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广东省自然科学基金(8451064101000257)

作品数:6 被引量:16H指数:3
相关作者:刘玉荣徐海红姚若河虞佳乐王智欣更多>>
相关机构:华南理工大学汕尾职业技术学院更多>>
发文基金:广东省自然科学基金国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
相关领域:电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 8篇电子电信
  • 1篇化学工程

主题

  • 5篇晶体管
  • 4篇稳定性
  • 4篇薄膜晶体
  • 4篇薄膜晶体管
  • 3篇场效应
  • 2篇电特性
  • 2篇性能研究
  • 2篇氧化锌
  • 2篇氧化锌薄膜
  • 2篇迁移率
  • 2篇噻吩
  • 2篇己基
  • 2篇场效应迁移率
  • 1篇低工作电压
  • 1篇钝化
  • 1篇修饰
  • 1篇栅介质
  • 1篇退火
  • 1篇退火温度
  • 1篇迁移

机构

  • 7篇华南理工大学
  • 1篇汕尾职业技术...

作者

  • 7篇刘玉荣
  • 4篇姚若河
  • 3篇温智超
  • 3篇任力飞
  • 2篇徐海红
  • 2篇游晓梅
  • 1篇王聪
  • 1篇黄美浅
  • 1篇王智欣
  • 1篇苏晶
  • 1篇彭俊彪
  • 1篇虞佳乐
  • 1篇廖荣
  • 1篇李星活
  • 1篇陈伟
  • 1篇韩静
  • 1篇许佳雄
  • 1篇左青云
  • 1篇杨任花

