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赵恒

作品数：28 被引量：18H指数：2
供职机构：成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：金属学及工艺电子电信交通运输工程化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 25篇专利
  • 3篇期刊文章

领域

  • 2篇化学工程
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇电子电信
  • 2篇交通运输工程
  • 1篇经济管理

主题

  • 18篇抛光
  • 17篇光学
  • 13篇面形
  • 9篇光学元件
  • 7篇口径
  • 5篇全口径
  • 5篇非球面
  • 4篇抛光工艺
  • 4篇抛光装置
  • 4篇摆式
  • 3篇调节机构
  • 3篇元件
  • 3篇填充层
  • 3篇离轴
  • 3篇光学加工
  • 3篇非球面光学
  • 3篇保持架
  • 2篇动轮
  • 2篇循环水泵
  • 2篇应力

机构

  • 28篇成都精密光学...

作者

  • 28篇赵恒
  • 25篇鄢定尧
  • 25篇马平
  • 20篇谢磊
  • 19篇胡庆
  • 19篇黄金勇
  • 17篇王刚
  • 16篇何祥
  • 13篇高胥华
  • 13篇鲍振军
  • 11篇黄颖
  • 10篇朱衡
  • 9篇蔡红梅
  • 8篇何曼泽
  • 8篇周佩璠
  • 4篇胡江川
  • 3篇樊非
  • 3篇杨佳
  • 3篇周恒
  • 3篇张贤红

传媒

  • 2篇强激光与粒子...
  • 1篇光学精密工程

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2021
  • 4篇2020
  • 6篇2019
  • 4篇2018
  • 3篇2017
  • 2篇2016
  • 2篇2015
  • 3篇2014
  • 2篇2013
共 28 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种用于焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法
本发明公开了一种可用于球面、非球面反射镜或透镜的焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法，特别适用于大口径长焦距光学元件的焦距检测，涉及光学检测领域。沿光路方向该装置主要包括光源（1）、光束聚焦透镜组（2）、...
赵恒崔建朋胡庆刘杰马平鄢定尧黄金勇蔡超王刚何祥谢磊
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主动平移式双面抛光机
本发明公开了一种主动平移式双面抛光机，属于光学元件加工领域。它包括下盘、工件环、上盘、机座、主动轮和主臂，机座一侧设有可前后移动的平移装置；平移装置上装有蟹钳和挡杆。本发明与传统的双面抛光机相比，集平移抛、环形抛于一体，...
马平鄢定尧何曼泽黄颖鲍振军周佩璠赵方赵恒谢磊黄军勇
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一种光学元件抛光工具及抛光方法
本发明公开一种光学元件抛光工具，包括连接杆、磨盘、压圈和抛光膜层，连接杆的上端与抛光机构连接，连接杆的下端与磨盘的顶部连接，连接杆的中心轴线与磨盘中心线重合，磨盘的底部中心设置向下凸起的凸台，抛光膜层包覆在凸台上，压圈中...
黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒高胥华何祥马平鄢定尧
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离轴非球面光学加工装置
本发明公开了一种离轴非球面光学加工装置，属于光学元件加工技术领域。它包括加工平台、变频电机、驱动轴和摆动轴；驱动轴依次与摆幅调节机构、驱动臂连接；摆动轴上设有摆臂座；摆臂座上设有摆臂；驱动臂经关节轴承与连杆连接，连杆与摆...
马平鄢定尧鲍振军蔡红梅朱衡樊非何曼泽赵恒周佩璠黄金勇黄颖
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一种用于调节环形抛光机沥青盘表面面形的装置
本发明公开了一种用于调节环形抛光机沥青盘表面面形的装置，包括铸铁盘，其固定设置于环形抛光机的大理石盘上方，所述铸铁盘的顶部浇注有沥青抛光膜层，待加工光学元件和校正盘均设置于所述沥青抛光膜层上；热电阻温度传感器，其设置于所...
黄金勇谢磊高胥华胡庆王刚赵恒蔡超何祥马平鄢定尧张云帆
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一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统
本发明实施例公开了一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统。其中，方法包括根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数计算驻留时间函数，以确定第一加工路径；根据第一加工路径对其进行抛光加工，直至其波前PV值不大于预设PV阈...
黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒马平鄢定尧高胥华
一种抛光工艺
本申请公开了一种抛光工艺，包括：在高温条件下，将抛光模与抛光器件表面压合，使抛光模完全复制抛光器件表面形状，然后向抛光模与抛光模基座之间注入填充层，加压固定后，抛光模与抛光模基座粘结，待填充层固定成型后控制所述抛光模对抛...
蔡红梅鄢定尧马平鲍振军朱衡胡江川赵恒樊飞颜子钦何曼泽周佩璠黄颖胡庆高胥华杨佳张贤红周恒史亚俊智
一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统
本发明实施例公开了一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统。其中，方法包括根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数计算驻留时间函数，以确定第一加工路径；根据第一加工路径对其进行抛光加工，直至其波前PV值不大于预设PV阈...
黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒马平鄢定尧高胥华
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平面摇摆式抛光去除模型研究被引量：2
2014年
为了完善平面摇摆式抛光的理论并指导加工,基于Preston方程建立了平面摇摆式加工的去除模型,并使用该模型在Matlab中仿真计算元件上各点在不同加工参数情况下的去除量,最终得到不同加工参数情况下所产生的不同去除形貌。通过控制不同参数在430mm×430mm平面石英元件上进行抛光实验,验证去除模型的正确性,对比相同参数下仿真得到的去除形貌和加工后检测得到的面形图可知该去除模型能够正确预测不同加工参数时的去除量,从而证实了该模型能够准确、有效地指导摇摆式抛光。
赵恒鄢定尧蔡红梅鲍振军
关键词：加工参数
抛光胶制备装置
本实用新型公开了一种抛光胶制备装置，属于光学加工技术领域。它包括桶体、桶内层及二者之间的保温层及上部的桶盖，桶体上部设有上支架，上支架上安装有电机、减速器及搅拌桨叶，桶体下部设有支撑脚，桶体底部设有出料管及出料阀；桶体中...
赵恒蔡超王刚马平鄢定尧谢磊何祥朱衡鲍振军
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