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国家自然科学基金(60878040)

作品数:11 被引量:15H指数:3
相关作者:于威傅广生王新占路万兵李晓苇更多>>
相关机构:河北大学更多>>
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文献类型

  • 11篇中文期刊文章

领域

  • 7篇理学
  • 3篇电子电信
  • 2篇机械工程
  • 1篇经济管理
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇光致
  • 3篇光致发光
  • 3篇发光
  • 2篇等离激元
  • 2篇退火
  • 2篇微结构
  • 2篇纳米硅
  • 2篇薄膜微结构
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硅
  • 1篇等离子体增强
  • 1篇低温退火
  • 1篇电池
  • 1篇电感耦合
  • 1篇电感耦合等离...
  • 1篇多晶
  • 1篇多晶硅
  • 1篇多晶硅薄膜
  • 1篇形貌
  • 1篇衍射

机构

  • 9篇河北大学

作者

  • 9篇于威
  • 4篇王新占
  • 4篇傅广生
  • 3篇李晓苇
  • 3篇路万兵
  • 3篇刘建苹
  • 2篇丁文革
  • 2篇赖伟东
  • 2篇郑燕
  • 2篇刘海旭
  • 1篇孟令海
  • 1篇杨彦斌
  • 1篇韩理
  • 1篇刘玉梅
  • 1篇詹小舟
  • 1篇卢海江
  • 1篇徐艳梅
  • 1篇李彬
  • 1篇赵一
  • 1篇李云

传媒

  • 3篇光谱学与光谱...
  • 2篇功能材料
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇光子学报
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇Chines...
  • 1篇Scienc...
  • 1篇应用物理

