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国家自然科学基金(60776040)

作品数:3 被引量:7H指数:1
相关作者:李俊周帆张志林蒋雪茵张小文更多>>
相关机构:上海大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划中国博士后科学基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学

主题

  • 2篇晶体管
  • 2篇溅射
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体管器件
  • 1篇绝缘
  • 1篇绝缘层
  • 1篇绝缘层厚度
  • 1篇反应溅射
  • 1篇薄膜晶体
  • 1篇薄膜晶体管
  • 1篇SCLC
  • 1篇SIO
  • 1篇SIOX
  • 1篇TA
  • 1篇TA2O5
  • 1篇DOPING
  • 1篇表面形貌
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇X

机构

  • 2篇上海大学

作者

  • 2篇蒋雪茵
  • 2篇张志林
  • 2篇周帆
  • 2篇李俊
  • 1篇俞东斌
  • 1篇张良
  • 1篇林华平
  • 1篇张小文
  • 1篇张建华

传媒

  • 2篇发光学报
  • 1篇Journa...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2009
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
用反应溅射法沉积SiO_x绝缘层的InGaZnO-TFT的光照稳定性(英文)
2012年
制备了基于反应溅射SiOx绝缘层的InGaZnO-TFT,并系统地研究了InGaZnO-TFT在白光照射下的稳定性,主要涉及到光照、负偏压、正偏压、光照负偏压和光照正偏压5种情况。结果表明,器件在光照和负偏压光照下的阈值偏移较大,而在正偏压光照情况下的阈值偏移几乎可以忽略。采用C-V方法证明阈值电压漂移是源于绝缘层/有源层附近及界面处的缺陷。另外,采用指数模式计算了缺陷态的弛豫时间。本研究的目的就是揭示InGaZnO-TFT在白光照射和偏压下的不稳定的原因。
李俊周帆张建华蒋雪茵张志林
关键词:薄膜晶体管
Estimation of electron mobility of n-doped 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline using space-charge-limited currents
2009年
The electron mobilities of 4, 7-diphenyl-1, 10-phenanthroline (BPhen) doped 8-hydroxyquinolinatolithium (Liq) at various thicknesses (50-300 nm) have been estimated by using space-charge-limited current measurements. It is observed that the electron mobility of 33 wt% Liq doped BPhen approaches its true value when the thickness is more than 200 rim. The electron mobility of 33 wt% Liq doped BPhen at 300 nm is found to be -5.2 × 10^-3 cm^2/(V.s) (at 0.3 MV/cm) with weak dependence on electric field, which is about one order of magnitude higher than that of pristine BPhen (3.4 × 10^-4 cm^2/(V.s)) measured by SCLC. For the typical thickness of organic light-emitting devices, the electron mobility of doped BPhen is also investigated.
希扎尔.乌尔.哈克鲁富翰蒋雪茵张志林张小文张良李俊
关键词:DOPINGSCLC
Ta_2O_5绝缘层厚度对ZnO基薄膜晶体管器件性能的影响(英文)被引量:7
2011年
报道了不同厚度Ta2O5栅绝缘层对氧化锌薄膜晶体管器件性能的影响。在室温下用射频磁控溅射分别制备了100,85,60,40 nm厚度的Ta2O5薄膜作为绝缘层的一组底栅氧化锌薄膜晶体管器件。从实验结果可以得出如下结论:随着Ta2O5栅绝缘层厚度的增加,相应器件的场效应迁移率下降,其数值分别是50.5,59.3,63.8,71.2 cm2/V.s,对应100,85,60,40 nm厚度的绝缘层。从原子力显微图像可以看到,Ta2O5薄膜表面粗糙度随着薄膜厚度的减小而降低,这是场效应迁移率得以提高的主要原因。而100,85,60,40 nm不同厚度的绝缘层相应器件的开关电流比分别是1.2×105,4.8×105,3.2×104,7.2×103,其阈值电压分别为1.9,1.5,1.2,0.9 V。从各项性能综合考虑,85 nm厚度的Ta2O5栅绝缘层所制备的薄膜晶体管器件具有最佳性能。
周帆张良李俊张小文林华平俞东斌蒋雪茵张志林
关键词:TA2O5绝缘层磁控溅射表面形貌
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