邵淑英
- 作品数：37 被引量：159H指数：9
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术化学工程更多>>
- 氧分压和沉积速率对YSZ薄膜残余应力的影响被引量：4
- 2009年
- 采用摩尔分数为7%的Y2O3掺杂的ZrO2混合烧结料为原料,在不同的氧分压和沉积速率下用电子束蒸发方法沉积氧化钇稳定氧化锆(YSZ)薄膜样品。利用ZYGO MarkⅢ-GPI数字波面干涉仪对YSZ薄膜的残余应力进行了研究,讨论了氧分压和沉积速牢等工艺参节对残余应力的影响。实验结果表明,不同氧分压和沉积速率下,YSZ薄膜的残余应力均为张应力;应力值随氧分压的升高先增大后减小,随沉积速率的增加单调增加。热应力对薄膜所呈现的张应力性质起着决定性作用,同时应力值的大小受本征应力和附加应力的影响。通过对样品的X射线衍射(XRI))测试,结合薄膜做结构的变化,对应力的形成原因进行了解释。
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- 关键词：残余应力YSZ薄膜氧分压沉积速率
- ZrO_2薄膜残余应力实验研究被引量：32
- 2004年
- 采用ZYGOMarkⅢ GPI数字波面干涉仪对电子束蒸发方法制备的ZrO2 薄膜中的残余应力进行了研究 ,讨论了沉积温度、沉积速率等工艺参量对ZrO2 薄膜残余应力的影响。实验结果表明 :随着沉积温度及沉积速率的升高 ,ZrO2 薄膜中残余应力状态由张应力变为压应力 ,且压应力值随着沉积温度升高而增大。同时用X射线衍射技术测量分析了不同沉积条件下ZrO2 薄膜的微结构组织 ,探讨了ZrO2
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- 关键词：薄膜物理沉积温度沉积速率电子束蒸发法X射线衍射技术
- 薄膜应力的产生机理与控制技术研究
- 薄膜应力是薄膜生产、制备中的一种普遍现象,几乎所有的薄膜都处于一定的应力状态.薄膜应力是影响光学元器件甚至整个光学系统性能及可靠性的重要因素,过大的张应力或压应力都会引起薄膜表面破损,使生产成本不断提高,极大地限制了光学...
- 邵淑英
- 关键词：应力控制技术
- 文献传递
- 氧分压对电子束蒸发SiO_2薄膜机械性质和光学性质的影响被引量：5
- 2005年
- 采用ZYGOMarkⅢ- GPI数字波面干涉仪、NamoScopeⅢa型原子力显微镜对不同氧分压下电子束蒸发方法制备的SiO2 薄膜中的残余应力及表面形貌进行了研究,结果发现:随着氧分压的增大,薄膜中的压应力值逐渐减小,最后变为张应力状态;同时薄膜的表面粗糙度也随着氧分压的增大而逐渐增大 另外,折射率对氧分压也非常敏感,随着氧分压的增大呈现出了减小的趋势 这些现象主要是由于氧分压的改变使得SiO薄膜结构发生了变化引起的。
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- 关键词：SIO2薄膜氧分压表面形貌电子束蒸发
- 沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响被引量：8
- 2008年
- 采用自制掺摩尔分数12%的Y2O3的ZrO2混合颗粒料为原料,在不同的沉积温度下用电子束蒸发方法沉积氧化钇稳定氧化锆(YSZ)薄膜样品。利用ZYGOMarkⅢ-GPI数字波面干涉仪对氧化钇稳定氧化锆薄膜的残余应力进行了研究,讨论了沉积温度对残余应力的影响。实验结果表明:随沉积温度升高,氧化钇稳定氧化锆薄膜中残余应力状态由张应力变为压应力,且压应力值随着沉积温度升高而增大;用X射线衍射仪表征了不同沉积温度下氧化钇稳定氧化锆薄膜的微观结构,探讨了薄膜微观结构与其应力的对应关系,并对比了纯ZrO2薄膜表现出的应力状态。
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- 关键词：薄膜光学残余应力沉积温度
- 薄膜应力测量装置
- 一种薄膜应力测量装置，该装置包括激光器、供待测基片设置的精密电动导轨及其控制器、光电位敏探测器、A/D数据采集卡和计算机，所述的激光器、精密电动导轨、光电位敏探测器和A/D数据采集卡安装在一平台上，所述的激光器发出的光束...
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- 文献传递
- 一种玻璃基片镀膜后面形可控的热处理方法
- 本发明涉及一种玻璃基片镀膜后面形可控的热处理方法，该方法属于光学镀膜领域，主要针对玻璃基片在光学加工过程中产生的表面应力导致面形稳定周期长,在后续镀膜加热过程中容易发生不确定形变，引起镀膜元件面形参数不可控的问题而发明的...
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- 文献传递
- 一种中波红外增透膜设计及制备方法
- 本发明公开了一种中波红外增透膜设计及制备方法，包括步骤：膜系设计，基片清洗，基片加热，膜系镀制。基片材料为折射率为1～5的红外窗口玻璃，高折射率镀膜材料的折射率为1.5～3，低折射率镀膜材料的折射率为1～1.5，使用离子...
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- 文献传递
- 薄膜应力测量装置及其测量方法
- 一种薄膜应力测量装置及其测量方法，该装置包括激光器、供待测基片设置的精密电动导轨及其控制器、光电位敏探测器、A/D数据采集卡和计算机，所述的激光器、精密电动导轨、光电位敏探测器和A/D数据采集卡安装在一平台上，所述的激光...
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- 文献传递
- 半球谐振子金属化镀膜均匀性的评估方法
- 一种半球谐振子金属化镀膜均匀性的评估方法，本发明能够有效地评估谐振子膜厚的整体均匀性分布，避免重复试验，节省了成本，在半球谐振子加工、调试领域具有重要应用。
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