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厦门理工学院光电与通信工程学院福建省光电技术与器件重点实验室

作品数:14 被引量:8H指数:2
相关作者:黄章超更多>>
相关机构:厦门大学物理与机电工程学院半导体光子学研究中心厦门大学物理与机电工程学院杭州电子科技大学电子信息学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金福建省自然科学基金厦门市科技计划项目更多>>
相关领域:理学电子电信机械工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 14篇中文期刊文章

领域

  • 9篇理学
  • 4篇电子电信
  • 3篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇第一性原理
  • 2篇电场
  • 2篇气体传感
  • 2篇脉冲
  • 2篇晶体
  • 2篇
  • 2篇CDZNTE
  • 2篇CDZNTE...
  • 2篇传感
  • 2篇高性能
  • 1篇单晶
  • 1篇第一性原理计...
  • 1篇第一性原理研...
  • 1篇电场分布
  • 1篇电磁
  • 1篇电磁功率
  • 1篇电磁力
  • 1篇选区
  • 1篇氧化镓
  • 1篇氧气

机构

  • 14篇厦门理工学院
  • 4篇厦门大学
  • 2篇杭州电子科技...
  • 1篇集美大学
  • 1篇西北工业大学
  • 1篇大叶大学

作者

  • 2篇李成
  • 2篇陈松岩
  • 1篇朱文章
  • 1篇沈汉鑫
  • 1篇许英朝
  • 1篇黄燕华
  • 1篇张文定
  • 1篇林洪沂
  • 1篇黄章超
  • 1篇王衡
  • 1篇阮剑剑
  • 1篇孙栋

传媒

  • 4篇物理学报
  • 2篇半导体技术
  • 2篇光学学报
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇厦门大学学报...
  • 1篇原子与分子物...
  • 1篇大学物理
  • 1篇物理与工程
  • 1篇激光与红外

