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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室

作品数:266 被引量:1,453H指数:18
相关作者:赵晶丽张忠玉郑宣鸣王旭袁婷更多>>
相关机构:长春理工大学理学院长春理工大学机电工程学院长春理工大学光电工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:机械工程理学电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 262篇期刊文章
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领域

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主题

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  • 16篇光学系统设计
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  • 15篇离轴非球面
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  • 12篇表面改性

机构

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作者

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  • 13篇张建萍
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  • 11篇梁凤超
  • 11篇谢京江

传媒

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  • 1篇机械工程学报
  • 1篇空间科学学报

年份

  • 3篇2023
  • 7篇2022
  • 4篇2021
  • 5篇2020
  • 3篇2019
  • 10篇2018
  • 8篇2017
  • 12篇2016
  • 30篇2015
  • 42篇2014
  • 50篇2013
  • 25篇2012
  • 29篇2011
  • 21篇2010
  • 17篇2009
266 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
曲率对柱面频率选择表面传输特性的影响
2013年
曲面频率选择表面(FSS)部件处于天线的非均匀照射下,容易造成传输特性对角度响应的不稳定。本文通过设计了一种柱面FSS结构,并利用时域有限差分法,研究了分别以圆环型、十字型和Y型单元构成柱面FSS结构下,曲率对其传射特性的影响。结果显示,随着曲率半径的减小,柱面FSS频点向低频漂移,透过率降低,其中以Y型单元的性质相对稳定。
梁凤超汪剑波王佳欢孙贯成
关键词:频率选择表面柱面曲率时域有限差分法
超宽截止边带滤光片研究
2013年
以K9为基底设计了一种超宽截止边带滤光片,即:截止带波长0.5~0.85μm、高透波长0.9~1.3μm,膜层总数为57层,总厚度达6.026μm,工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有TiO2和SiO2,并分别作为高低折射率材料。利用分光光度计对该膜系样品的透过率进行测量,测试结果表明截止区(0.5~0.85μm)的截止深度达5×10-3以下,截止带宽达350 nm,0.9~1.3μm通带内的平均透过率也达到83.14%,除通带短波边缘外,实际样品的光学特性与设计结果基本相符,具有宽截止带深截止度、高通带透过率的特性。环境测试表明:薄膜具有良好的稳定性和牢固度。该边带滤光片可以应用于可靠性要求较高的环境中。
朱华新王彤彤高劲松刘桂林李帅
关键词:光学薄膜滤光片
基于子孔径拼接法测量高精度反射镜被引量:2
2014年
为了解决高精度光学反射镜的子孔径拼接检测问题,基于最小二乘拟合,依据拼接算法建立数学模型,编制了拼接程序,同时对口径为Φ120mm的平面反射镜进行了拼接检测。检测中,基于标记点确定子孔径间的相对位置,完成子孔径间的对准。分别基于全口径检测结果与自检验子孔径测试结果对拼接结果进行精度分析。实验结果表明:拼接结果无"拼痕",拼接结果与全口径测试结果、自检验子孔径测试结果一致;拼接结果与全口径面形测试的PV值与RMS值的偏差分别为0.020λ与0.002λ,验证了检测的可靠性和准确性。
郑立功
关键词:光学检测子孔径拼接最小二乘拟合
光学制造中频残差对光学调制传递函数的影响被引量:9
2015年
