国家高技术研究发展计划(2002AA404150) 作品数:5 被引量:27 H指数:2 相关作者: 陈迪 孙洪文 刘景全 伊福廷 彭良强 更多>> 相关机构: 上海交通大学 中国科学院 河海大学 更多>> 发文基金: 国家高技术研究发展计划 上海市科学技术委员会资助项目 上海市科委重大科技攻关项目 更多>> 相关领域: 电子电信 自动化与计算机技术 金属学及工艺 更多>>
BSRF上的微细塑铸研究 2003年 利用北京同步辐射装置 (BSRF)上的LIGA技术制作了镍模具 ,试验了溶液浇铸、反应浇铸、大气模压、真空模压四种不同的塑铸方法。结果表明采用自制模压装置 ,采用排气法可以获得与真空模压相近的效果 ;真空模压在这四种方法中具有最好的精度 ,但若不进行工艺参数优化 。 韩勇 彭良强 陈迪 伊福廷 张菊芳 黄军容关键词:BSRF 同步辐射装置 利用背面曝光技术制造大高宽比SU8结构的一种新方法(英文) 被引量:1 2004年 提出了一种解决大高宽比 SU 8结构的新方法 .该方法是将 SU 8胶涂在一块掩模上 ,紫外光从掩模的背面照射 ,这样 SU 8胶的曝光将从底部开始 ,不需要进行过曝光来保证底部胶的曝光剂量 ,从而很容易控制曝光剂量和SU 8胶结构的内应力 .实验结果表明 ,该方法能够得到高宽比为 32的 SU 8结构 ,而文献报道的 SU 8胶结构的高宽比最大仅为 伊福廷 缪鹏 彭良强 张菊芳 韩勇关键词:MEMS 微加工 低温纳米压印技术制备微纳图案的研究 被引量:3 2008年 纳米压印需要将聚合物加热到它的玻璃化温度以上,然后用印章压印使其复制印章图案。采用低玻璃化温度的SU-8 2000.1和Hybrane胶体转移图案,能够在低温、甚至室温下实现微纳图案的转移。采用的印章制备方法是聚焦离子束(FIB)直接在衬底上制备图案,从而避免了传统工艺中效率较慢的电子束加工和取消了反应离子刻蚀步骤;并且采用FIB方法可同时在衬底上制备微米、纳米尺度的图案。实验结果表明用FIB方法可以得到比较均匀致密的微纳米图案印章,经过低温纳米压印后可成功地实现微纳图案的复制。 孙洪文 刘景全 陈迪关键词:纳米压印 聚焦离子束 超厚SU-8负胶高深宽比结构及工艺研究 被引量:21 2005年 采用新型SU-8光刻胶在UV-LIGA技术基础上制备了各种高深宽比MEMS微结构,研究了热处理和曝光两个重要因素对高深宽比微结构的影响,解决了微结构的开裂和倒塌等问题;优化了SU-8胶工艺,从而获得了最大深宽比为27:1的微结构。 张金娅 陈迪 朱军 李建华 方华斌 杨斌关键词:UV-LIGA技术 SU-8胶 LIGA技术、准LIGA微加工技术及其应用 LIGA技术是微机电系统(MEMS)的一种重要的微加工技术,介绍了LIGA、准LIGA技术的基本工艺、特点,以及在光学和光通讯、生命科学和医学、化学、微机械等领域中的应用。 陈迪 蔡炳初关键词:LIGA技术 文献传递 正交法对DEM技术中模压工艺的优化研究 被引量:2 2004年 DEM(Deepetching,Electroforming,Microreplication)技术是一种三维微细加工技术,由深刻蚀、微电铸和微复制三种工艺组成。其中微复制常采用模压工艺,而模压工艺具有许多参数,为了确定主要影响因素和最佳工艺条件,首次用正交实验方法对模压工艺进行优化。用镍模具对聚碳酸酯(PC)进行模压,得到影响因素主次为:模压温度>施加压力>加力速度>加力时间,优化参数为:模压温度180℃,压力3000N,加压速度0 2mm/min,力维持时间120s。用得到的优化参数进行实验得到了最佳的实验结果,由此证明了此方法的可行性。 孙洪文 刘景全 陈迪 顾盼关键词:DEM技术 模压 正交实验