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AGC玻璃欧洲公司

作品数：29 被引量：0H指数：0
相关机构：北美AGC平板玻璃公司AGC株式会社旭硝子株式会社更多>>
相关领域：金属学及工艺理学经济管理核科学技术更多>>

合作机构

文献类型

  • 29篇中文专利

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 2篇经济管理
  • 2篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇核科学技术
  • 1篇文化科学

主题

  • 17篇等离子体
  • 15篇等离子
  • 15篇等离子体源
  • 10篇等离子体增强
  • 10篇气相沉积
  • 10篇化学气相
  • 10篇化学气相沉积
  • 6篇电极
  • 5篇阴极
  • 5篇空心阴极
  • 4篇电介质
  • 4篇涂层
  • 4篇介质
  • 3篇天线
  • 3篇天线单元
  • 3篇近红外
  • 3篇近红外光
  • 3篇建筑
  • 3篇建筑用
  • 3篇红外

机构

  • 29篇AGC玻璃欧...
  • 19篇北美AGC平...
  • 15篇AGC株式会...
  • 13篇旭硝子株式会...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2023
  • 4篇2022
  • 2篇2021
  • 5篇2020
  • 2篇2019
  • 6篇2018
  • 1篇2017
  • 5篇2015
  • 1篇2012
  • 1篇2011
共 29 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
通过等离子体增强的化学气相沉积形成涂层的方法
本发明提供了一种通过等离子体增强的化学气相沉积形成涂层的方法。更具体地说，本发明提供了分别产生线性的和二维的等离子体的新颖的线性的和二维的等离子体源，其对增强等离子体的化学气相沉积有用。本发明还提供了生产薄膜涂层的方法和...
P·马诗威茨
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天线单元及窗玻璃
一种天线单元，以与建筑物用的窗玻璃相对的方式设置而使用，天线单元具备：辐射元件；相位控制部件，相对于所述辐射元件位于室外侧，控制从所述辐射元件辐射的电波的相位；及导体，相对于所述辐射元件位于室内侧，所述相位控制部件是具有...
园田龙太堀江昌辉
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天线单元、带天线单元的窗玻璃以及匹配体
一种天线单元，其安装于建筑物用的窗玻璃来使用，其中，该天线单元包括：辐射元件；波导构件，其相对于所述辐射元件位于室外侧；以及导体，其相对于所述辐射元件位于室内侧，在将所述辐射元件与所述波导构件之间的距离设为a、将所述辐射...
堀江昌辉园田龙太高桥幸夫
等离子体源和用等离子体增强的化学气相沉积来沉积薄膜涂层的方法
本发明公开了一种等离子体源和用等离子体增强的化学气相沉积来沉积薄膜涂层的方法，即提供了对薄膜涂覆技术有用的新颖的等离子体源和使用所述等离子体源的方法。更具体地说，本发明提供了分别产生线性的和二维的等离子体的新颖的线性的和...
P·马诗威茨
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通过等离子体增强的化学气相沉积形成涂层的方法
本发明提供了一种通过等离子体增强的化学气相沉积形成涂层的方法。更具体地说，本发明提供了分别产生线性的和二维的等离子体的新颖的线性的和二维的等离子体源，其对增强等离子体的化学气相沉积有用。本发明还提供了生产薄膜涂层的方法和...
P·马诗威茨
文献传递
天线单元、带天线单元的窗玻璃以及匹配体
一种天线单元，其安装于建筑物用的窗玻璃来使用，其中，该天线单元包括：辐射元件；波导构件，其相对于所述辐射元件位于室外侧；以及导体，其相对于所述辐射元件位于室内侧，在将所述辐射元件与所述波导构件之间的距离设为a、将所述辐射...
堀江昌辉园田龙太高桥幸夫
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利用宏粒子减少涂层的等离子体源和将等离子体源用于沉积薄膜涂层和表面改性的方法
本发明通常涉及利用宏粒子减少涂层的等离子体源和使用利用宏粒子减少涂层的等离子体源用于薄膜涂层的沉积和表面的改性的方法。更特别地，本发明涉及包括一个或多个等离子体产生电极的等离子体源，其中宏粒子减少涂层沉积在一个或多个电极...
J·钱伯斯P·马诗威茨Y·林H·约翰逊
薄膜涂层及其制备方法
本发明提供具有改进的光学和红外反射性质的低-E薄膜光学叠层及其制备方法。更具体地，本发明提供金属氧化物薄膜涂层，其显示出比其前身更低的辐射率值，因为在金属氧化物沉积过程中添加氧化剂如强酸如硝酸。本发明还提供提高本文所述的...
C·R·科丁E·蒂克松A·舒茨
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等离子体源和用等离子体增强的化学气相沉积来沉积薄膜涂层的方法
本发明公开了一种等离子体源和用等离子体增强的化学气相沉积来沉积薄膜涂层的方法，即提供了对薄膜涂覆技术有用的新颖的等离子体源和使用所述等离子体源的方法。更具体地说，本发明提供了分别产生线性的和二维的等离子体的新颖的线性的和...
P·马诗威茨
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等离子体源和用等离子体增强的化学气相沉积来沉积薄膜涂层的方法
本发明公开了一种等离子体源和用等离子体增强的化学气相沉积来沉积薄膜涂层的方法，即提供了对薄膜涂覆技术有用的新颖的等离子体源和使用所述等离子体源的方法。更具体地说，本发明提供了分别产生线性的和二维的等离子体的新颖的线性的和...
P·马诗威茨
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