吉林省科技发展计划基金(20080122)
- 作品数:6 被引量:12H指数:2
- 相关作者:梁静秋梁中翥郑娜王维彪贾晓鹏更多>>
- 相关机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院中国科学院研究生院更多>>
- 发文基金:吉林省科技发展计划基金国家自然科学基金中国科学院知识创新工程领域前沿项目更多>>
- 相关领域:理学化学工程更多>>
- 吸收辐射复合金刚石膜的制备及光学研究被引量:1
- 2009年
- 采用微波等离子体化学气相沉积(MW-PCVD)和直流热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积(DC-PCVD)两种方法相结合,制备出一种吸收辐射的复合金刚石膜,它对宽光谱范围的光辐射具有99%—99.2%的吸收率,同时具有较低的反射率和透过率.随着黑色吸收辐射金刚石层厚度的增加,复合金刚石膜的热导率将小幅度降低,但黑色金刚石膜层厚度小于15μm时,复合金刚石膜的热导率都在16W.cm-1.K-1以上,这满足吸收辐射复合金刚石膜的高导热需求.用热阴极DC-PCVD方法制备的黑色吸收辐射金刚石膜层在1500—1600cm-1范围和1350cm-1处出现了对应于非金刚石碳相的宽带拉曼峰.随着甲烷浓度的增加,金刚石膜中会出现更多的非金刚石碳相成分,即石墨等非金刚石碳相在金刚石膜中富集,复合金刚石膜的透光性也越来越差.黑色吸收辐射金刚石层直接沉积在高纯金刚石片上,具有较高热导率和吸收率,并且该复合膜背面具有绝缘性.
- 梁中翥梁静秋郑娜姜志刚王维彪方伟
- 关键词:光学材料金刚石热导率
- 辐射探测芯片吸收膜理论设计及镍磷黑膜制备被引量:2
- 2010年
- 对新型条形辐射探测芯片的吸收膜层进行了理论分析,并且在金刚石材质的探测芯片上采用电镀方法制备了镍磷黑吸收膜.辐射探测芯片的膜层吸收分析表明,芯片吸收膜层的吸收率正比于表面粗糙度.通过对辐射吸收膜层设计与制作工艺的研究,制备出一种用于条形辐射探测芯片的镍磷黑吸收膜,通过测量其表面形貌结构,表明该膜层具有50nm—1.5μm范围的微结构;红外吸收测试表明其吸收率在1.4—8μm波段为0.989以上,从而提高了辐射探测芯片的性能.
- 李亚楠梁中翥梁静秋郑娜方伟王维彪禹秉熙
- 关键词:金刚石
- 掺氮金刚石的光学吸收与氮杂质含量的分析研究被引量:5
- 2009年
- 研究了金刚石光学特性与氮杂质及其含量的关系,从传统的金刚石氮含量标定方法出发,修正了金刚石氮含量的计算方法,并且用添加叠氮化钠的原料在六面顶压机上进行了高氮含量金刚石的制备研究.随着体系中叠氮化钠的添加,金刚石红外吸收谱在800—1400cm-1范围的吸收强度相对于基线不断升高,这表明金刚石中存在的氮含量在随着叠氮化钠添加而升高,金刚石在单声子区域吸收强度大大增强.用含叠氮化钠的原料制备的金刚石呈现绿色、墨绿色甚至黑色,颜色的深浅依赖于叠氮化钠添加的多少.傅里叶红外光谱测试结果表明,用含叠氮化钠的原料制备的金刚石的氮含量要远远高于普通制备金刚石的氮含量,氮含量升高到1450—1600ppm.氮杂质元素的增多将不利于金刚石的光谱透过性,然而这种掺杂金刚石可以作为某些波段的多功能吸收辐射材料.
- 梁中翥梁静秋郑娜贾晓鹏李桂菊
- 关键词:金刚石光学材料红外
- 栅极调制纳米线的场发射特性被引量:1
- 2009年
- 建立一个理想的带栅极纳米线模型,利用静电场理论计算出纳米线顶端电场增强因子,进一步分析了栅孔半径以及栅极电压等参数对电场增强因子和纳米线顶端表面电流密度的影响。结果表明,在加较大的栅极电压的情况下栅孔半径越小,电场增强因子就越大,且随着栅极电压的增加电场增强因子近似地线性增加;而当栅极电压等于零(或接近于零)时栅孔对纳米线表面电场的屏蔽效应较显著,栅孔半径越大,电场增强因子反而越大;电流密度在纳米线顶端边缘处最大,而且随着栅极电压的增加而呈指数增加。
- 雷达王维彪曾乐勇梁静秋
- 纯铁触媒添加叠氮化钠合成高氮含量金刚石
- 2009年
- 氮元素是天然金刚石和人工合成金刚石中最主要的杂质。为了能够合成出与天然金刚石相同程度含氮量的金刚石,采用含添加剂叠氮化钠(NaN3)的纯铁粉末触媒和石墨在六面顶压机上进行合成研究。用傅立叶变换显微红外光谱仪对金刚石晶体中的氮含量进行细致的测试。结果表明,用含添加剂NaN3的纯铁粉末触媒合成的金刚石中以单一替代形式(Ib)存在的氮杂质最高浓度达到了2200μg/g,这远远超过了迄今为止报道的用传统的金属触媒生长的具有完整晶形的金刚石中氮的最高含量800μg/g,氮含量达到天然金刚石相同量级;当NaN3的含量小于0.7%时,金刚石中氮含量随着NaN3的含量增加而增加。
- 梁中翥贾晓鹏梁静秋
- 关键词:氮化物金刚石
- 光辐射吸收材料表面形貌与吸收率关系研究被引量:3
- 2011年
- 光辐射吸收材料不同的表面形貌对入射光具有不同的多重反射吸收效果,对光辐射的吸收有较大的影响,合适的表面形貌可以提高光辐射有效吸收率.本文通过光线追迹的方法对V形表面、正弦表面、具有正态倾角(平均倾角)分布的表面以及具有正态高度分布的表面进行模拟,分析了这四种表面对光辐射吸收率的提升效果及其入射角特性.通过倾角分布分析,得出不同表面形貌提升吸收率共同的必要条件,即倾角中心分布至少大于30°,并指出V形表面在正入射时对吸收率提升的优越性.
- 苏法刚梁静秋梁中翥朱万彬
- 关键词:表面形貌吸收率