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国家自然科学基金(61240015)

作品数:4 被引量:1H指数:1
相关作者:王新中李世国于广辉张春晓严帅更多>>
相关机构:深圳信息职业技术学院中国科学院哈尔滨工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金广东省自然科学基金深圳市科技计划项目更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 3篇纳米
  • 3篇纳米线
  • 2篇氮化镓
  • 2篇线阵列
  • 2篇纳米线阵列
  • 2篇GAN
  • 1篇电场
  • 1篇电子束光刻
  • 1篇液固
  • 1篇图形衬底
  • 1篇气体辅助
  • 1篇气相沉积
  • 1篇气相外延
  • 1篇氢化物气相外...
  • 1篇蓝宝
  • 1篇蓝宝石
  • 1篇蓝宝石图形衬...
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇光刻

机构

  • 4篇深圳信息职业...
  • 3篇中国科学院
  • 1篇哈尔滨工业大...

作者

  • 4篇王新中
  • 3篇于广辉
  • 3篇李世国
  • 1篇韩杰才
  • 1篇崔林
  • 1篇张春晓
  • 1篇汪桂根
  • 1篇秦国双
  • 1篇严帅

传媒

  • 2篇半导体技术
  • 1篇光电子.激光
  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 1篇2015
  • 2篇2014
  • 1篇2013
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
HCl气体辅助生长GaN纳米线阵列与机理研究
2014年
研究了一种无金属催化剂生长GaN纳米线阵列的方法。通过HCl气体作为催化剂,利用氢化物气相外延(HVPE)系统在GaN/sapphire模板上制备出纯净的GaN纳米线阵列;利用扫描电镜(SEM)、能量分散X射线荧光(EDX)谱和透射电镜(TEM)测试,研究了生长条件的变化对GaN纳米线阵列的影响,分析了GaN纳米线阵列的生长过程并探索了其生长机理,为GaN纳米线阵列的可控生长提供了理论依据。
王新中于广辉李世国
关键词:纳米线
GaN纳米线阵列的电子场发射研究
2015年
基于HCl辅助热蒸发GaN粉末的方法制备了纯净的一维GaN纳米线垂直阵列,重点研究了不同生长时间对应不同形貌的GaN纳米结构的电子场发射性能,以及氨气氛围下热退火对GaN纳米线阵列场发射性能的影响,并分析了其影响机理。通过对生长时间分别为20 min,60 min(未退火处理)与60 min(退火处理)的三组样品进行对比,结果显示:生长时间为60 min(未退火处理)的样品,电流密度达到1μA/cm2时的开启电场的值为2.1 V/μm,且获得1 m A/cm2的阈值电流密度也只需要4.5 V/μm的电场。
王新中于广辉李世国
关键词:氮化镓纳米线场发射电场
GaN纳米线生长的影响因素与机理分析被引量:1
2014年
基于气液固(VLS)反应机制,采用厚度为2~3nm的金属镍作为催化剂,金属镓和氨气分别用作Ⅲ族和Ⅴ族的生长源,在自行改造的化学气相沉积(CVD)设备内获得了大面积GaN纳米线。通过扫描电镜(SEM)、能量分散X射线荧光(EDX)谱和透射电镜(TEM)测试,表明GaN纳米线的成核及生长与反应室气路结构有密切关系,水平弯管式气路将有利于GaN纳米线的生长。此外,生长气流将直接影响GaN纳米线的生长状况,生长温度为920℃、NH3和N2的气流量分别为100和500cm^3/min时,可以获得形貌较好的纳米线。同时,探索了Ga源与样品位置间的距离对纳米线中Ga和N的质量分数的影响,并分析了其影响机理。
王新中于广辉李世国张春晓
关键词:氮化镓纳米线
高效大功率LED用蓝宝石图形衬底的制备
2013年
首先在蓝宝石衬底上旋涂PMMA/copolymer双层胶,然后再进行电子束光刻处理,随后溅射铝膜,并结合剥离技术,从而制备图形化金属铝膜;最后再采用两步热处理法,使图形铝膜发生固相外延反应。在此过程中,侧重于电子束光刻和高温热处理的工艺优化研究。SEM测试结果表明,图形化铝膜在450℃低温氧化热处理24 h后,其图形形貌没有发生明显改变;在温度低于1200℃的高温热处理1 h后,图形仍然存在。HRXRD分析表明,图形化铝膜在450℃低温热处理24 h后再在1000℃高温热处理1 h,可在蓝宝石衬底上形成氧化铝外延薄膜;并且相比于基片,氧化铝外延薄膜的结晶质量还有所提高。本方法成功实现了高效大功率用LED蓝宝石图形衬底的制备。
汪桂根崔林韩杰才王新中严帅秦国双
关键词:蓝宝石图形衬底电子束光刻发光二极管
共1页<1>
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