您的位置: 专家智库 > >

山东省优秀中青年科学家科研奖励基金(2006BSB01447)

作品数:6 被引量:25H指数:2
相关作者:季燕菊付刚王凤翔秦希峰赵优美更多>>
相关机构:山东建筑大学山东师范大学山东大学更多>>
发文基金:山东省优秀中青年科学家科研奖励基金山东建筑大学校内基金山东省自然科学基金更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 6篇理学

主题

  • 3篇离子注入
  • 2篇密度泛函
  • 2篇密度泛函理论
  • 2篇泛函
  • 2篇泛函理论
  • 1篇第一性原理
  • 1篇第一性原理研...
  • 1篇电子结构
  • 1篇射程
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇射频磁控溅射...
  • 1篇射线衍射
  • 1篇碳化硅
  • 1篇体硅
  • 1篇子结构
  • 1篇密度泛函理论...
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体硅
  • 1篇几何构型

机构

  • 6篇山东建筑大学
  • 1篇山东大学
  • 1篇山东师范大学

作者

  • 5篇季燕菊
  • 4篇王凤翔
  • 4篇付刚
  • 3篇赵优美
  • 3篇秦希峰
  • 2篇刘小村
  • 2篇赵俊卿
  • 1篇孙兆鹏
  • 1篇季艳菊
  • 1篇董和磊
  • 1篇刘立强
  • 1篇李爽
  • 1篇梁毅

传媒

  • 3篇山东建筑大学...
  • 1篇物理学报
  • 1篇临沂师范学院...
  • 1篇济南大学学报...

年份

  • 3篇2010
  • 3篇2009
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
钕离子注入硅晶体的横向离散研究
2009年
利用离子注入技术掺杂制作光电子器件时,需要了解离子注入材料的射程分布、射程离散和横向离散.介绍了用400 keV能量的Nd离子分别垂直和倾斜60o角注入两块相同的Si晶体样品中,利用卢瑟福背散射技术研究了400 keV,5×1015 ions/cm2 Nd离子注入Si晶体的横向射程离散.测出的实验值和TRIM’98得到的理论模拟值进行了比较,发现实验值跟TRIM’98模拟计算的理论值能较好地符合.
秦希峰季燕菊王凤翔付刚赵优美
关键词:离子注入
射频磁控溅射制备ZnO光波导薄膜被引量:12
2010年
采用射频磁控溅射技术在石英玻璃上制备出了具有高度c轴择优取向的ZnO薄膜。利用X射线衍射(XRD)、背散射分析(RBS)、棱镜耦合等技术对其结构、光波导性质进行研究,结果表明减小溅射压强有利于提高薄膜的结晶质量,增强薄膜的c轴择优取向。溅射压强越小,薄膜越厚,薄膜的有效折射率越接近晶体材料的折射率。
李爽王凤翔付刚季艳菊赵俊卿
关键词:ZNO薄膜射频磁控溅射X射线衍射
C_(10)H_(18)N_2O_4Pt结构和性质的密度泛函理论研究被引量:1
2009年
C10H18N2O4Pt是奥沙利铂的一种新型的衍生物。采用密度泛函理论DFT-B3LYP方法研究C10H18N2O4Pt的全优化构型、电子结构和IR谱;6-31++G**基组用于计算非金属原子,金属原子则采用赝势基组lanl2dz计算。分析了红外振动频率并以0.96为频率校正因子对频率进行修正。根据计算可知,分子中N16和N20原子有强的亲核活性,Pt19原子有强的亲电活性,得到了C10H18N2O4Pt分子的HOMO轨道图和IR谱。这些为进一步研究C10H18N2O4Pt提供了理论依据。
刘小村季燕菊
关键词:密度泛函理论奥沙利铂几何构型
铒离子注入晶体硅的射程分布和离散研究
2009年
用400 keV能量的铒离子垂直注入晶体硅(Si)样品中。利用卢瑟福背散射技术研究了能量为400 keV、剂量为5×1015ions/cm2的铒离子注入Si晶体的平均投影射程、射程离散和深度分布。测出的实验值和TRIM 98得到的理论模拟值进行了比较,发现实验值跟TRIM 98模拟计算的理论值符合较好。
秦希峰季燕菊王凤翔付刚赵优美
关键词:离子注入
铒离子注入碳化硅后的射程分布和射程离散
2010年
鉴于利用离子注入技术掺杂制作光电集成器件时,离子注入半导体材料的射程分布、射程离散和横向离散对器件性能的影响,应用卢瑟福背散射技术研究将剂量为5×1015cm-2的400 keV能量的Er+离子注入6H-SiC晶体的平均投影射程、射程离散和深度分布。用SRIM2006模拟软件对能量为400 keV的Er+离子注入SiC晶体的深度分布进行了理论模拟,把理论模拟值跟测出的实验值进行比较,发现两者符合较好,从而为今后利用Er+离子注入SiC晶体掺杂制作光电集成器件提供参考依据。
秦希峰季燕菊王凤翔付刚赵优美梁毅
关键词:离子注入6H-SIC
In掺杂ZnO电子结构的第一性原理研究被引量:12
2010年
采用第一性原理平面波超软赝势,计算了纤锌矿ZnO和不同掺杂量下In掺杂ZnO晶体的能带结构、态密度和分波态密度.计算表明,In的掺杂导致ZnO禁带宽度变窄.随着掺杂量的增大,InxZn1-xO的导带底和价带顶同时下降,但是导带底比价带顶下降得多,这导致了带隙的变窄.此外,In掺杂使晶胞晶格常数增大,这对带隙的变窄也有一定作用.
刘小村季燕菊赵俊卿刘立强孙兆鹏董和磊
关键词:密度泛函理论电子结构
共1页<1>
聚类工具0