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灌水量对有机基质栽培黄瓜生长及氮素利用的影响被引量：10: 2012年; 为提高有机基质栽培水分精细化管理水平,采用醋糟基质为黄瓜栽培基质,以‘碧玉2号’黄瓜为材料,在控制灌水量(T)分别为基质最大质量含水率的40%≤T1<55%、55%≤T2<70%、70%≤T3<85%和85%≤T4<100%的条件下,研究了不同灌溉水平处理对黄瓜植株生长、干物质积累、光合作用能力、产量、水分及氮素生产率的影响。结果表明:随着灌水量的增加黄瓜产量增加但水分利用效率下降,T4灌溉处理产量最高但其水分利用效率最低,T1处理水分利用效率最高但其产量最小;T2,T3和T4处理间叶片氮质量分数差异不显著,根系氮素质量分数间差异也不显著,T1处理果实氮素质量分数显著高于其他处理,而茎、叶氮素质量分数又显著低于其他处理,不同灌溉水平处理对有机基质栽培黄瓜氮素产量生产效率影响不显著。该文研究结果可为有机基质栽培的水分精确化管理提供技术支持和依据。; 赵青松李萍萍郑洪倩王纪章徐云峰林英; 关键词：氮素黄瓜有机基质栽培

温室水果黄瓜叶片扩展及干物质再分配动态模拟模型被引量：5: 2011年; 以荷兰"碧玉"水果黄瓜为试材,建立叶片扩展与累积生长度日之间的关系模型,研究基于器官发育模型的干物质再分配过程,确定了不同植株叶龄、不同位置的叶片获得干物质量模拟模型,并对所构建的干物质再分配模型进行了验证分析。结果表明:叶龄为41、3和20叶龄器官干物质重模拟值和测量值之间的均方差误差RMSE分别为0.0090、.011和0.107,模型模拟结果与试验观测值具有较好的一致性,模型达到了一定的可靠性和准确性。; 周静王纪章李萍萍赵青松; 关键词：温室黄瓜

工厂化黄瓜穴盘育苗昼温适应性被引量：4: 2011年; 在人工气候室内以黄瓜穴盘苗为材料,测定不同昼温处理下(昼温分别为30℃、27℃、24℃、21℃、18℃、15℃,夜温均为15℃)黄瓜幼苗下胚轴长、下胚轴粗、第一叶片和第二叶片的长和宽、地上部和地下部干物质积累量、叶片含水率及叶片的叶绿素荧光特性,并用主成分分析法和聚类分析法对不同昼温处理下的黄瓜穴盘苗质量进行分析.结果表明:不同昼温处理下黄瓜穴盘苗各生长指标存在显著性差异,幼苗质量的昼温反应表现为24℃>21℃>27℃>30℃>18℃>15℃;通过主成分分析和系统聚类可以把各温度处理分为:最适温度处理(24℃/15℃)、适宜温度处理(21℃/15℃)和不适宜温度处理3类;不适宜温度处理又可分为高温抑制类(27℃/15℃,30℃/15℃)和低温抑制类(15℃/15℃,18℃/15℃)2类.; 赵青松李萍萍王纪章胡永光高蓓; 关键词：黄瓜穴盘苗主成分分析

不同灌水下限对黄瓜穴盘苗生长及生理指标的影响被引量：33: 2011年; 为了给黄瓜工厂化穴盘育苗适宜灌溉下限指标提供参考,该文采用醋糟基质为穴盘育苗基质,以‘津优1号’黄瓜为材料,研究了以基部供水为灌水方式,不同灌水下限处理对黄瓜穴盘苗干物质积累、根系活力、光合能力及叶绿素荧光参数的影响。共设4个处理,灌水下限分别为基质饱和含水率的65%、55%、45%、35%。结果表明,以相对含水率55%作为灌水下限的黄瓜穴盘苗干物质积累量、主根长、根系活力,光合能力均显著高于其他处理,相对含水率为45%的下限处理处理次之,在基质相对含水率为45%～55%的下限处理范围内,有利于黄瓜穴盘苗生长,可以作为以醋糟为基质的黄瓜穴盘育苗的灌溉下限指标。; 赵青松李萍萍王纪章高蓓; 关键词：灌水光合能力黄瓜穴盘苗

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江苏省农业科技支撑计划项目(BK2010347)