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中微半导体设备(上海)股份有限公司

作品数：1,005 被引量：1H指数：1
相关机构：南昌中微半导体设备有限公司中国电子技术标准化研究院北京北方华创微电子装备有限公司更多>>
相关领域：自动化与计算机技术电子电信金属学及工艺文化科学更多>>

合作机构

文献类型

  • 1,029篇专利
  • 2篇标准
  • 2篇科技成果
  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 128篇自动化与计算...
  • 102篇电子电信
  • 89篇金属学及工艺
  • 87篇文化科学
  • 41篇理学
  • 36篇电气工程
  • 25篇经济管理
  • 18篇一般工业技术
  • 16篇化学工程
  • 9篇交通运输工程
  • 7篇石油与天然气...
  • 7篇建筑科学
  • 6篇机械工程
  • 5篇医药卫生
  • 4篇环境科学与工...
  • 3篇天文地球
  • 2篇航空宇航科学...
  • 1篇矿业工程
  • 1篇动力工程及工...
  • 1篇水利工程

主题

  • 248篇等离子体
  • 208篇刻蚀
  • 156篇基片
  • 142篇晶圆
  • 127篇半导体
  • 122篇气体
  • 94篇等离子
  • 82篇射频
  • 73篇零部件
  • 73篇反应气体
  • 72篇静电
  • 64篇等离子体刻蚀
  • 63篇组件
  • 58篇电极
  • 52篇污染
  • 52篇处理器
  • 46篇真空
  • 46篇射频电源
  • 46篇加热器
  • 38篇射频功率

机构

  • 1,035篇中微半导体设...
  • 19篇南昌中微半导...
  • 2篇中国电子技术...
  • 2篇上海微电子装...
  • 2篇上海芯元基半...
  • 2篇北京北方华创...
  • 1篇北京大学
  • 1篇江苏卓远半导...
  • 1篇东莞市中镓半...
  • 1篇浙江晶盛机电...
  • 1篇中电鹏程智能...

作者

  • 1篇张兴

传媒

  • 1篇半导体技术

年份

  • 223篇2024
  • 239篇2023
  • 170篇2022
  • 218篇2021
  • 103篇2020
  • 82篇2019
共 1,005 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
半导体零部件和等离子处理装置
一种半导体零部件和等离子处理装置，其中，半导体零部件包括：零部件本体；耐腐蚀涂层，其材料包括稀土氧化物或者稀土氟化物，位于所述零部件本体的表面，所述耐腐蚀涂层具有修饰面，所述修饰面具有原子缺陷，所述原子缺陷被填充离子修饰...
孙祥段蛟陈星建
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形成耐等离子体涂层的方法、零部件和等离子体处理装置
一种在零部件上形成耐等离子体涂层的方法、零部件和处理装置，方法包括：提供零部件；对所述零部件进行加热；提供涂覆材料源，所述涂覆材料源包含有机基团、氧原子和金属原子，或者涂覆材料源包含有机基团、氧原子、金属原子和氟原子；向...
段蛟孙祥陈星建
文献传递
一种电容耦合等离子体处理器及其温度调节方法
一种电容耦合等离子体处理器及其温度调节方法，在电容耦合等离子体处理器的反应腔中设置至少一个加热器和至少一个风扇，上电极组件的导电安装板中具有冷却管道，冷却管道中流通着冷却液，当电容耦合等离子体处理器的反应腔内的温度低于设...
杨金全徐朝阳倪图强
一种动态控制气体流动模式的装置及晶圆处理方法和设备
本发明公开了一种动态控制气体流动模式的装置及晶圆处理方法和设备，基于对放置于处理腔室内的晶圆进行等离子处理工艺，装置是在处理腔室内进行气体流通模式调整的气体遮挡环；该装置包含：移动环，其能分别处在第一位置或第二位置或在第...
黄允文李俊良连增迪
等离子体处理装置及其稳定性优化的方法
本发明涉及一种等离子体处理装置及其稳定性优化的方法，在等离子体处理装置的安装基板与气体喷淋头之间形成导电接触层，通过所述导电接触层在气体喷淋头到安装基板之间实现直流连接；所述导电接触层可以承受非常高的射频加载，不存在射频...
涂乐义叶如彬
文献传递
一种静电夹盘及其所在的等离子体处理装置
本发明公开了一种静电夹盘及其所在的等离子体处理装置，本发明所述的静电夹盘包括一基座及设置在所述基座上方的静电夹层，贯穿所述静电夹盘设置若干升举顶针组件，所述组件包括升举顶针、顶针夹持件和升举顶针通道，所述顶针夹持件设置在...
倪图强梁洁涂乐义
一种接地环及等离子体处理装置
本实用新型提供了一种接地环及等离子体处理装置，在接地环上设置连接体，通过调节连接体个数和/或更换不同宽度的连接体和/或调节所述连接体的可分离连接的端部与环体之间的间隙宽度，改善了射频分布，有效的保证了刻蚀速率的均匀性。
王智昊吴磊
文献传递
一种纵长形反应腔体及其化学气相沉积装置
本发明公开了一种纵长形反应腔体及其化学气相沉积装置，该纵长形反应腔体包含：纵长方向延伸的顶壁、底壁和侧壁围绕而成的腔体，腔体两端分别为进气开口和排气开口；腔体内部空间包括进气区域、排气区域和反应区域，各区域沿纵长方向排列...
周楚秦张海龙庞云玲姜勇
等离子体刻蚀设备
本发明提供了一种等离子体刻蚀设备，通过在接地环上设置阻抗调节装置，调节射频回路的阻抗，从而使得当上下电极间距调整时能够相应地调节整个射频回路的阻抗，以维持射频回路的稳定性，获得期望的刻蚀效果。此外，阻抗调节装置可沿着接地...
赵馗王奕善倪图强
等离子体处理装置及其绝缘窗组件
一种等离子体处理装置及其绝缘窗组件，其中，所述等离子体处理装置包括：真空反应腔，其内底部设有基座，所述基座用于承载待处理基片；顶盖，位于所述真空反应腔的顶部，所述顶盖具有若干个贯穿顶盖的开口；绝缘窗槽，位于所述开口内，其...
吴狄连增迪
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