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国家自然科学基金(60202008)

作品数：1 被引量：2H指数：1
相关作者：谢宽仲王芸徐东卞建江龙沪强更多>>
相关机构：上海大学上海交通大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇刻蚀
  • 1篇反应离子
  • 1篇反应离子刻蚀

机构

  • 1篇上海交通大学
  • 1篇上海大学

作者

  • 1篇蔡炳初
  • 1篇侯中宇
  • 1篇龙沪强
  • 1篇卞建江
  • 1篇徐东
  • 1篇王芸
  • 1篇谢宽仲

传媒

  • 1篇压电与声光

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
基于金刚石薄膜的微间隙室制备被引量：2
2006年
采用金刚石薄膜作为阴-阳极间绝缘介质层是一种新型的微间隙室（MGC）结构。该文详细介绍和讨论了采用常规的微细加工工艺制备基于金刚石薄膜介质层的MGC的制备技术，其典型结构为阳极微条宽20μm，微条间隔180μm，器件探测区面积为38mm×34mm。采用热丝CVD法制备的金刚石薄膜作为阴-阳极间绝缘介质层，厚7～8μm，具有（100）晶面结构。金刚石的刻蚀采用反应离子刻蚀，Cr作掩膜，O2和SF6为刻蚀气体，刻蚀速率为79nm／min，与Cr的刻蚀比约为20：1。实验结果表明，采用的微加工结合自套准工艺可很好地解决金刚石薄膜的制备、图形化及金属阳极电极与金刚石薄膜的相互套准等金刚石薄膜的可加工性及兼容性问题，并制备出采用金刚石薄膜作为电极间绝缘介质层的新型MGC结构。
王芸龙沪强侯中宇徐东谢宽仲蔡炳初卞建江
关键词：金刚石薄膜反应离子刻蚀
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