江苏省高校自然科学研究项目(11KJB430002)
- 作品数：3 被引量：4H指数：1
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- 相关领域：电子电信金属学及工艺更多>>
- 离子替换对BMN基焦绿石陶瓷性能的影响
- 2012年
- 采用固相法制备BiLiMg(NbxMx)O系BMN基陶瓷样品。分别研究了Zr4+离子、Sn4+离子和Ti 4+离子替代Nb5+离子对BMN陶瓷性能的影响。结果表明,Zr4+离子、Sn4+离子和Ti 4+离子替代量较小时,相结构为单一焦绿石结构。随着Zr4+离子、Sn4+离子替代量的增加,样品中空隙增多;Ti 4+离子替代量将直接影响样品中晶粒的生长方向,对样品中空隙影响不明显。介电性能方面,不同替换离子介电性能最佳状态出现在不同替换量的情况下(m为比例系数):在Zr4+离子替换量为2m时,介电常数为177.4177,介电损耗为0.00034;Sn4+离子替代量为1m时,介电常数为174.9671,介电损耗为0.00038;Ti 4+离子替代量为4m时,介电常数为188.4959,介电损耗为0.00027。
- 花银群崔晓刘海霞黄新友
- 关键词：固相法介电常数介电损耗
- 磁控溅射参数及基片材料对铜薄膜结合强度的影响被引量：3
- 2013年
- 采用不同的溅射工艺参数及基片材料制备了铜薄膜,用划痕法测试了薄膜结合强度,研究了溅射功率、溅射气压、溅射时间、基片温度及基片材料对铜薄膜结合强度的影响。结果表明,在功率85W,溅射气压1.5 Pa,时间30 min,基片温度150℃的条件下,薄膜结合强度为26.9 N。与硅片相比,玻璃表面的铜薄膜具有更高的结合强度。
- 陈瑞芳倪泽炎花银群薛青
- 关键词：铜薄膜直流磁控溅射
- 基于磁控溅射制备的纳米铜薄膜的激光微冲击试验被引量：1
- 2013年
- 应用激光微冲击强化处理技术,对不同磁控溅射参数下制备的纳米铜薄膜进行了强化处理,并对其表面形貌、硬度、弹性模量进行了测试和分析.结果表明:纳米铜薄膜经激光微冲击处理后,SEM显示薄膜表层的铜晶粒发生了明显的塑性形变,在厚度方向上被压平,晶粒边界处的细小空隙被填充,表面变得致密,颗粒尺寸明显增大.在每组试样的冲击区和非冲击区进行了多组纳米压痕试验,以确定冲击后铜薄膜力学性能的变化.经测试,各组试样冲击处理的条件不同,薄膜力学性能变化有所差异;硬度最小的也增加了38.84%,硬度增加最大的达到106.58%;弹性模量最小提高了14.62%,弹性模量最大提高了134.82%.
- 刘海霞叶云霞薛青陈瑞芳花银群
- 关键词：激光冲击磁控溅射显微硬度