年份

  • 2篇2023
  • 3篇2022
  • 1篇2021
  • 4篇2020
  • 2篇2019
  • 2篇2017
14 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
能量法求解电磁力的理论基础
2021年
为了证明磁场能公式适用于媒质运动的情况,在磁准静态条件下,推导了磁场力对运动媒质做的机械功率和感应电场对自由电流做的功率,验证磁场能量公式满足普遍情况下的功能关系。结果表明,对于磁各向同性的刚性媒质,磁场能与媒质运动和电流建立的过程无关,只与系统的状态有关。该结论为虚位移法计算磁场力或磁力矩提供重要的理论依据。
骆超艺
关键词:电磁力电磁功率
高性能SOI基GePIN波导光电探测器的制备及特性研究被引量:3
2017年
本文报道了在SOI衬底上外延高质量单晶Ge薄膜并制备高性能不同尺寸Ge PIN波导光电探测器.通过采用原子力显微镜、X射线衍射、拉曼散射光谱表征外延Ge薄膜的表面形貌、晶体质量以及应变参数,结果显示外延Ge薄膜中存在约0.2%左右的张应变,且表面平整,粗糙度为1.12 nm.此外,通过暗电流、光响应度以及3 dB带宽的测试来研究波导探测器的性能,结果表明尺寸为4μm×20μm波导探测器在-1 V的反向偏压下暗电流密度低至75 mA/cm^2,在1.55μm波长处的响应度为0.58 A/W,在-2 V的反向偏压下的3 dB带宽为5.5 GHz.
王尘许怡红李成林海军
关键词:波导光电探测器
提高单层GeSe对H_(2)O气体传感性能的第一性原理研究
2023年
采用第一性原理计算方法,通过在单层GeSe上施加双轴向应变、外加电场、掺Ag等途径来探索提高单层GeSe对H_(2)O分子传感性能的有效方法,并从微观角度阐明内在机理.计算结果表明,-1.0 V/的外加电场能有效降低H_(2)O分子在单层GeSe的吸附能并使二者之间的电荷转移量增加11倍,显著提高了单层GeSe对H_(2)O分子的响应速度和敏感性.研究结果为进一步设计并制成二维GeSe基湿度传感器提供了理论依据.
庄芹芹杨伟煌
关键词:第一性原理计算气体传感外加电场
硅缓冲层提高选区外延生长硅基锗薄膜质量
2019年
研究了Si缓冲层对选区外延Si基Ge薄膜的晶体质量的影响。利用超高真空化学气相沉积系统,结合低温Ge缓冲层和选区外延技术,通过插入Si缓冲层,在Si/SiO_2图形衬底上选择性外延生长Ge薄膜。采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)表征了Ge薄膜的晶体质量和表面形貌。测试结果表明,选区外延Ge薄膜的晶体质量比无图形衬底外延得到薄膜的晶体质量要高;选区外延Ge薄膜前插入Si缓冲层得到Ge薄膜具有较低的XRD曲线半高宽以及表面粗糙度,位错密度低至5.9×10~5/cm^2,且薄膜经过高低温循环退火后,XRD曲线半高宽和位错密度进一步降低。通过插入Si缓冲层可提高选区外延Si基Ge薄膜的晶体质量,该技术有望应用于Si基光电集成。
许怡红王尘陈松岩李成
关键词:超高真空化学气相沉积
Au纳米颗粒结构参数优化制备高性能纳米晶存储器
2022年
高性能纳米晶存储器是下一代非易失性存储器的潜在候选者,而纳米颗粒结构参数严重影响纳米晶存储器的性能。结合射频磁控溅射和快速热退火技术制备了四组不同平均尺寸和数密度的Au纳米颗粒,颗粒平均尺寸为4.6~17.3 nm,数密度为1.4×10^(11)~1×10^(12)cm^(-2)。而后在此基础上以Au纳米颗粒作为器件的存储层,制备了四组Al/TaN/HfO_(2)/Au-纳米晶(NC)/SiO_(2)/Si结构的纳米晶存储器,研究并分析了不同结构参数Au纳米颗粒对器件存储性能的影响。结果表明,当Au纳米颗粒平均尺寸约为8 nm、数密度约为6.3×10^(11)cm^(-2)时,纳米晶存储器在±12 V的扫描电压范围内获得了高达11.8 V的存储窗口,存储容量最大,且预计器件在10年后的电荷损失率约为24%,具有较好的电荷保持特性。
许怡红陈松岩李成
关键词:金纳米颗粒结构参数
掺Nd^(3+)混晶全固态激光器研究进展
2023年
基于钕离子掺杂(Nd^(3+))的石榴石激光增益介质,为固体激光器的发展带来了新的研究方向。本文结合相关工作,详细全面地叙述了近年来掺钕混晶全固态激光器在单波长激光输出、多波长激光输出和脉冲激光输出方面的研究现状。以Nd∶LuYAG、Nd∶GdYAG和Nd∶GdLuAG为主要研究对象,分析总结了这三种混晶的研究价值,展望了Nd^(3+)掺杂石榴石混合晶体的发展前景。
崔琴林洪沂黄晓桦
关键词:被动调Q
氧气退火温度对室温脉冲激光沉积氧化镓薄膜特性的影响被引量:2
2022年
高质量氧化镓薄膜的获得是实现高性能氧化镓电子和光电子器件的重要前提条件之一。采用脉冲激光沉积技术,在室温下蓝宝石衬底上沉积氧化镓薄膜,并在氧气氛围下进行不同温度的退火,研究氧化镓薄膜特性的变化规律。结果表明:室温下沉积的氧化镓薄膜为非晶态,随着退火温度的升高,薄膜结晶程度变高,禁带宽度变大;退火前后氧化镓薄膜中都存在两种氧化价态镓,说明薄膜处于晶格氧缺失的状态;随着退火温度的升高,低价态镓比例减少,晶格氧的比例增加,薄膜质量升高;然而,过高的退火温度导致衬底中的铝扩散进入薄膜,薄膜质量变差,室温下生长的薄膜质量较差且与衬底之间的热膨胀系数和晶格失配,导致氧化镓薄膜高温退火时出现开裂的现象。
王尘张宇超范伟航李世韦张小英林海军连水养朱文章
关键词:脉冲激光沉积
GW/cm^2量级飞秒脉冲倍频的宽谱谐波产生
2017年
使用含镁摩尔分数为5%的掺镁铌酸锂晶体对57.4fs脉冲在1550nm通信波段进行了Ⅰ型(o+o-e)和0型(e+e-e)的倍频对比实验。对于Ⅰ型倍频,在4.3GW/cm^2的峰值功率密度下得到了谱宽为28nm、脉宽为79fs的谐波脉冲,转换效率最高达54%;对于0型倍频,在3.7GW/cm^2的峰值功率密度下得到了谱宽为2.1nm的谐波脉冲,转换效率最高为40%。分别从飞秒脉冲多波长成分的相位匹配(频域)和基波与谐波脉冲的群速度匹配(时域)两个角度,对倍频过程中基波脉冲和谐波脉冲的演变进行了详细分析。发现同时满足多波长成分相位匹配时,传播中谐波的谱宽能维持不变;而仅满足中心波长相位匹配时,谐波光谱则随着传播长度的增加而逐渐变窄。
黄章超张文定林洪沂许英朝沈汉鑫阮剑剑孙栋王衡朱文章
关键词:超快光学飞秒脉冲
双轴向应变对单层GeSe气体传感特性的影响被引量:2
2020年
采用第一性原理计算方法,通过在吸附了H2,H2O,CO,NH3,NO,NO2等气体分子的单层GeSe上施加–8%—8%的双轴向应变,从微观角度阐明应变对吸附体系电子性质的影响及其内在机理.计算结果表明,对于CO,NH3和NO气体分子在–8%—8%,以及NO2分子在–8%—6%的双轴向应变范围内,单层GeSe具备成为气体传感器的应用潜力.较大的压缩应变(–6%—–8%)有助于提高单层GeSe对CO和NO气体的响应速度和敏感性.
卢群林杨伟煌熊飞兵林海峰庄芹芹
关键词:气体传感第一性原理
银/铜双原子MACE法制备单晶黑硅
2020年
本文采用两步Ag/Cu双原子金属辅助化学腐蚀(MACE)法,在25℃和50℃单晶硅表面制备纳米陷光结构。实验探讨了刻蚀时间和Ag/Cu原子的摩尔比对制备的黑硅表面结构形貌和反射率的影响,实验得到Ag/Cu双原子MACE法制备的的黑硅比Ag单原子和Cu单原子MACE法制备的黑硅具有更好的表面抗反射。这是由于Ag/Cu双原子的协同催化腐蚀,使得黑硅表面具有较为均匀分布的横向和竖向共存的复合孔洞结构。研究结果表明,纵横交错的复合孔洞结构具有良好的陷光效果,当Ag/Cu原子摩尔比为1∶5,腐蚀时间为10 min时,黑硅表面的反射率达到最低,为4%以下。而对于重掺硅衬底,Ag/Cu双原子辅助腐蚀得到的黑硅表面孔洞为均匀规整的倒金字塔结构,其反射率达到2%以下。
黄燕华张子启陈松岩张小英
共2页<12>
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