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山东省自然科学基金(ZR2010EM018)

作品数:7 被引量:20H指数:3
相关作者:赵程郑少梅王宇牛强王世国更多>>
相关机构:青岛科技大学青岛理工大学更多>>
发文基金:山东省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术天文地球更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 6篇金属学及工艺
  • 1篇天文地球
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 5篇奥氏体
  • 5篇奥氏体不锈钢
  • 5篇不锈
  • 5篇不锈钢
  • 3篇耐蚀
  • 3篇耐蚀性
  • 2篇渗氮
  • 2篇渗碳
  • 2篇离子渗
  • 2篇离子渗氮
  • 2篇活性屏离子渗...
  • 1篇低温离子
  • 1篇电压
  • 1篇压强
  • 1篇硬化层
  • 1篇渗氮层
  • 1篇渗碳气氛
  • 1篇偏压
  • 1篇气体
  • 1篇炉内

机构

  • 7篇青岛科技大学
  • 2篇青岛理工大学

作者

  • 7篇赵程
  • 3篇郑少梅
  • 3篇王宇
  • 1篇江亮
  • 1篇罗厚杉
  • 1篇蓝跃龙
  • 1篇杜威
  • 1篇王世国
  • 1篇牛强

传媒

  • 2篇金属热处理
  • 2篇材料热处理学...
  • 1篇青岛科技大学...
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇青岛理工大学...

年份

  • 1篇2015
  • 3篇2012
  • 3篇2011
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
SUS201奥氏体不锈钢表面低温盐浴硬化处理被引量:1
2011年
为了提高奥氏体不锈钢的表面硬度,在不降低不锈钢耐蚀性的前提下,采用盐浴氮碳共渗技术对SUS 201奥氏体不锈钢表面进行低温硬化处理,对不同处理温度和处理时间下硬化层的组织和性能进行研究。结果表明,处理温度和处理时间对硬化层的组织结构和性能都有很大的影响,只有在正确的工艺条件下,才能获得无氮(碳)化合物析出的硬化层,表面硬度可达1000HV0.025以上,而且还能提高不锈钢表面的耐蚀性能。
罗厚杉赵程江亮
关键词:硬化层耐蚀性能
AISI 201奥氏体不锈钢低温离子渗碳被引量:5
2012年
利用低温等离子体辉光放电技术对AISI 201奥氏体不锈钢进行低温离子渗碳(DCPC)处理,处理后的不锈钢表面可以形成一层无碳化铬析出的碳的过饱和固溶体(SC相)。由于渗入钢中的过饱和碳原子引起奥氏体晶格发生畸变,结果使渗层的硬度和耐蚀性都有较大幅度的提高。
赵程王宇
关键词:S相耐蚀性
渗碳气氛对奥氏体不锈钢低温离子渗碳的影响被引量:1
2015年
奥氏体不锈钢低温离子渗碳处理是一种能在不降低耐蚀性能的前提下显著提高其表面硬度的有效方法。本文研究了奥氏体不锈钢低温离子渗碳气体比例及炉内压强对渗碳层硬度及厚度的影响。试验结果表明,炉内气体比例及压强对渗碳层硬度及厚度都有较大的影响。当氢气与甲烷比例为(20~30)∶1、气体压强为400 Pa时,渗碳层的硬度最高,硬化层最厚。
王世国杜威牛强赵程
关键词:奥氏体不锈钢
渗碳气体对201奥氏体不锈钢低温离子渗碳效果的影响被引量:2
2012年
用不同的渗碳气体对201奥氏体不锈钢进行了低温离子渗碳(DCPC)处理。实验证明,甲烷和乙炔均可在不锈钢表面形成一层无碳化铬析出的碳的过饱和固溶体(Sc相),使其表面的硬度和耐蚀性均有较大幅度的提高。但用甲烷作为渗碳气体处理的不锈钢表面有一层黑膜,破坏了不锈钢原有的光泽;而用乙炔作为渗碳气体不仅可以获得较为光亮的表面色泽,同时其硬度和耐蚀性也有进一步的提高。
王宇赵程
关键词:耐蚀性
奥氏体不锈钢活性屏离子渗碳机理的研究被引量:3
2011年
分别采用活性屏离子渗碳和直流离子渗碳工艺对奥氏体不锈钢进行了渗碳处理.试验结果表明,活性屏离子渗碳可以获得与普通直流离子渗碳同样的处理效果,在奥氏体不锈钢表面获得单一的Sc相组织,从而显著提高奥氏体不锈钢的硬度和耐磨性能,并能克服直流离子渗碳工艺中的不足.收集活性屏上溅射下来的粒子进行分析,结果表明这些纳米级粒子主要是中性的Fe3C和Fe2C5,它们是活性屏渗碳过程中活性碳原子的载体.通过对活性屏离子渗碳机理的探讨,认为和活性屏离子渗氮的机理相似,也是一个溅射—吸附—脱附的过程.
郑少梅赵程
关键词:奥氏体不锈钢
偏压对活性屏离子渗氮工艺的影响被引量:8
2011年
通过对40C钢进行活性屏离子渗氮处理,研究了在活性屏离子渗氮工艺过程中工件所加的偏压对渗氮层的影响。试验结果表明,在不加偏压或偏压较低的情况下,对距离活性屏较近的工件,其表面有一定厚度的渗氮层形成,硬度提高;而距离活性屏较远的工件,其表面几乎没有渗氮层的形成,但当增大偏压至400~450 V时,工件表面产生弱的辉光放电,距离活性屏较远的工件表面也有渗氮层形成。通过控制偏压值,可以使工件表面形成厚度均匀的渗氮层,提高工件硬度;同时也可以避免直流离子渗氮过程中产生的打弧、边缘效应等问题。
郑少梅赵程
关键词:活性屏离子渗氮偏压渗氮层辉光放电
活性屏离子渗氮技术中偏压电源伏安特性被引量:1
2012年
研究了活性屏离子渗氮技术中,气体成分、主电压、温度、压强以及笼子尺寸对偏压伏安特性曲线的影响,并用气体放电理论对曲线做出了解释。实验结果表明,在H2或N2/H2气氛中,偏压的伏安特性曲线呈线性增长;而在纯N2气氛中,偏压的伏安特性曲线则呈非线性,并在250 V时出现拐点。研究还发现,在偏压一定的情况下,偏流会随着主电压和气压的升高而增大,随着温度的升高而减小,而笼子尺寸对偏压的伏安特性曲线的影响比较小。
蓝跃龙王宇郑少梅赵程
关键词:活性屏离子渗氮
共1页<1>
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