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国家科技重大专项(GFZX02001080322)

作品数：1 被引量：2H指数：1
相关作者：李秀龙张杨徐清兰张蓉竹更多>>
相关机构：中国科学院四川大学更多>>
发文基金：国家科技重大专项更多>>
相关领域：轻工技术与工程更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇轻工技术与工...

主题

  • 1篇偏心
  • 1篇偏心距
  • 1篇平面研磨
  • 1篇去除函数
  • 1篇轴式
  • 1篇摆幅

机构

  • 1篇四川大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇张蓉竹
  • 1篇徐清兰
  • 1篇张杨
  • 1篇李秀龙

传媒

  • 1篇光学技术

年份

  • 1篇2013
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
双轴式研磨抛光中抛光盘相对位置对去除量的影响研究被引量：2
2013年
为了了解在抛光过程中抛光盘位置对光学元件面形的影响,对一种双轴式平面研磨抛光运动过程进行了分析。从Preston方程出发,推导了去除函数的表达式,研究了抛光盘的摆幅及偏心距离对元件的去除量分布的影响。通过定量计算得知,在加工转速不变的情况下,增大抛光盘的摆幅,元件不同圆周上的去除量也不同。增大偏心距,元件的去除量增大,不论抛光盘相对元件的位置如何改变,回转中心的去除量总是最大。
张杨李秀龙徐清兰张蓉竹
关键词：平面研磨去除函数偏心距
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共1页<1>
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