传媒

  • 3篇华南理工大学...
  • 2篇物理学报
  • 1篇Chines...
  • 1篇广东省真空学...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 4篇2010
  • 1篇2009
6 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
高迁移率聚合物薄膜晶体管被引量:6
2009年
以高掺杂Si单晶片作为栅电极,热生长SiO2作为栅介质层,聚三己基噻吩薄膜作为半导体活性层,Au作为源、漏电极,并采用十八烷基三氯硅烷(OTS)对栅介质表面改性,在空气环境下成功地制备出高性能聚合物薄膜晶体管.结果表明,通过采用OTS对栅介质层表面修饰大幅度地改善了聚合物薄膜晶体管的电性能,器件的场效应迁移率高达0.02cm2/(Vs),开关电流比大于105.
刘玉荣王智欣虞佳乐徐海红
关键词:场效应迁移率表面修饰
低工作电压聚噻吩薄膜晶体管被引量:1
2010年
以高掺杂Si单晶片作为衬底且充当栅电极,采用磁控溅射法在硅片上沉积HfTiO薄膜作为栅介质层,聚三己基噻吩(P3HT)薄膜作为半导体活性层,金属Au作为源、漏电极,并采用十八烷基三氯硅烷(OTS)对栅介质层表面修饰,在空气环境下成功地制备出聚合物薄膜晶体管(PTFT).PTFT器件测试结果表明,该晶体管在低的驱动电压(<-1V)下仍呈现出良好的饱和行为,其阈值电压和有效场效应迁移率分别为0.4V和2.2×10-2cm2/V·s.通过对金属-聚合物-氧化物层-硅半导体(MPOS)结构电容器的电容-电压(C-V)特性测试发现,MPOS电容器的电容呈现出明显的频率依赖性和C-V迟滞现象,对其产生的物理机理进行了讨论.
刘玉荣陈伟廖荣
关键词:场效应迁移率高K栅介质
聚3-己基噻吩聚合物薄膜晶体管的稳定性被引量:4
2010年
为提高聚合物薄膜晶体管的稳定性,以单晶硅为衬底,二氧化硅为栅介质层,聚3-己基噻吩(P3HT)薄膜为半导体活性层,金属Au为源、漏电极,制备出聚合物薄膜晶体管(PTFT),对该器件的电特性进行了表征,研究了该器件在空气环境下的稳定性,并对该器件在空气中的不稳定性机理进行了讨论.结果表明:当器件暴露在空气中时,随着暴露时间的增加,器件的饱和漏电流明显增大,阈值电压逐渐增加;空气中的水是影响器件特性的主要因素;通过采用光刻胶钝化处理可以有效地改善P3HT-PTFT器件在空气中的稳定性,并使器件的载流子迁移率提高3倍.
刘玉荣左青云彭俊彪黄美浅
关键词:薄膜晶体管稳定性钝化
氧化锌薄膜晶体管的光诱导不稳定性被引量:1
2013年
为促进氧化锌薄膜晶体管(ZnO-TFT)在有源驱动平板显示领域中的实际应用,以高纯氧化锌(ZnO)为靶材,采用射频磁控溅射法沉积ZnO薄膜作为半导体活性层,制备出ZnO-TFT,研究了可见光诱导引起的器件特性的不稳定性.实验结果表明:在可见光照射下,该ZnO-TFT器件呈现出一定程度的不稳定性;随着光照强度的增加,迁移率稍有增大,阈值电压有微弱的减小;漏电流的相对变化量受栅电压控制,即在开态时相对变化量较小,对于2210 lx的照射强度,相对变化量的最小值为0.58,而在亚阈值区和关态时,漏电流受光照强度的影响较大,在相同强度的光照射下相对变化量的最大值为36.29.对可见光诱导不稳定性恢复过程的研究发现,光照关断后的恢复过程相对缓慢,且随时间呈现出先快后慢的现象.
王聪刘玉荣李星活苏晶姚若河
关键词:薄膜晶体管氧化锌光诱导稳定性
氧化锌薄膜晶体管的制备及其性能研究
单晶片作为衬底且充当栅电极,在衬底上热生长二氧化硅薄膜作为栅介质层,磁控溅射制备的氧化锌薄膜作为半导体活性层,真空蒸镀铝作为源、漏电极,成功地制备出底栅顶接触型氧化锌薄膜晶体管(ZnO TFT).该薄膜晶体管呈现出较好的...
刘玉荣任力飞温智超扬任花游晓梅洪浩高姚若河
关键词:场效应晶体管氧化锌薄膜电特性稳定性
退火温度对ZnO薄膜晶体管电特性的影响被引量:5
2011年
针对非晶硅和有机薄膜晶体管的低迁移率问题,以高纯Zn为靶材,反应磁控溅射沉积、且在不同温度下退火的ZnO薄膜作为半导体活性层,成功地制备出基于ZnO材料的薄膜晶体管(ZnO-TFT),研究了退火温度对ZnO-TFT电特性的影响.结果表明:ZnO-TFT的载流子迁移率随退火温度的升高而明显增大,700℃退火的样品迁移率为8.00cm2/(V.s),阈值电压随退火温度的升高而明显减小,在较高温度下退火处理制备的ZnO-TFT呈现出较低的关态电流.结合X射线衍射谱、原子力显微镜和X射线光电子能谱对ZnO薄膜的微结构及组分的分析,发现ZnO-TFT性能随退火温度升高的改善来源于退火温度的升高使ZnO薄膜的晶粒尺寸增大且更均匀、外形更规整、表面更光滑,氧含量更少.
刘玉荣任力飞杨任花韩静姚若河温智超徐海红许佳雄
关键词:薄膜晶体管氧化锌电特性退火温度
氧化锌薄膜晶体管的制备及其性能研究
以硅单晶片作为衬底且充当栅电极,在衬底上热生长二氧化硅薄膜作为栅介质层,磁控溅射制备的氧化锌薄膜作为半导体活性层,真空蒸镀铝作为源、漏电极,成功地制备出底栅顶接触型氧化锌薄膜晶体管(ZnO TFT)。该薄膜晶体管呈现出较...
刘玉荣任力飞温智超扬任花游晓梅洪浩高姚若河
关键词:薄膜晶体管氧化锌薄膜稳定性
High-photosensitivity polymer thin-film transistors based on poly(3-hexylthiophene)被引量:1
2012年
Polymer thin-film transistors (PTFTs) based on poly(3-hexylthiophene) are fabricated by the spin-coating process, and their photo-sensing characteristics are investigated under steady-state visible-light illumination. The photosensitivity of the device is strongly modulated by gate voltage under various illuminations. When the device is in the subthreshold operating mode, a significant increase in its drain current is observed with a maximum photosensitivity of 1.7×10^3 at an illumination intensity of 1200 lx, and even with a relatively high photosensitivity of 611 at a low illumination intensity of 100 lx. However, when the device is in the on-state operating mode, the photosensitivity is very low: only 1.88 at an illumination intensity of 1200 lx for a gate voltage of -20 V and a drain voltage of -20 V. The results indicate that the devices could be used as photo-detectors or sensors in the range of visible light. The modulation mechanism of the photosensitivity in the PTFT is discussed in detail.
刘玉荣黎沛涛姚若河
关键词:PHOTOSENSITIVITYPHOTOTRANSISTOR
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