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罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
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2008
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2007
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多孔性抛光垫的锥形化方法
方法通过以下方式形成多孔聚氨基甲酸酯抛光垫:使热塑性聚氨基甲酸酯凝结产生多孔基质,所述多孔基质具有从基底表面向上延伸并且对上表面开放的大孔隙。所述大孔隙与小孔隙互连。加热压机到低于或高于所述热塑性聚氨基甲酸酯的软化起始温...
吉田光一
宫本一隆
川端克昌
H·桑福德-克瑞
H·B·黄
G·C·雅各布
罗水源
文献传递
互相连接的多元件栅格抛光垫
可用来在抛光介质(120)的存在下对磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种(112)进行抛光的抛光垫(104)。所述抛光垫(104)包括大量抛光元件(402,502,602,702)。所述抛光元件(402,502,6...
江波
G·P·马尔多尼
文献传递
具有端点窗口的抛光垫
一种用于化学机械抛光的抛光垫,其包括具有顶部抛光表面的多孔抛光层;位于顶部抛光表面对面的子垫,该子垫具有底部子垫表面;以及窗口,用于将信号波通过所述抛光垫传输到待抛光的衬底并通过该抛光垫返回以进行端点检测,该窗口具有顶部...
苏于中
H·金
化学机械抛光组合物和方法
化学机械抛光组合物和方法。提供了一种化学机械抛光组合物,所述化学机械抛光组合物基本上由作为初始组分的下述物质组成:水;0.01-0.5wt%的唑抑制剂;0.01-0.5wt%的络合剂;0-1.0wt%的卤化铵;0.01—...
王红雨
D·莫斯利
文献传递
具有增强的缺陷抑制的抛光组合物和抛光衬底的方法
一种含水碱性化学机械抛光组合物,其包含具有芳香族基团的季鏻化合物,该季鏻化合物使能够实现氧化硅衬底上的增强的缺陷减少,并使能够在化学机械抛光期间实现良好的氧化硅去除速率。该化学机械抛光组合物是稳定的。
郭毅
聚氨酯抛光垫
一种适合用来对半导体、光学和磁性基片中的至少一种进行平整化的抛光垫。该抛光垫包含由预聚物多元醇和多官能异氰酸酯的预聚物反应生成的异氰酸酯封端的反应产物形成的浇铸聚氨酯聚合材料。异氰酸酯封端的反应产物包含4.5-8.7重量...
M·J·库尔普
文献传递
聚氨酯抛光垫
一种适合用来对半导体、光学和磁性基片中的至少一种进行平整化的抛光垫。该抛光垫包含由预聚物多元醇和多官能异氰酸酯的预聚物反应生成的异氰酸酯封端的反应产物形成的浇铸聚氨酯聚合材料。异氰酸酯封端的反应产物包含4.5-8.7重量...
M·J·库尔普
文献传递
薄膜氟聚合物复合CMP抛光垫
本发明提供了一种聚合物‑聚合物复合抛光垫,其包括抛光层,所述抛光层具有用于抛光或平坦化基底的抛光表面。聚合物基质形成所述抛光层。氟聚合物颗粒嵌入所述聚合物基质中。其中金刚石磨料材料切割所述氟聚合物颗粒并且在图案化的硅晶片...
M·T·伊斯兰
邱南荣
M·R·加丁科
Y·朴
G·S·布莱克曼
L·张
G·C·雅各布
文献传递
用于化学机械抛光含有钌和铜的衬底的方法
一种用于化学机械抛光包含钌和铜的衬底的方法。
H·王
L·M·库克
J-F·王
C-H·曹
用于化学机械抛光硅晶片的方法
提供了一种抛光硅晶片的方法,该方法包括:提供硅晶片;提供抛光垫,所述抛光垫具有抛光层,所述抛光层是包括以下物质的原料组分的反应产物:多官能异氰酸酯;以及固化剂包装;所述固化剂包装包含胺引发的多元醇固化剂以及高分子量多元醇...
板井康行
B·钱
中野裕之
D·B·詹姆斯
河井奈绪子
川端克昌
吉田光一
宫本一隆
J·穆奈恩
叶逢蓟
M·W·迪格鲁特
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