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辛桂珍

作品数：24 被引量：0H指数：0
供职机构：华为技术有限公司更多>>
相关领域：自动化与计算机技术核科学技术理学文化科学更多>>

合作作者

文献类型

  • 24篇中文专利

领域

  • 3篇自动化与计算...
  • 1篇经济管理
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇核科学技术
  • 1篇文化科学
  • 1篇理学

主题

  • 6篇通信
  • 5篇网络
  • 4篇移动终端
  • 4篇终端
  • 4篇发送
  • 3篇时钟
  • 3篇腔体
  • 3篇芯片
  • 3篇接收端
  • 3篇发送端
  • 2篇单板
  • 2篇等离子
  • 2篇短距离
  • 2篇短距离通信
  • 2篇信号
  • 2篇信号质量
  • 2篇业务数据
  • 2篇液晶
  • 2篇液晶显示
  • 2篇真空设备

机构

  • 24篇华为技术有限...

作者

  • 24篇辛桂珍
  • 5篇潘时林
  • 4篇季魁文
  • 4篇肖长贵
  • 3篇邓清珊
  • 2篇王仁哲
  • 2篇孔飞
  • 2篇卢志华
  • 1篇吴开涛
  • 1篇崔秀国
  • 1篇王洋
  • 1篇许继业
  • 1篇李琳
  • 1篇刘浩东
  • 1篇刘宗文

年份

  • 1篇2025
  • 10篇2024
  • 1篇2023
  • 2篇2021
  • 2篇2019
  • 1篇2016
  • 2篇2009
  • 1篇2008
  • 3篇2007
  • 1篇2006
共 24 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
在包交换网络中发送端和接收端进行时钟同步的方法和系统
本发明提供了一种在包交换网络中发送端和接收端进行时钟同步的方法和系统，该方法主要包括：发送端将需要发送的时钟相对于系统时钟的时钟信息设置在数据包中，并将该数据包发送到接收端；所述接收端获取接收到的所述数据包中的时钟信息，...
崔秀国辛桂珍
文献传递
一种保证网络正确配置的方法及装置
本发明提供了一种保证网络正确配置的方法及装置。属于通信领域。为了解决现有技术中网络收发两端信息配置不正确时造成的时钟不同步或者业务不通等问题，本发明提供了一种保证网络正确配置的方法，所述方法包括发送端信息配置、封装信息并...
肖长贵季魁文辛桂珍
文献传递
数据处理的方法、装置和系统芯片
一种数据处理的方法、装置(1400)和芯片系统(100)，该芯片系统(100)包括系统总线、耦合于该系统总线的至少一个处理器(1410)、和耦合于该芯片系统(100)的安全元件(40)、第一存储器(1430)和第二存储器...
潘时林辛桂珍
文献传递
一种头戴式设备的调焦控制方法及相关设备
本发明实施例公开了一种头戴式设备的调焦控制方法及相关设备，其特征在于，所述方法包括：响应于目标操作，获取用户的注视信息；所述注视信息包括所述用户通过所述头戴式设备注视电子设备的显示屏的注视距离，和注视时长、注视内容、注视...
卢江林孔飞吴开涛辛桂珍
清洁晶圆的装置和清洁晶圆的方法
本申请提供了一种清洁晶圆的装置和清洁晶圆的方法，清洁晶圆的装置包括：第一腔体、第二腔体、第三腔体和晶圆传输装置，第二腔体与第一腔体、第三腔体腔连接，晶圆传输装置用于传递晶圆；第一腔体内设置有第一喷吹装置；第二腔体内设置有...
张介如曾杰杨荣陈彦霖郝艳仲辛桂珍
近场通信方法及移动终端
本发明实施例公开了一种近场通信方法及移动终端，AID路由表存储在与AP的安全模式相对应的存储空间中，AID路由表中包括至少一个AID与至少一个目的地址之间的一一对应关系。当AP接收到NFC控制器发送的用于发起NFC业务的...
潘时林卢志华辛桂珍
一种同步方法和系统
本发明公开了一种同步方法，包括：分组交换网络中的第一网元设置与其各个端口相连的链路的权值，并初始化本网元的扩展同步状态信息ESSM；所述的第一网元向与其相连的第二网元发送ESSM；所述的第二网元根据端口的链路的权值和接收...
王仁哲辛桂珍
文献传递
用于清洗的装置和方法
本公开的各实施例提供了一种用于清洗的装置和方法。该装置包括：清洗腔体，被配置为容纳用于清洗晶圆或光罩的清洗液体；声波发生器阵列，被布置在清洗腔体的底部以向清洗液体施加声波，声波发生器阵列包括第一组声波发射器和第二组声波发...
曾杰 张介如 杨荣 韩若枫 戴凤钊刘宗文辛桂珍
实现中央控制单元对单板集中控制的方法和系统
本发明涉及一种实现中央控制单元对单板集中控制的方法，其核心是：首先将并行信号转换到串行控制总线上；然后基于所述串行控制总线实现中央控制单元对单板的集中控制。通过本发明，能够使用较少的控制总线实现中央控制单元对单板的集中控...
肖长贵季魁文辛桂珍
文献传递
一种电子束检测设备和检测方法
一种电子束检测设备和检测方法，该电子束检测设备包括第一处理腔(101)和第二处理腔(102)；其中，第一处理腔(101)，用于采用物理气相沉积的方式，在基材的表面形成碳膜；第二处理腔(102)，用于对表面沉积有碳膜的基材...
曾杰辛桂珍时小山王洋郝艳仲刘启涛关淘淘
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