年份

  • 1篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2013
  • 4篇2012
  • 2篇2011
  • 1篇2010
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
氢稀释对纳米晶硅薄膜晶化特性的影响及薄膜生长机理被引量:3
2012年
以SiH4与H2作为前驱气体,采用射频等离子增强化学气相沉积技术制备了纳米晶硅薄膜.利用Raman散射和红外吸收光谱等技术,对不同氢稀释比条件下薄膜的微观结构和键合特性进行了研究.结果表明,随着氢稀释比增加,薄膜的晶化率明显提高,而氢稀释比过高时,薄膜晶化率呈现减少趋势.红外吸收光谱分析表明,纳米晶硅薄膜中氢的键合模式与薄膜的晶化特性密切相关.随着氢稀释比增加,薄膜中整体氢含量和SiH2键合密度明显减少,而在高氢稀释比条件下,氢稀释比增加导致薄膜中SiH2键合密度和整体氢含量增加.
于威詹小舟李彬徐艳梅李晓苇傅广生
关键词:晶化率
氢钝化对低温沉积nc-SiO_x/SiO_2多层薄膜发光特性影响机制研究
2015年
采用等离子体增强化学气相沉积技术实现了nc-SiO_x/SiO_2多层结构薄膜在220℃的低温沉积,并对其450℃N_2+H_2形成气体退火前后的微结构及其发光特性进行了研究。结果表明,直接沉积的纳米硅多层薄膜未观察到较明显的室温发光,而形成气体退火后样品出现峰值位于780 nm附近较强的光致发光,归因于活性氢能有效钝化纳米硅表面悬键,提高了材料的发光强度。结合瞬态发光谱分析,采用量子限制-发光中心模型可以合理解释纳米硅多层结构的发光特性。
郑燕李云王新占刘建苹张瑜于威赖伟东任丽坤
关键词:光致发光
偏振激光诱导的薄膜表面周期性自组织结构
2010年
本文研究了激光诱导的周期性表面结构(LIPSS)在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜表面的形成过程。在导电玻璃衬底上制备得到PMMA薄膜,经p偏振的XeCl准分子激光照射后形成周期性的褶皱结构。用原子力显微镜(AFM)观察发现,形成的褶皱结构周期具有纳米量级,且当引入外加电场时,褶皱形成所需的激光脉冲数减少到2。当外加电压增加到30V时,褶皱的周期间隔明显减小,LIPSS变得不可控,出现了柱状的自组织结构。与直接用准分子激光照射的薄膜样品相比,外加辅助电压的引入改变了PMMA样品表面褶皱结构形成的时间和周期大小,褶皱形成的内部驱动力也发生了变化。
于威卞雅兰张力郑炯
关键词:XECL准分子激光形貌
氧掺入对纳米硅薄膜微结构及能带特性的影响
2015年
采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制备了富硅氧化硅薄膜,利用XRD衍射仪,傅里叶变换红外透射光谱仪以及紫外-可见光分光光度计分析了氧掺入对薄膜微观结构以及能带特性的影响。结果表明,随着氧掺入比(CO2/SiH4)的增加,薄膜晶粒尺寸减小,晶化度降低,纳米硅(nc-Si)表面的张应力先增加后减小。红外吸收谱分析表明,氧掺入比增加导致薄膜内氧含量增高,富氧Si—O键合密度增加,富硅Si—O键合密度降低。同时,薄膜结构因子减小,有序度增大,薄膜微观结构得到改善。当氧掺入比大于0.08时,薄膜结构因子增大,有序度降低。此外,氧掺入增加导致薄膜带隙不断增加,带尾宽度呈现先减小后增大的趋势。因此,通过氧掺入可以调节纳米硅薄膜微观结构及能带特性,氧掺入比为0.08时,薄膜具有高晶化度和较宽的带隙,微观结构得到有效改善,可用作薄膜太阳能电池的本征层。
蒋昭毅于威刘建苹刘海旭尹辰辰丁文革
关键词:X射线衍射谱光吸收谱
镶嵌有纳米硅的SiN_x薄膜光致发光的温度依赖特性研究
2016年
采用对靶磁控溅射法在单晶硅衬底上沉积镶嵌有纳米硅的氮化硅薄膜,然后在形成气体FG(10%H2,90%N2)气氛中进行450℃常规热退火50min。通过荧光光谱仪测得的稳态/瞬态光致发光(PL)谱研究了镶嵌有纳米硅的氮化硅(SiNx)薄膜样品光致发光特性。结果表明,样品的发光过程可以归因于纳米硅的量子限制效应发光和与缺陷相关的发光。随着激发光能量的增加,PL谱峰位发生蓝移,表明较小粒度的纳米硅发光比例增加;温度的降低会抑制非辐射复合过程,提高辐射复合几率,因此发光寿命延长,发光强度呈指数增加;随着探测波长的减小,样品的发光寿命则明显缩短,表明纳米硅的量子限制效应发光对温度有很强的依赖性。
刘建苹郑燕刘海旭于威丁文革赖伟东
关键词:光致发光
热退火诱导纳米银膜形貌变化对表面等离激元共振特性的影响被引量:1
2013年
采用磁控溅射技术制备并通过不同温度的快速热退火得到了不同表面形貌的纳米银膜。利用XRD,SEM和紫外-可见-近红外透射光谱等技术研究了纳米银膜的结构、表面形貌与光学性质。实验结果表明,随着退火温度的升高,银膜开口面积分数、银岛(纳米粒子)间距增大,长宽比减小,银岛由各向异性的蠕虫状变成各向同性的纳米球;表面等离激元共振带发生连续的蓝移,半高宽变窄。分析表明,纳米银膜的表面等离激元共振特性可以通过热退火诱导的表面形貌变化实现调整。
于威刘玉梅戴万雷王新占路万兵李晓苇傅广生
关键词:纳米银膜表面等离激元表面形貌快速热退火
氢稀释对纳米晶硅薄膜微结构的影响被引量:5
2011年
采用电感耦合等离子体化学气相沉积技术制备了氢化纳米硅薄膜,利用Raman散射、X射线衍射、红外吸收等技术对不同氢稀释条件下薄膜的微观结构和键合特性变化进行了研究。结果表明,较高的氢稀释比导致薄膜从非晶硅到纳米晶硅的结构转化,随着氢稀释比的增加,所沉积薄膜的晶化度及纳米晶硅的晶粒尺寸单调增加,纳米硅颗粒呈现在(110)方向的择优生长趋势。键合特性分析显示,随氢稀释比增加,薄膜中整体键合氢含量减小,而SiH2键合比例呈现显著增加趋势,该结果反映了氢原子刻蚀和纳米硅界面面积比的同时增强。光学吸收谱分析表明,通过改变反应气体的氢稀释比,可实现从1.72~1.84eV光学带隙可调的纳米硅薄膜制备。
于威卢海江路万兵孟令海王新占韩理傅广生
关键词:电感耦合等离子体
Photoresponse and carrier transport of protocrystalline silicon multilayer films
2012年
