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黑龙江省教育厅资助项目(11511270)
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郭永峰
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2006
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利用AFM和碱溶液在单晶硅表面微加工及其电化学机理
2006年
用AFM在单晶硅片(100)表面上加工出一微结构表面,而且加工过程中单晶硅的表面生成很薄的二氧化硅保护层,使其置于氢氧化钾溶液中刻蚀加工可得到微结构(长×宽:10μm×10μm)。加工过程中利用二氧化硅和单晶硅与氢氧化钾溶液化学反应速率的不同,以及单晶硅不同晶面与氢氧化钾溶液反应速率的各向异性达到加工目的,并应用化学键理论—能带理论对在KOH水溶液中加工反应的机理进行了分析。
袁福龙
郭永峰
梁迎春
李丽
闫永达
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单晶硅
微结构
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