关,在对CNx薄膜进行摩擦学性能评价分析时,需要注意这些因素的影响。
- 毕凯刘军陈春
- 关键词：CNX薄膜摩擦学行为磨损
- 高速钢上氮化碳薄膜附着力及其影响因素的研究被引量：11
- 2005年
- 氮化碳(CNx)薄膜具有优异的力学性能和摩擦学性能,很适合用作耐磨保护涂层及固体润滑剂。采用磁控溅射法在高速钢(HSS)基片上制备了氮化碳薄膜,并以划痕法对其附着力进行了研究。结果表明:有TiN中间层的CNx复合薄膜比无TiN中间层的附着性能有较大的提高。CNx/TiN复合薄膜附着性能较好的主要原因是:对基片严格的清洁处理,采用磁控溅射法对基片施加了合适的负偏压,沉积了合适的中间过渡层;工艺参数合理。
- 毕凯刘军陈春
- 关键词：磁控溅射氮化碳薄膜附着力影响因素
- 高速钢上磁控溅射氮化碳薄膜的摩擦学性能研究
- 2007年
- 采用磁控溅射法在高速钢(HSS)基片上制备了氮化碳(CNx/TiN)复合薄膜,并采用球-盘式摩擦试验法对其摩擦学性能进行了研究。通过分析薄膜的摩擦系数变化曲线,并辅之以薄膜摩擦表面形貌的显微观察分析以及EDS微区成分分析,对薄膜的摩擦学性能进行了表征。结果表明,CNx/TiN复合薄膜与对偶球(Si3N4)之间的摩擦系数约为0.3。具有较好的减摩性能,但复合薄膜的耐磨性能受制备工艺的影响较大。沉积合适的TiN/Ti过渡层可以显著提高薄膜的耐磨性能。薄膜的磨损机理主要为磨粒磨损与黏着磨损以及疲劳磨损相互结合。
- 毕凯刘军陈春
- 关键词：氮化碳薄膜磁控溅射摩擦学性能高速钢
- 衬底材料和溅射方法对CN_x薄膜膜基结合力的影响被引量：3
- 2006年
- 分别将 W18Cr4V 高速钢和 YG8硬质合金作为衬底材料,用直流磁控溅射和射频磁控溅射法制备了 CN_x薄膜,用划痕法测定了薄膜和衬底材料之间的膜基结合力。结果表明:YG8硬质合金作为衬底材料时薄膜的膜基结合力较高;对 YG8硬质合金衬底材料进行适当的腐蚀处理或溅射一层 TiN 中间层,薄膜的膜基结合力明显提高;对于两种衬底材料,射频磁控溅射法制备的薄膜膜基结合力明显高于直流磁控溅射法制备的薄膜。
- 刘军陈志刚陈春毕凯
- 关键词：磁控溅射衬底CNX薄膜结合力
- 氮化碳薄膜的红外光谱(FTIR)特性分析被引量：3
- 2006年
- 对采用磁控溅射法制备的氮化碳(CNx)薄膜进行了傅里叶变换红外光谱(FTIR)的测量与特性分析。结果表明,薄膜中含有C N键、C N键以及C—N键,但样品中碳氮键总体数量偏少,N含量偏低,N/C比偏低。改变制备工艺条件,薄膜中原子的化学结合状况会发生相应的变化。
- 毕凯刘军陈春
- 关键词：氮化碳薄膜红外光谱磁控溅射