Alternating multilayer films of hydrogen diluted hydrogenated protocrystalline silicon (pc-Si:H) were prepared using a plasma-enhanced chemical vapor deposition technique.The microstructure of the deposited films and photoresponse characteristics of their Schottky diode structures were investigated by Raman scattering spectroscopy,Fourier transform infrared spectroscopy and photocurrent spectra.Microstructure and optical absorption analyses suggest that the prepared films were pc-Si:H multilayer films with a two-phase structure of silicon nanocrystals (NCs) and its amorphous counterpart and the band gap of the films showed a decreasing trend with increasing crystalline fraction.Photocurrent measurement revealed that silicon NCs facilitate the spatial separation of photo-generated carriers,effectively reduce the non-radiative recombination rate,and induce a photoresponse peak value shift towards the short-wavelength side with increasing crystallinity.However,the carrier traps near the surface defects of silicon NCs and their spatial carrier confinement result in a significant reduction of the diode photoresponse in the longwavelength region.An enhancement of the photoresponse from 350 to 1000 nm was observed when applying an increased bias voltage in the diode,showing a favorable carrier transport and an effective collection of photo-generated carriers was achieved.Both the spatial separation of the restricted electron-hole pairs in silicon NCs and the de-trapping of the carriers at their interface defects are responsible for the red-shift in photoresponse spectra and enhancement of external quantum efficiency.The results provide fundamental data for the carrier transport control of high-efficiency pc-Si:H solar cells.
YU WeiZHU HaiRongZHAO YiSUN YuKaiLU HaiJiangFU GuangSheng
关键词:光响应硅膜傅里叶变换红外光谱硅纳米晶体光生载流子
Structural and band tail state photoluminescence properties of amorphous SiC films with different amounts of carbon被引量:3
2012年
Amorphous silicon carbide films are deposited by the plasma enhanced chemical vapour deposition technique,and optical emissions from the near-infrared to the visible are obtained.The optical band gap of the films increases from 1.91 eV to 2.92 eV by increasing the carbon content,and the photoluminescence(PL) peak shifts from 1.51 eV to 2.16 eV.The band tail state PL mechanism is confirmed by analysing the optical band gap,PL intensity,the Stocks shift of the PL,and the Urbach energy of the film.The PL decay times of the samples are in the nanosecond scale,and the dependence of the PL lifetime on the emission energy also supports that the optical emission is related to the radiative recombination in the band tail state.
傅广生王新占路万兵戴万雷李兴阔于威
关键词:光致发光特性SIC薄膜等离子体增强
多晶硅薄膜的铝诱导晶化法制备及其晶粒的择优取向特性被引量:3
2012年
采用铝诱导非晶硅薄膜晶化技术制备了多晶硅薄膜,并研究了多晶硅的成核和生长特性。非晶硅薄膜采用等离子体增强化学气相沉积法制备,其表面沉积铝薄膜后经不同温度的氮氛围退火处理。结果表明,退火后的硅薄膜层与铝层发生置换,所生长的多晶硅颗粒的平均尺寸约为150nm。X射线衍射分析结果揭示,薄膜的晶向显著依赖于退火温度,较低温度下,铝诱导晶化速率较慢,薄膜的优化晶向与非晶硅薄膜中团簇的初始原子排列趋势紧密相关。而较高温度下,铝诱导晶化促使多晶硅(111)择优成核及随后的固相生长。
于威郭亚平杨彦斌郭少刚赵一傅广生
关键词:多晶硅薄膜低温退火
共2页<12>
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