为了研究光学表面制造残差对成像系统性能的影响,提出了基于光学系统出瞳位相差的空间频段误差划分方法,推导出了统计意义下的中频(MSF)误差对调制传递函数(MTF)的影响函数解析式,确定了MTF受中频误差影响的特征分辨率.对比低频(LSF)误差与MSF误差影响的区别,MSF误差导致系统调制传递函数从低分辨率处开始迅速下降,并根据中频影响函数解析式得到MSF误差导致MTF曲率突变特征分辨率.
曾雪锋张学军
关键词:光学制造成像模型调制传递函数
利用子孔径拼接法测量大口径凸面反射镜被引量:5
2013年
在简要分析各种检测大口径凸球面方法优缺点的基础上,提出了利用子孔径测量凸面反射镜的新方法,利用干涉仪标准球面波前依次干涉测定大口径镜面上各个区域的相位分布,通过子孔径拼接算法即可求解得到镜面全口径面形信息。对该方法的基本原理和实现步骤进行了分析和研究,建立了大口径拼接检测算法数学模型,设计并研制了大口径反射镜拼接检验装置。结合实例对加工过程中的口径为300mm的碳化硅凸面反射镜进行了9个子孔径的拼接干涉测量,并将检测结果与全口径面形测量结果进行对比,两种方法残差的PV值和RMS值分别为0.102λ和0.009λ(λ=632.8nm)。
王孝坤
关键词:光学检测大口径反射镜面形误差
特定折射率材料及光学薄膜制备被引量:9
2013年
根据太阳电池阵激光防护膜性能优化的需要,应用离子辅助电子束双源共蒸工艺方法制备了优化设计所需的特定折射率的薄膜材料并用于制备激光防护膜。测试结果显示:用该工艺方法制备的掺杂材料薄膜的折射率n=1.75,与优化设计所需数值相符;激光防护膜性能优良,太阳辐射能透过率提高6%以上,实现了对该激光防护膜性能的进一步优化。为了使该双源共蒸方法适于大面积薄膜的制备,应用均匀性挡板技术来提高该方法制备大面积薄膜的膜厚均匀性,使制备的掺杂材料薄膜在口径为400 mm时的不均匀性小于2.1%。该双源共蒸方法制备工艺简单、可靠,适于实际工程应用。薄膜性能测试结果与理论优化结果相符,达到预期优化目标。
申振峰
关键词:折射率掺杂
常压电感耦合等离子体工艺用于加工光学材料的去除函数研究被引量:1
2014年
介绍了使用常压条件下的电感耦合等离子体加工工艺用于加工硅基材料的光学反射镜,诸如:熔石英、反应烧结碳化硅(RB-SiC)、硅等材料。主要研究等离子炬在不同硅基材料上的去除函数的有效性。针对获得去除函数进行高斯函数拟合,其半峰全宽(FWHM)为18mm。去除率分别为10.86,0.82,1.51μm/min。利用此工艺加工了一块100mm口径的碳化硅镜坯,获得的实际面形与虚拟加工面形偏差比在8.57%,收敛率偏差在4.7%。实验结果显示在常压条件下加工大口径非球面反射镜具有良好的去除特性。因此,常压电感耦合等离子体工艺在高精度大口径非球面反射镜加工领域有着广阔的应用前景。
王旭
关键词:光学制造
RBSiC陶瓷素坯连接研究被引量:1
2014年
将碳化硅(Si C)微粉、酚醛树脂和炭黑等均匀混合,配置成连接浆料,真空除泡后连接Si C陶瓷素坯,高温反应烧结后得到反应烧结Si C(RBSi C)连接镜坯。讨论了浆料配方对焊缝显微结构的影响,测试了RBSi C连接坯体的力学性能和线膨胀系数。研究表明:连接浆料中加入聚乙二醇200(PEG200)和聚乙烯醇吡咯烷酮(PVP),能够有效分散炭黑,保证反应烧结过程中炭黑与硅完全反应,无残余碳存在,实现焊缝与基材之间显微结构的一致性;Si C连接坯体素坯和反应烧结后的抗弯强度值分别24.9 MPa和322.9 MPa,而且断裂位置在基材上;在-100~400℃范围内,RBSi C连接坯体与基体线膨胀系数差异仅为0.011 4 ppm。
张舸
关键词:反应烧结碳化硅素坯
计算全息法零位补偿检测自由曲面反射镜
计算全息图(CGH)技术是实现自由曲面光学检测的重要检测手段之一,为了实现一凸自由曲面的高精度面形检测、精确定位和光路对准,使用自行开发的CGH 设计软件,设计完成了同时具有面形检测、检测光路对准和被检自由曲面反射镜定位...
张斌智郑立功
文献传递
纳米碳化硅对浆料流变学及碳化硅性能的影响被引量:4
2014年
研究纳米碳化硅颗粒对凝胶注浆料流变学特性及反应烧结碳化硅性能的影响。利用凝胶注模(gel-casting)成型工艺制备碳化硅素坯,经过脱模、干燥、预烧结和反应烧结等工艺,制备含有纳米碳化硅颗粒的反应烧结碳化硅(RBSC),总结了固含量、球混时间和纳米碳化硅含量对浆料流变学特性的影响机制。实验结果表明:加入纳米碳化硅颗粒后,浆料流变学特性由剪切变稀转变为先剪切增稠后剪切变稀。随着纳米碳化硅的加入,反应烧结碳化硅的力学性能不断提高,当纳米碳化硅颗粒含量达到7%时,反应烧结碳化硅的抗弯强度和弹性模量分别提高到345 MPa和339 GPa,与未加纳米碳化硅颗粒相比,分别增加了18.1%和13.8%。纳米碳化硅的加入改变了浆料的流变学特性,提高了反应烧结碳化硅的力学性能。
王兴包建勋
关键词:流变学特性凝胶注模反应烧结碳化硅
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